【技术实现步骤摘要】
一种用于半导体设备的搬运架
[0001]本技术涉及一种用于半导体设备的搬运架,属于沉积覆膜设备
。
技术介绍
[0002]在半导体沉积设备中,晶圆会在沉积腔室内被承载环
(Carrierring)
托起
、
搬运,以改变该载体环上放置的晶圆的位置
。
在沉积过程中搬运架
(Spindle Plate)
扮演者非常重要的角色,它通常通过承载环支撑着衬底
(
或称为基底
)
,保证衬底
(
或基底
)
在高温
、
真空和等离子体的化学反应环境中,起到支撑衬底
、
提供旋转运动等多个重要功能,确保沉积过程的稳定性
、
均匀性和可控性
。
然而在目前的半导体设备中,搬运架与承载环多为上下平行托举式,这种平行托举的方法,只能在速度缓慢的情况下保持平稳,一旦搬运架加速或减速,承载环和衬底
(
或称为基底
)
会受惯性影响失控,进而偏离圆心,从而影响沉积的质量及均匀性,造成衬底
(
或称为基底
)
的残次,影响衬底
(
或称为基底
)
的良率;另外现有承载环与晶圆之间接触方式为面与面接触,接触面积较大,承载环与晶圆之间温度升高,影响晶圆的品质
。
技术实现思路
[0003]为解决现有技术存在的上述问题,本申请提供
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种用于半导体设备的搬运架,其特征在于,包括架体
(1)、
承载环
(20)
和锁紧机构,架体
(1)
中心设有连接孔
(2)
,架体
(1)
上还设有若干优弧
(3)
,锁紧机构一端固定在优弧
(3)
上,锁紧机构另一端与承载环
(20)
连接;所述的锁紧机构包括锁紧块
(4)
和连接凸鞘
(5)
,连接凸鞘
(5)
分为锁紧部
(51)、
连接部
(52)
和凸鞘部
(53)
,且锁紧部
(51)、
连接部
(52)
和凸鞘部
(53)
依次一体成型制成,其中连接部
(52)
与锁紧部
(51)
接触的一端为连接部第一连接端
(521)
,锁紧部
(51)
位于锁紧块
(4)
内,连接部
(52)
外露在锁紧块
(4)
外,凸鞘部
(53)
设置在连接部第二连接端
(522)
且突出于连接部
(52)
上表面;所述的承载环
(20)
包括内圈
(21)
和外圈
(22)
,内圈
(21)
低于外圈
(22)
,内圈
(21)
上设有突出于内圈
(21)
表面的用于支撑晶圆的支撑件
(23)
;外圈
(22)
上设有用于凸鞘部
(53)
插入的凸鞘孔
(24)。2.
根据权利要求1所述的搬运架,其特征在于,锁紧块
A
端
(41)
固定在优弧
(3)
侧...
【专利技术属性】
技术研发人员:付佳明,包驷璋,徐家庆,唐丽娜,
申请(专利权)人:大连皓宇电子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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