光学头的聚焦位置调整方法及其系统技术方案

本发明专利技术是关于一种光学头的聚焦位置调整方法，此光学头位于与一光学记录媒体相距一预定距离的聚焦位置，用来对光学记录媒体发出一预定功率的烧录光束，而将相对应的光学数据烧录于此光学记录媒体上，此聚焦位置调整方法包括下列步骤：在烧录过程中改变光学头的聚焦位置，以产生出相对应的烧录射频信号；搜寻出烧录射频信号的极小值，以及相对应的一目标聚焦位置；以及将光学头调整至上述目标聚焦位置，使光学头后续能在此目标聚焦位置对光学记录媒体进行烧录。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光学头聚焦位置的调整方法及系统，尤其指一种用于光 学记录/读写装置的光学头聚焦位置的调整方法及系统。
技术介绍
现有技术中，在光学记录媒体上烧录数据时，光学头使用该聚焦误差零 交点的聚焦位置进行烧录。然而，光盘片因为制程不稳定，常常会有倾斜或 高低不平的问题，因此，此预定的聚焦位置并非一定为最佳的聚焦位置。最 佳聚焦位置会在烧录的过程中改变。而光学头可能距离光学记录^ 某体太近或 太远，导致该记录/读写装置所烧录出的光学记录媒体质量不稳定，进而影 响从该光学记录媒体进行数据读取的质量。请参见图1是光学头在一特定聚焦时，将信息烧录在光学记录纟某体上的 过程中烧录射频信号变化示意图。首先，当光学头开始发出烧录光束时，感测模块会产生对应的烧录射频信号，即A基准；随后，当烧录光束发出一 段时间后，传感器才会产生一较为稳定的烧录射频信号，即B基准；而当 光学头中断发出烧录光束回到读取功率时，感测模块会从该较高的稳定的烧 录射频信号跳变为一较低基准的电压，即C基准。而现有的光学头聚焦调 整方法均采用B基准所对应的聚焦位置作为目标聚焦位置，然而，在实际 应用中，从A基准到需要经过一个相对不稳定的阶段才能达到B基准，因 此该B基准的获取往往不易精确。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种光学头聚焦位置的调整方法，用 以在烧录的过程中，调整光学头的聚焦位置，以有效解决已知烧录质量不稳 定的问题。本专利技术所提供的聚焦位置调整方法是利用烧录射频信号从B基准跳变为c基准作为检测基准，当检测到烧录射频信号从高基准电压转为低基准电压时，获取烧录射频信号的最小值及其对应的目标聚焦位置，进一步调整 光学头的聚焦位置为该目标聚焦位置，以有效解决已知烧录质量不稳定的问 题。基于上述构思，本专利技术提出一种光学头的聚焦位置调整方法，该光学头 位于与一光学记录J 某体相距一预定距离的聚焦位置，用以对该光学记录々某体 发出一预定功率的烧录光束，而将相对应的光学数据烧录于该光学记录媒体上，该聚焦位置调整方法包括1) 用一聚焦位置在该光学记录媒体上进行烧录，以产生一相对应的烧录 射频信号；2) 检测该烧录射频信号是否由一高基准电压转为低基准电压，若是， 则进入3);3) 获取该烧录射频信号的最小值，以及其对应的目标聚焦位置；4) 将该光学头调整至该目标聚焦位置，以使该光学头后续能于该目标 聚焦位置对该光学记录媒体进行烧录。为了实现上述光学头的聚焦位置调整方法，本专利技术还提出一种光学头聚 焦位置的调整系统，包括感测模块，用于感测出自该光学记录媒体上反射的烧录光束，并产生对 应的射频信号；控制4莫块，包括 一位置改变单元，以预定的位置改变程序，控制该光 学头改变在该光学记录^ 某体上进行烧录的聚焦位置；电位转换侦测单元，用 于当侦测到所述感测模块所产生的射频信号由高基准电压转为低基准电压 时输出一转换信号；极值产生单元，用于根据所述转换信号获取其中射频信 号最小值，及其对应的目标聚焦位置。传动模块，根据所述控制模块的控制，将该光学头调整至该目标聚焦位置。本专利技术还提出另一种光学头的聚焦位置调整方法，该光学头位于与一光学记录媒体相距一预定距离的聚焦位置，用以对该光学记录媒体发出 一预定 功率的烧录光束，而将相对应的光学数据烧录于该光学记录媒体上，该聚焦位置调整方法包括1) 用 一聚焦位置在该光学记录媒体上进行烧录；2) 暂停烧录，以读取功率回读烧录的资料，以产生出一相对应的射频 信号；3) 利用该射频信号，获取振幅绝对值；4) 改变该聚焦位置，并重复进入步骤1)，以得到一最大振幅绝对值 以及其对应的目标聚焦位置；5) 将该光学头调整至该目标聚焦位置，以使该光学头后续能于该目标 聚焦位置对该光学记录媒体进行烧录。