供气单元及供气装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够使载气（吹扫气体）顺利通过且能够缩小设置有多个开闭阀的块的宽度的供气单元。在供气单元中，阀室（２４）沿流路块（２０）的长度方向以预定的间隔设于流路块（２０）的顶面（２０ａ），连接流路（２６）与阀室（２４）的大致中央连接并向背离顶面（２０ａ）的方向延伸。载气流路（２１）形成为比连接流路（２６）粗，且沿流路块（２０）的长度方向直线状延伸，并且设置于偏离虚拟平面Ｆ的部分处，其中，虚拟平面在宽度方向上将流路块（２０）二等分。处理气体流路（２２）在与顶面（２０ａ）相反侧的底面（２０ｂ）开口，且在流路块（２０）中通过从虚拟平面Ｆ偏向与载气流路（２１）相反一侧的部分后与阀室（２４）连接。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及种使多种气体切换流通的供气单元及供气装置。
技术介绍
目前，在用于半导体制造工序等的供气单元中，为了抑制由于载气流路的截面积 变化所引起的气压的急剧变化，使载气流路的截面形状和截面积在整个流路上基本保持一 定(例如，参照专利文献1)。参照图6 8对专利文献1所记载结构的进行说明。图6是供气单元的平面图， 图7是图6的7-7线的截面图，图8是图6的8-8线的截面图。在上述供气单元311中，在载气输入端口 321s和载气输出端口 321e之间形成有 一条载气流路321，在各阀块320A 320D中形成有处理气体流路322，该处理气体流路322 连通处理气体输入端口 322s和载气流路321。各阀块320A 320D中，由开闭阀350在块体335内在处理气体流路322和载气 流路321之间进行通断操作。块体335内部形成有倒V字型的块状流路331，与阀室324连 通的处理气体流路322通过阀孔325与流路331连通。在基块340中形成有V字形的块状 流路332并且该块状流路332之间设置有间隔地，阀块320A 320D的各块状流路331和 基块340的块状流路332进行直列式连接而构成一条载气流路321。因此，根据专利文献1记载的供气单元311，因为载气流路321的截面形状和横截 面积基本一定，所以能够抑制载气流路321中流通的载气的压力发生急剧变化，并能抑制 紊流的产生。专利文献1 国际公开第2004/036099号。
技术实现思路
但是，专利文献1中所记载的结构为各阀块320A 320D的块状流路331和基块 340的块状流路332分别形成为V字形，且这些块状流路331、332相互连接，所以载气流路 321呈在多处弯曲的复杂形状。因此，有可能会妨碍载气顺利地流通。另外，处理气体输入端口 322s设于与配置有开闭阀350的侧面部335a垂直的侧 面部335c上，所以需要在阀块320A 320D的侧面上确保设置处理气体输入端口 322s所 需的空间。在此，可以考虑将处理气体流路322延伸至与所述侧面部335a平行的侧面部 335b后使其开口，但在此种情况下将产生载气流路321和处理气体流路322A (用双点划线 表示)之间会相互干扰的问题。因此，很难缩小阀块320A 320D的宽度(图8中左右方 向上的长度)，难以并行排列供气单元311以进行高集成化。本专利技术是鉴于上述实际情况而提出的，其主要目的在于提供一种供气单元，该供 气单元能够使载气(吹扫气体(purge gas))顺利流通并能够缩小设置有多个开闭阀的块 的宽度。 为解决上述课题采用以下方法。本专利技术第一方面提供一种供气单元，该供气单元包括内部设有流路的流路块，所 述流路包括主流路和多个分别与所述主流路连通的副流路，每个所述副流路都包括开闭 阀，所述开闭阀使对应的所述副流路和所述主流路隔断以及连通，其特征在于，所述流路块 形成为呈长条状延伸的长方体状，且包括搭载所述开闭阀的阀搭载面以及副流路开口面， 其中，所述副流路在所述副流路开口面形成有开口，所述阀搭载面和所述副流路开口面位 于相反的两侧，所述开闭阀沿着所述阀搭载面的长度方向进行直列式设置，所述开闭阀的 各阀室设于所述阀搭载面，所述副流路与所述阀室连通，在所述流路块内部设有连接所述 主流路和所述阀室的连接流路，所述连接流路与所述阀室的大致中央连通且向背离所述阀 搭载面的方向延伸，所述主流路形成得比所述连接流路粗且沿着所述阀搭载面的长度方向 呈直线状延伸，并且，在所述流路块中，所述主流路设置在关于所述阀搭载面的宽度方向从 所述阀室的中央偏向一侧的部分处；在所述流路块中，所述副流路在关于所述阀搭载面的 宽度方向从所述阀室的中央偏向与所述主流路相反的一侧的部分中通过。根据上述构成，因为主流路形成得比所述连接流路粗且沿所述阀搭载面的长度方 向呈直线状延伸，所以可以减小载气(吹扫气体)在主流路中流通时的阻力，并能够抑制载 气的紊流。