【技术实现步骤摘要】
具有四通道射频电源分配器
[0001]本专利技术涉及等离子体化学气相沉积中射频电源
,具体涉及具有四通道射频电源分配器
。
技术介绍
[0002]在半导体生产过程中,等离子体化学气相沉积设备
PECVD
是一种通过射频电源使一定组份的气态物质发生电离形成等离子体,促进化学反应,沉积成薄膜材料
。
在这个过程中,射频电源的功率大小以及分布均匀度,决定了薄膜材料的质量
。
[0003]在现有的等离子体化学气相沉积设备中,一个高频电源和一个低频电源的输出只能提供给一个喷淋头使用,要满足四片晶圆同时进行化学沉积工艺,则需要四个高频电源和四个低频电源同时工作
。
这种设计方式增加了等离子体化学气相沉积设备
PECVD
的原材料成本,同时也占用了设备内部很多空间,使得设备外观体积巨大
。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的在于,提供一种具有四通道射频电源分配器,其将一路高频电源和一路低频电源连接在该分配器上,再通过分配器的输出作用到四个喷淋头,故可以同时供四片晶圆进行化学气相沉积工艺
。
[0005]为实现上述目的,本申请的技术方案为:具有四通道射频电源分配器,包括四个支路,每个支路具有高频汇流单元
、
低频滤波单元
、
谐振组合单元和输出单元,所述高频汇流单元与低频滤波单元
、
输出单元相连,所述低频滤波单元的一个支路与低频输入板相连,另一 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
具有四通道射频电源分配器,其特征在于,包括四个支路,每个支路具有高频汇流单元
、
低频滤波单元
、
谐振组合单元和输出单元,所述高频汇流单元与低频滤波单元
、
输出单元相连,所述低频滤波单元的一个支路与低频输入板相连,另一个支路通过电容
C1
与谐振组合单元相连,所述谐振组合单元还与输出单元相连
。2.
根据权利要求1所述具有四通道射频电源分配器,其特征在于,所述高频汇流单元,包括高频输入端子和第一高频汇流板,所述高频输入端子通过电容
C1
与第一高频汇流板相连
。3.
根据权利要求2所述具有四通道射频电源分配器,其特征在于,所述低频滤波单元,包括
L1
电感
、
低频汇流板和
L4
磁环电感,所述
L4
磁环电感一端与低频输入板相连,另一端与低频汇流板相连,所述低频汇流板上设有
L1
电感,该
L1
电感与两个电容
C2
并联后与第一高频汇流板相连
。4.
根据权利要求2所述具有四通道射频电源分配器,其特征在于,所述谐振组合单元包括第二高频汇流板
、
谐振滤波电路和谐振陷波电路,所述第二高频汇流板一端通过电容
C1
与低频汇流板相连,另一端通过谐振滤波电路与谐振陷波电路相连
。5.
根据权利要求2所述具有四通道射频电源分配器,其特征在于,所述谐振滤波电路包括
L2
电感以及与
L2
电感并联的电容
C2、
电容
C3
;所述谐振陷波电路包括
L2
电感以及与
L2
电感...
【专利技术属性】
技术研发人员:范震,史常龙,徐家庆,唐丽娜,
申请(专利权)人:大连皓宇电子科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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