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本发明提供多色调光掩模、多色调光掩模制造方法以及图案转印方法。更加精密地控制在被转印体上形成的抗蚀剂图案的级差形状。多色调光掩模在透明基板上形成有包含遮光部、透光部、第１半透光部和第２半透光部在内的转印图案，其中，第１半透光部针对曝光光的透...
该专利属于ＨＯＹＡ株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过ＨＯＹＡ株式会社授权不得商用。

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