发光装置、发光元件芯片以及发光调节方法制造方法及图纸

技术编号:3910018 阅读:147 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种发光装置、发光元件芯片以及发光调节方法,该发光装置包括:设定单元,其在第一电位差与第二电位差之间交替地切换阳极与阴极之间的电位差,从而使得发光晶闸管共同具有第一电位差和第二电位差中之一;指定单元,其依次指定一个发光晶闸管作为控制的对象;供给单元,其在指定单元指定所述对象并且设定单元设定第二电位差的发光控制时间段中,向晶闸管的门极交替地供给用于使得所指定的发光晶闸管从关断状态转换为导通状态的转换电压和用于保持晶闸管处于关断状态的维持电压;以及调节单元,其通过在发光控制时间段中供给维持电压并且在可变定时停止供给维持电压,从而调节所述一个发光晶闸管的发光时间段。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及分别包括多个发光晶闸管的发光装置和发光元件芯片,并且涉及发光调节方法。
技术介绍
在诸如打印机、复印机或传真机等电子照相式图像形成装置中,以如下方式在记录 纸张上形成图像。首先,通过使得光学记录单元基于图像信息发射光而在已充电的感光体上 形成静电潜像。然后,利用调色剂对静电潜像进行显影以使得静电潜像可见。最后,将调色剂 图像转印并定影到记录纸张上。作为这种光学记录单元,除了利用激光束通过沿着第一扫描 方向进行激光扫描来进行曝光的光学扫描记录单元之外,近年来已采用使用下述发光元件头 的光学记录单元。该发光元件头包括沿着第一扫描方向排列的大量发光元件芯片,并且每个 发光元件芯片包括由诸如排成一列的发光二极管(LED)等发光元件形成的发光元件阵列。 在日本专利申请公开No. 2004-195796中,提出了一种驱动发光元件头的技术,其 中,发光元件头包括排列于其中的多个发光元件芯片,并且所述多个发光元件芯片分别具 有使用发光晶闸管和转移晶闸管的自扫描发光元件阵列。在此技术中,在信号生成电路中 设置有用于供给与发光元件芯片一样多的发光信号的电流缓冲电路,并且通过向发光元件 芯片供给各发光信号来驱动发光元件芯片。 这种包括大量发光元件阵列的发光元件头需要基于发光元件芯片数量的发光信 号。这里,发光信号使得发光元件发光或不发光,并且将发光所需的电流供给到发光元件。 这样,在发光元件头中,发光信号总线的数量随着发光元件芯片数量的增加而增加。另外, 由于发光信号向发光元件供给发光电流,因此分别具有大电流驱动能力的电流缓冲电路的 数量也随着发光元件芯片数量的增加而增加。 因此,包括大量发光元件芯片的发光元件头具有下述问题发光元件头的驱动IC 的尺寸随着发光元件头中的发光元件芯片数量的增加而增大;并且发光元件头的印刷电路 板需要具有较宽的宽度以便允许在其上布置大量的低电阻发光信号总线。可通过采用多层 印刷电路板来减小印刷电路板的宽度,然而这会使得成本增加。 可通过减少分别具有大电流驱动能力的用于供给发光信号的电流缓冲电路的数 量来解决上述问题。具体而言,通过对每个发光元件芯片设置用于接收发光使能信号的端 子并且通过按照时间顺序多路复用分别与多个发光元件芯片对应的发光信号来实现上述 减少,其中该发光使能信号用于控制是否允许发光元件发光。然而,此措施另外需要将使用 小电流的信号供给到发光使能信号端子。 本专利技术的目的在于在发光元件头中,减少分别具有大电流驱动能力的电流缓冲 电路的数量,同时利用小电流供给诸如发光使能信号等信号。
技术实现思路
根据本专利技术的第一方面,提供一种发光装置,包括发光晶闸管阵列,其包括多个发光晶闸管,所述多个发光晶闸管分别具有阳极、阴极以及门极,所述多个发光晶闸管中的 每一个通过从关断状态转换为导通状态而发光,所述多个发光晶闸管中的每一个当被导通 而处于所述导通状态时在所述阳极与所述阴极之间导通,而所述多个发光晶闸管中的每一 个当被关断而处于所述关断状态时在所述阳极与所述阴极之间不导通;设定单元,其在第 一电位差与第二电位差之间交替地切换所述多个发光晶闸管中的每一个的所述阳极与所 述阴极之间的电位差,从而使得所述多个发光晶闸管共同具有所述第一电位差和所述第二 电位差中之一,所述第二电位差的绝对值大于所述第一电位差的绝对值;指定单元,其从所 述多个发光晶闸管中依次指定一个发光晶闸管作为控制是否发光的对象;供给单元,其在 所述指定单元指定所述一个发光晶闸管作为所述对象并且所述设定单元使得所述多个发 光晶闸管具有所述第二电位差的发光控制时间段中,向由所述指定单元指定为所述对象的 所述一个发光晶闸管的所述门极交替地供给转换电压和维持电压,所述转换电压是使得所 述一个发光晶闸管从所述关断状态转换为所述导通状态的电压,所述维持电压是保持所述 一个发光晶闸管处于所述关断状态的电压;以及调节单元,其通过在所述发光控制时间段 中向所述一个发光晶闸管的所述门极供给所述维持电压而不是所述转换电压以阻止所述 一个发光晶闸管开始发光,并且通过在所述发光控制时间段中的可变定时停止供给所述维 持电压,从而调节所述一个发光晶闸管的发光时间段。 