一种DUV用掩模版无接触卸载保护膜的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种DUV用掩模版无接触卸载保护膜的装置，包括基座以及位于基座同一侧的支撑块、第一驱动组件、滑块、螺杆、第二驱动组件以及加热件。本申请提供的上述方案，首先将掩模版放置到基座上的支撑块上，然后通过第一驱动组件带动滑块运动到预设位置后停止，转动螺杆，以使得螺杆插入到保护膜膜框上的插孔内；随后通过加热件加热保护膜膜框，当保护膜膜框与掩模版之间的胶软化后，停止加热，最后通过第二驱动组件带动第一驱动组件沿第二方向运动，从而就可以通过螺杆带动保护膜膜框沿第二方向运动，以使得保护膜膜框与掩模版分离，进而使得保护膜膜框中的保护膜与掩模版分离。整体卸载自动化程度高，有效避免了手部与掩模版的直接接触。掩模版的直接接触。掩模版的直接接触。

【技术实现步骤摘要】
一种DUV用掩模版无接触卸载保护膜的装置


[0001]本实用掩模版
，尤其涉及一种DUV用掩模版无接触卸载保护膜的装置。

技术介绍

[0002]掩模版是一种由表面记载着图形、文字等信息的金属层薄膜或光阻层薄膜，材质为高纯度融石英或其它材质的玻璃载板组合而成模具。DUV(Deep Ultraviolet Lithography)是指深紫外光，掩模版行业主要指193nm的ArF和248nm的KrF的激光。
[0003]作为掩模版上的一层保护膜(pcllicle)，其主要是贴附在掩模版表面，使其不受微尘污染。当保护膜贴附在掩模版上时，使用过程中受污或者破损后，就需要卸载无法使用的保护膜。
[0004]目前卸载保护膜的手段主要包括：人工撬膜，即直接用手抵住膜框撬膜；或者高端卸载膜设备。然而由于人工操作风险高，存在膜框回弹损坏掩模版风险，而且人工操作难清洗，当手部在掩模版上操作时，会导致掩模版上残留有手印，不好清洗。

技术实现思路

[0005]针对上述现有技术中的问题，本技术提供一种DUV用掩模版无接触卸载保护膜的装置，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种DUV用掩模版无接触卸载保护膜的装置，其特征在于，包括基座(1)以及位于所述基座(1)同一侧的支撑块(3)、第一驱动组件(4)、滑块(5)、螺杆(501)、第二驱动组件(6)以及加热件；所述支撑块(3)设置在所述基座(1)上，用于支撑掩模版，两个所述第一驱动组件(4)对应设置在所述基座(1)的相对侧上，所述滑块(5)滑动连接在所述第一驱动组件(4)上，所述第一驱动组件(4)用于带动所述滑块(5)沿第一方向运动，所述螺杆(501)转动连接在所述滑块(5)上，所述第二驱动组件(6)设置在所述基座(1)上，且所述第二驱动组件(6)与所述第一驱动组件(4)连接，用于带动所述第一驱动组件(4)沿第二方向运动，其中，第二方向与第一方向垂直；所述加热件设置在所述基座(1)上，用于加热保护膜膜框。2.根据权利要求1所述的DUV用掩模版无接触卸载保护膜的装置，其特征在于，所述第一驱动组件(4)包括第一直线导轨，所述第一直线导轨包括第一电机、第一丝杆、第一丝杆螺母以及第一滑轨；所述第一滑轨沿第一方向连接在两个所述第二驱动组件(6)之间，所述滑块(5)与所述第一滑轨滑动连接，所述第一电机设置在所述第一滑轨上，所述第一电机的输出轴与所述第一丝杆连接，所述第一丝杆螺母螺纹连接在所述第一丝杆上，且所述第一丝杆螺母与所述滑块(5)连接。3.根据权利要求2所述的DUV用掩模版无接触卸载保护膜的装置，其特征在于，所述第二驱动组件(6)包括第二直线导轨，所述第二直线导轨包括第二电机、第二丝杆、第二丝杆螺母以及第二滑轨；两个所述第二滑轨沿第二方向设置在所述基座(1)上，所述第一滑轨设置在两个所述第二滑轨之间，且所述第一滑轨的两端对应位于两个所述第二滑轨上的滑槽内；所述第二电机设置在...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑祺弘，孙世强，
申请(专利权)人：深圳市龙图光罩股份有限公司，
类型：新型
国别省市：