因此，载气能够在主流路中顺利流通。其结果，在主流路中流通载气的情况下， 能够快速运输处理气体。另外，在主流路中流通吹扫气体的情况下，能够将处理气体快速更 换为吹扫气体。在所述流路块中，主流路设置在关于搭载开闭阀的阀搭载面的宽度方向从所述阀 室的中央偏向一侧的部分中，所以能够在与设置有主流路的部分相反一侧的部分确保用于 设置其他流路所需的体积(空间)。在此，因为主流路形成得比连接流路粗，所以，即使将主 流路设置在关于阀搭载面的宽度方向从所述阀室的中央偏向一侧的部分处，也易于确保主 流路和连接流路之间的连接。而且，因为副流路的开口形成在与所述阀搭载面相反一侧的副流路开口面，所以 无需在从宽度方向夹持阀搭载面的两侧面设置处理气体的输入端口。在此，因为在所述流 路块中副流路在关于所述阀搭载面的宽度方向从所述阀室的中央偏向与所述主流路相反 的一侧的部分中通过，即，在与设置主流路的部分相反的一侧用于设置流路的部分中通过， 所以易于在流路块中在阀搭载面的宽度范围内设置副流路。因此，能够缩小流路块的宽度， 进而能够使包含多个供气单元的供气装置高度集成化。为了尽量缩小供气单元的宽度，在这样的流路块中将阀搭载面和副流路开口面的 宽度限制为所需最低限度的宽度是很常见的。对此，采用以下本专利技术第2 第4任一方面 的构成是很有效的。本专利技术第2方面在于，在本专利技术第1方面中，所述副流路中从所述主流路旁侧通过 的部分形成得比其他部分细，所以易于在流路块中设置副流路使其不会干扰主流路。因此， 能够缩小流路块的宽度。本专利技术第3方面在于，在本专利技术第1或第2方面中，所述连接流路垂直于所述阀搭 载面进行延伸，所以能够缩小流路块的宽度，且能够易于对阀室和连接流路之间的连接部 (例如设于阀室的阀座)进行加工。而且，在所述流路块中副流路在关于所述阀搭载面的宽度方向从所述阀室的中央 偏向与所述主流路相反的一侧的部分中通过，在这种情况下，如果副流路的开口形成在副流路开口面的靠宽度方向一端的位置处，可能就难以充分确保设置副流路所需的宽度。对于这一点，本专利技术第4方面在于，在本专利技术第1 第3任一方面中，所述副流路 的开口形成在所述副流路开口面的宽度方向的中央处，所以即使流路块的宽度受限制的情 况下，也能够充分确保设置副流路所需的宽度。本专利技术第5方面在于，在本专利技术第1 第4任一方面中，在所述流路块中在从宽 度方向夹持所述阀搭载面的两侧面设有加热器，所以，主流路到加热器之间的距离变短，并 且，副流路到加热器之间的距离也变短，其中，所述主流路设置在关于阀搭载面的宽度方向 从阀室的中央偏向一侧的部分处，所述副流路在关于阀搭载面的宽度方向从阀室的中央偏 向与主流路相反的一侧的部分中通过。因此，能够有效地加热在主流路和副流路中通过的 气体。如上所述，在本专利技术的供气单元中，不需要在从宽度方向夹持阀搭载面的两侧面 设置处理气体的输入端口。因此，如本专利技术第6方面那样，包括多个本专利技术第1 第5任一 方面所述的供气单元，所述供气单元并行排列使得从宽度方向夹持所述阀搭载面的两侧面 相互抵接，由此能够缩小各供气单元的宽度，并能够省略供气单元之间的间隙。所以能够使 供气装置高度集成化。附图说明图1是本专利技术的供气单元的平面图。图2是图1的2-2线本文档来自技高网...

【技术保护点】
供气单元，包括内部设置有流路的流路块，所述流路包括主流路以及多个分别与所述主流路连通的副流路，每个所述副流路具有开闭阀，所述开闭阀使对应的所述副流路和所述主流路隔断及连通，其特征在于，所述流路块形成为呈长条状延伸的长方体状，并具有搭载所述开闭阀的阀搭载面以及副流路开口面，其中，所述副流路在所述副流路开口面形成有开口，所述阀搭载面和所述副流路开口面位于相反的两侧，所述开闭阀沿所述阀搭载面的长度方向进行直列式设置，所述开闭阀的各阀室设于所述阀搭载面，所述副流路与所述阀室连通，所述流路块的内部设有连接所述主流路和所述阀室的连接流路，所述连接流路与所述阀室的大致中央连通且向背离所述阀搭载面的方向延伸，所述主流路形成得比所述连接流路粗并沿所述阀搭载面的长度方向呈直线状延伸，并且，在所述流路块中，所述主流路设置在关于所述阀搭载面的宽度方向从所述阀室的中央偏向一侧的部分中，在所述流路块中，所述副流路在关于所述阀搭载面的宽度方向从所述阀室的中央偏向与所述主流路相反的一侧的部分中通过。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：加藤启介，西田成伸，三轮敏一，井上贵史，
申请(专利权)人：CKD株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]