根据本专利技术的第二方面,在所述发光装置的第一方面中,所述指定单元包括多个 发光控制晶闸管,其分别与所述多个发光晶闸管连接,并且当所述发光控制晶闸管中之一 被导通而处于所述导通状态时,所述多个发光控制晶闸管将与所述发光控制晶闸管中之一 连接的所述发光晶闸管中之一指定为所述一个发光晶闸管;以及多个转移晶闸管,其分别 与所述多个发光控制晶闸管连接,并且当所述多个转移晶闸管依次被导通而处于所述导通 状态时,所述多个转移晶闸管使得与所述多个转移晶闸管分别连接的所述多个发光控制晶 闸管分别被导通而处于所述导通状态。 根据本专利技术的第三方面,在所述发光装置的第二方面中,所述调节单元包括发光使能晶闸管,所述发光使能晶闸管与所述多个发光控制晶闸管并联,并且当所述发光使能晶闸管被导通而处于所述导通状态时,所述发光使能晶闸管阻止正处于所述关断状态的所述多个发光控制晶闸管中的每一个从所述关断状态转换为所述导通状态。 根据本专利技术的第四方面,提供一种发光元件芯片,包括基板;发光晶闸管阵列,其形成在所述基板上,并且具有被控制是否发光的多个发光晶闸管;发光控制晶闸管阵列,其形成在所述基板上,并且具有分别与所述多个发光晶闸管连接的多个发光控制晶闸管,当所述多个发光控制晶闸管依次被导通而处于导通状态时,所述多个发光控制晶闸管分别将与所述多个发光控制晶闸管分别连接的所述多个发光晶闸管指定为控制是否发光的对象;以及发光使能晶闸管,其形成在所述基板上,并且与所述多个发光控制晶闸管并联,当所述发光使能晶闸管被导通而处于所述导通状态时,所述发光使能晶闸管阻止正处于关断状态的任何所述多个发光控制晶闸管从所述关断状态转换为所述导通状态。 根据本专利技术的第五方面,在所述发光元件芯片的第四方面中,所述发光元件芯片还包括转移晶闸管阵列,其包括多个转移晶闸管,所述多个转移晶闸管以交替的方式分别与所述多个发光控制晶闸管连接,并且当所述多个转移晶闸管依次被导通而处于所述导通状态时,所述多个转移晶闸管使得与所述多个转移晶闸管分别连接的所述多个发光控制晶闸管被导通而处于所述导通状态。 根据本专利技术的第六方面,在所述发光元件芯片的第五方面中,所述发光元件芯片 还包括二极管,其布置在所述多个发光控制晶闸管中之一与所述多个转移晶闸管中的相 邻于所述多个发光控制晶闸管中之一的相应一个转移晶闸管之间,所述二极管既与所述多 个发光控制晶闸管中之一连接,也与所述多个转移晶闸管中的所述相应一个转移晶闸管连 接。 根据本专利技术的第七方面,在所述发光元件芯片的第四方面中,所述发光元件芯片 还包括转移晶闸管阵列,其包括多个转移晶闸管,所述多个转移晶闸管彼此连接并且分别 与所述多个发光控制晶闸管连接,并且当所述多个转移晶闸管依次被导通而处于所述导通 状态时,所述多个转移晶闸管使得与所述多个转移晶闸管分别连接的所述多个发光控制晶 闸管分别被导通而处于所述导通状态。 根据本专利技术的第八方面,在所述发光元件芯片的第七方面中,所述发光元件芯片 还包括二极管,其布置在所述多个转本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种发光装置,包括:发光晶闸管阵列,其包括多个发光晶闸管,所述多个发光晶闸管分别具有阳极、阴极以及门极,所述多个发光晶闸管中的每一个通过从关断状态转换为导通状态而发光,所述多个发光晶闸管中的每一个当被导通而处于所述导通状态时在所述阳极与所述阴极之间导通,而所述多个发光晶闸管中的每一个当被关断而处于所述关断状态时在所述阳极与所述阴极之间不导通;设定单元,其在第一电位差与第二电位差之间交替地切换所述多个发光晶闸管中的每一个的所述阳极与所述阴极之间的电位差,从而使得所述多个发光晶闸管共同具有所述第一电位差和所述第二电位差中之一,所述第二电位差的绝对值大于所述第一电位差的绝对值;指定单元,其从所述多个发光晶闸管中依次指定一个发光晶闸管作为控制是否发光的对象;供给单元,其在所述指定单元指定所述一个发光晶闸管作为所述对象并且所述设定单元使得所述多个发光晶闸管具有所述第二电位差的发光控制时间段中,向由所述指定单元指定为所述对象的所述一个发光晶闸管的所述门极交替地供给转换电压和维持电压,所述转换电压是使得所述一个发光晶闸管从所述关断状态转换为所述导通状态的电压,所述维持电压是保持所述一个发光晶闸管处于所述关断状态的电压;以及调节单元,其通过在所述发光控制时间段中向所述一个发光晶闸管的所述门极供给所述维持电压而不是所述转换电压以阻止所述一个发光晶闸管开始发光,并且通过在所述发光控制时间段中的可变定时停止供给所述维持电压,从而调节所述一个发光晶闸管的发光时间段。...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:大野诚治
申请(专利权)人:富士施乐株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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