【技术实现步骤摘要】
一种薄膜气相沉积加热装置
[0001]本专利技术涉及气相沉积
,尤其涉及一种薄膜气相沉积加热装置
。
技术介绍
[0002]化学气相沉积
(Chemical Vapor Deposition
,简称
CVD)、
物理气相沉积
(PhysicalVapor Deposition
,简称
PVD)
是半导体行业中广泛应用于薄膜沉积的技术
。
如
CVD
设备包括反应腔和晶圆加热基座,当将两种或两种以上的气态原材料导入反应腔时,气态原材料相互之间发生化学反应,形成一种新的材料并沉积到加热基座晶圆的表面上,形成一层沉积薄膜
。
[0003]气相沉积镀膜的工艺复杂多样化,同时在镀膜的同时会有各种因素影响镀膜厚度的均匀性,为了达到更高镀膜工艺要求,现有晶圆加热装置采用升降并往复旋转的方式
。
但是这种方式旋转角度有限,导致调整能力不佳
。
但是晶圆加热装置在进行
360
°
水平方向转动时,由于还需要给加热盘等进行供电,会使电线缠绕损坏
。
因此,如何实现加热装置的旋转结构不损坏供电导线是本领域技术人员亟待解决的一个重要问题
。
技术实现思路
[0004]鉴于以上现有技术的缺点,本专利技术提供一种薄膜气相沉积加热装置,以解决现有技术中旋转结构在动态旋转的同时容易使导线缠绕而影响电路的供电的技术问题
。< ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种薄膜气相沉积加热装置,其特征在于,包括沉积腔
(1)
和旋转装置;所述旋转装置包括:设在所述沉积腔
(1)
下方的基座
(21)、
设在所述基座
(21)
上的磁流体密封传动装置
(22)、
设在所述沉积腔
(1)
内的加热盘
(23)、
与所述磁流体密封传动装置
(22)
配合的空心轴
(24)
以及驱动所述空心轴
(24)
转动的驱动装置
(25)
;所述空心轴
(24)
上端穿入所述沉积腔
(1)
后固定连接所述加热盘
(23)
;所述基座
(21)
具有安装腔,所述空心轴
(24)
下端穿入所述安装腔并连接有旋转电连接部件;所述旋转电连接部件包括:固设在所述空心轴
(24)
下端的绝缘轴
(51)、
均设在所述基座
(21)
上且分别连接所述绝缘轴
(51)
的滑环组件和电刷组件;所述加热盘
(23)
内设有加热管
(3)
和温度传感器
(4)
,所述加热管
(3)
和温度传感器
(4)
均依次经所述空心轴
(24)
内部和所述绝缘轴
(51)
分别电连接所述电刷组件和滑环组件;所述滑环组件和电刷组件用于旋转时的供电
。2.
根据权利要求1所述的一种薄膜气相沉积加热装置,其特征在于,所述滑环组件包括:设在所述基座
(21)
上且与所述空心轴
(24)
同轴的定子
(521)、
相对所述定子
(521)
转动的转子
(522)、
连接所述转子
(522)
和温度传感器
(4)
的连接电缆
(523)
及设在所述定子
(521)
上的信号电缆
。3.
根据权利要求2所述的一种薄膜气相沉积加热装置,其特征在于,所述转子
(522)
朝向所述绝缘轴
(51)
的一端延伸出所述定子
(521)
后套设有绝缘套
(524)
;所述绝缘套
(524)
上固设有沿径向的紧定螺钉
(525)
,所述紧定螺钉
(525)
的头部顶紧所述转子
(522)、
尾部延伸出所述绝缘套
(524)
;所述绝缘轴
(51)
上固设有支杆
(526)
,所述支杆
(526)
带动所述紧定螺钉
(525)
绕所述转子
(522)
轴线转动
。4.
根据权利要求2所述的一种薄膜气相沉积加热装置,其特征在于,所述基座
(21)
上固设有绝缘板
(527)
,所述定子
(521)
固设在所述绝缘板
(527)
上
。5.
根据权利要求1所述的一种薄膜气相沉积加热装置,其特征在于,所述温度传感器
(4)
为热电偶,所述绝缘轴
(51)
开设有螺纹通孔,所述热电偶的下端螺纹连接在所述螺纹通孔内,所述热电偶的下端电连接所述滑环组件
。6.
根据权利要求1所述的一种薄膜气相沉积加热装置,其特征在于,所述电刷组件包括:分别设在所述绝缘轴
(51)
外周面的正极导电带
、
和负极导电带
、
分别与所述正极导电带和负...
【专利技术属性】
技术研发人员:邓超,徐家庆,唐丽娜,
申请(专利权)人:大连皓宇电子科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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