为了实现上述另一种光学头的聚焦位置调整方法，本专利技术还提出一种光 学头聚焦位置的调整系统，包括感测模块，用于感测出自该光学记录媒体上反射的烧录光束，并产生对 应的射频信号；控制模块，包括 一位置改变单元，以预定的位置改变程序，控制该光 学头改变在该光学记录媒体上进行烧录的聚焦位置；回读^r测单元，用于对 烧录之后暂停烧录，再回读烧录的数据所对应产生的射频信号进行检测以获 取一振幅绝对值；振幅计算单元，用于接收该振幅绝对值，并比较产生一最 大振幅绝对值，及其对应的目标聚焦位置。传动模块，根据所述控制模块的控制，将该光学头调整至该目标聚焦位置。采用上述方法及系统的优点为在烧录期间可以根据烧录射频信号的下 冲电压值或者振幅绝对值来持续调整聚焦位置，使整张光盘片由内至外拥有 一致的烧录质量。或者，根据光盘片多个点的聚焦位置调整结果，决定任意 位置的目标聚焦位置。为让本专利技术的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较 佳实施例，并配合所附图示，作详细说明如下。附图说明图l是现有技术中光学读取头的烧录射频信号变化示意图。图2A是根据本专利技术第一实施例所绘示的烧录射频信号(Write RF )的 波形图。图2B是根据本专利技术第一实施例所绘示的光学头的聚焦位置调整方法流 程图。图2C是根据本专利技术第一实施例所绘示的一种光学头的聚焦位置调整系 统方框图。图3A是根据本专利技术第二实施例所绘示的烧录射频信号(Write RF )的 波形图。图3B是根据本专利技术第二实施例所绘示的光学头的聚焦位置调整方法流 程图。图3C是根据本专利技术第二实施例所绘示的一种光学头的聚焦位置调整系 统方框图。图4A是根据本专利技术第三实施例所绘示的射频信号(RF Signal)的波形图。图4B是根据本专利技术第三实施例所绘示的光学头的聚焦位置调整方法流 程图。图4C是根据本专利技术第三实施例所绘示的一种光学头的聚焦位置调整系 统方框图。具体实施例方式图2A是根据本专利技术第一实施例所绘示的烧录射频信号(Write Radio Frequency Signal, Write RF )的波形图。请参考图2A,此波形是在烧录期间， 光学读取头的写入功率(Write Power)被固定为读耳又功率(Read Power)时， 用以在光盘片上产生空白(Space)区块的波形图，在光盘技术中，烧录射 频信号的定义如下9Write RF = Write Power x R其中，R为反射率。由于此时光学头正在用激光头以读取功率在光盘片 上产生空白(Space)区块，而读取功率相对较低，并且在此期间，功率是 固定的。因此，当光学头的聚焦越好，波形的下冲电压值(Undershoot Voltage) 越低。接下来，图2B是根据本专利技术第一实施例所绘示的聚焦位置调整方法 的流程图。请参考图2A以及图2B,在此实施例中，调整光学头聚焦位置的 方法如下步骤S201:开始烧录；步骤S202:在烧录过程中改变光学头的聚焦位置，以产生出相对应的 烧录射频信号(Write RF);步骤S203:判断上述烧录射频信号(Write RF)是否由一高电压准位转 低电压准位，当判断为是，则进行步骤S204;当判断为否，则持续进行步 骤S203;步骤S204:获取上述烧录射频信号(WriteRF)的极小值Vsc，以及其 相对应的一目标聚焦位置；步骤S205:将光学头调整至上述目标聚焦位置，以使光学头后续能在 此目标聚焦位置对光学记本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学头的聚焦位置调整方法，该光学头位于与一光学记录媒体相距一预定距离的聚焦位置，用以对该光学记录媒体发出一预定功率的烧录光束，而将相对应的光学数据烧录于该光学记录媒体上，该聚焦位置调整方法包括：　１）用一聚焦位置在该光学记录媒体上 进行烧录，以产生一相对应的烧录射频信号；　２）检测该烧录射频信号是否由一高基准电压转为低基准电压，若是，则进入３）；　３）获取该烧录射频信号的最小值，以及其对应的目标聚焦位置；　４）将该光学头调整至该目标聚焦位置，以使该光 学头后续能于该目标聚焦位置对该光学记录媒体进行烧录。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘耀文，蔡政修，
申请(专利权)人：凌阳科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]