【技术实现步骤摘要】
本技术涉及气相沉积设备领域,尤其涉及一种气相沉积设备使用的主轴升降旋转装置。
技术介绍
1、气相沉积设备是制造微电子器件时被用来沉积出某种薄膜的设备,沉积出的薄膜用来制作介电材料。
2、气相沉积设备在工艺腔室内设有主轴升降旋转装置,主轴上设有传送托盘,传送托盘上设有若干个晶圆,主轴能够驱动传送托盘上升,旋转和下降,完成对晶圆的搬运。现有主轴升降装置均有两个动力源,其中一个动力源带动主轴执行升降运动,另一个动力源带动主轴执行旋转运动。设置两个动力源占用空间较大,增加了气相沉积设备的制造成本。
技术实现思路
1、本技术提供一种气相沉积设备使用的主轴升降旋转装置,以克服气相沉积设备需用两个动力源分别控制主轴的旋转和升降动作而带来的设备占用空间大,成本增加的问题。
2、为了实现上述目的,本技术的技术方案是:
3、一种气相沉积设备使用的主轴升降旋转装置,包括主轴、主轴连接件、顶升块、丝杠、丝母、滑块、直线滑轨、旋转体、气动旋转卡盘和电机;
4、所述气动旋转卡盘包括卡爪部,所述电机与所述卡爪部传动连接,所述卡爪部包括卡爪,所述卡爪之间形成夹持空间,所述丝杠的一端设于夹持空间内;
5、所述顶升块设有所述丝母,所述丝母与所述丝杠传动连接;
6、所述顶升块与所述主轴连接件的一端固定连接,所述主轴连接件的另一端与所述主轴固定连接;
7、所述旋转体包括顶板、背板和底板,所述背板设于所述顶板和所述底板之间,所述顶升块设于所
8、所述直线滑轨与所述背板固定连接,所述滑块与所述直线滑轨滑动连接,所述滑块与所述顶升块固定连接,所述顶升块能够随所述旋转体旋转。
9、进一步的,还包括主轴波纹管和磁流体旋转组件,所述磁流体旋转组件包括固定部和转动部,所述固定部设置于所述转动部的外侧,所述固定部与法兰座固定连接,所述主轴波纹管设于所述转动部和所述主轴之间,且套设于所述主轴连接件外侧,所述主轴连接件设于所述转动部内,所述转动部与所述顶板固定连接。
10、进一步的,还包括压缩弹簧,所述压缩弹簧套设在所述主轴连接件的外侧,所述转动部的内壁设有径向向内凸起的止挡部,所述压缩弹簧设置于所述止挡部和所述顶升块之间。
11、进一步的,还包括法兰座、支撑杆和支撑座,所述支撑杆一端与所述法兰座固定连接,另一端与所述支撑座固定连接,所述旋转体设置于所述法兰座和所述支撑座之间,所述气动旋转卡盘安装于所述支撑座上。
12、有益效果:本申请公开的一种气相沉积设备使用的主轴升降旋转装置,采用一个动力源驱动主轴的升降旋转动作,电机启动后,电机控制气动旋转卡盘的旋转运动,气动旋转卡盘通过控制卡爪的开合来切换主轴的旋转和升降动作,节约了设备的占用空间,降低了设备的制造成本。
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1.一种气相沉积设备使用的主轴升降旋转装置,其特征在于:包括主轴(1)、主轴连接件(3)、顶升块(8)、丝杠(10)、丝母(11)、滑块(12)、直线滑轨(13)、旋转体(14)、气动旋转卡盘(15)和电机(17);
2.根据权利要求1所述的一种气相沉积设备使用的主轴升降旋转装置,其特征在于:还包括主轴波纹管(2)和磁流体旋转组件(4),所述磁流体旋转组件(4)包括固定部(41)和转动部(42),所述固定部(41)设置于所述转动部(42)的外侧,所述固定部(41)与法兰座(6)固定连接,所述主轴波纹管(2)设于所述转动部(42)和所述主轴(1)之间,且套设于所述主轴连接件(3)外侧,所述主轴连接件(3)设于所述转动部(42)内,所述转动部(42)与所述顶板(143)固定连接。
3.根据权利要求2所述的一种气相沉积设备使用的主轴升降旋转装置,其特征在于:还包括压缩弹簧(7),所述压缩弹簧(7)套设在所述主轴连接件(3)的外侧,所述转动部(42)的内壁设有径向向内凸起的止挡部(5),所述压缩弹簧(7)设置于所述止挡部(5)和所述顶升块(8)之间。
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【技术特征摘要】
1.一种气相沉积设备使用的主轴升降旋转装置,其特征在于:包括主轴(1)、主轴连接件(3)、顶升块(8)、丝杠(10)、丝母(11)、滑块(12)、直线滑轨(13)、旋转体(14)、气动旋转卡盘(15)和电机(17);
2.根据权利要求1所述的一种气相沉积设备使用的主轴升降旋转装置,其特征在于:还包括主轴波纹管(2)和磁流体旋转组件(4),所述磁流体旋转组件(4)包括固定部(41)和转动部(42),所述固定部(41)设置于所述转动部(42)的外侧,所述固定部(41)与法兰座(6)固定连接,所述主轴波纹管(2)设于所述转动部(42)和所述主轴(1)之间,且套设于所述主轴连接件(3)外侧,所述主轴连接件(3)设于所述转动部(42)内,所述转动部(4...
【专利技术属性】
技术研发人员:邓超,徐家庆,唐丽娜,
申请(专利权)人:大连皓宇电子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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