【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及在液晶显示装置等平板显示器(Flat Panel Display 以下称为FPD) 等的制造中使用的。
技术介绍
在液晶显示装置中使用的TFT(薄膜晶体管)基板是使用在透明基板上形成有由 遮光部和透光部构成的转印图案的光掩模，例如经过5次 6次的光刻工序来制造的。近 年来，为了削减光刻工序次数，而使用在透明基板上形成有包含遮光部、半透光部和透光部 在内的转印图案的多色调光掩模。进而，本申请人提出了如下方案如果使用在透明基板上 形成有包含遮光部、半透光部、第1半透光部和第2半透光部在内的转印图案的多色调光掩 模(4色调以上的掩模)，则例如可以经过3次 4次的光刻工序来制造TFT基板。专利文献1日本特开2007-249198号公报但是，在使用上述多色调光掩模在被转印体上形成抗蚀剂图案的情况下，有时难 以精密地控制抗蚀剂图案的级差形状。例如，在使用于透明基板上形成有包含遮光部、透光 部、第1半透光部和第2半透光部在内的转印图案的多色调光掩模，于被转印体上形成抗蚀 剂图案的情况下，在成为第1半透光部与第2半透光部边界的部分，有时难以垂直地形成抗 蚀剂的剖面...
【技术保护点】
一种多色调光掩模，该多色调光掩模在透明基板上形成有包含遮光部、透光部、第１半透光部和第２半透光部在内的转印图案，其特征在于，所述第１半透光部针对曝光光的透过率小于所述第２半透光部针对所述曝光光的透过率，透过所述第１半透光部的所述曝光光与透过所述第２半透光部的所述曝光光之间的相位差被控制为，使得由于透过所述第１半透光部的所述曝光光与透过所述第２半透光部的所述曝光光之间的干涉而形成的光强度为透过所述第１半透光部的所述曝光光的光强度以上。
【技术特征摘要】
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