本发明专利技术提出一种防止串料的坩埚装置，其包括：坩埚盖板和坩埚本体，坩埚盖板设于坩埚本体上方，坩埚本体上均匀设有多个穴位孔，所述坩埚盖板上方设有活动盖板，所述活动盖板一端设有凹槽，凹槽上连接有入料口，所述活动盖板的两侧边对称设有调节装置，调节装置靠近坩埚本体的一端设有滚轮，所述坩埚本体上表面边缘均匀间隔设置有多个滑槽，当滚轮位于滑槽内时，调节装置带动活动盖板下移，活动盖板带动入料口下移，此时其中一个穴位孔位于入料口正下方，且坩埚本体上表面与入料口下表面完全贴合，当滚轮滑出滑槽时，调节装置带动活动盖板上移，活动盖板带动入料口上移，此时坩埚本体上表面与入料口下表面分离。上表面与入料口下表面分离。上表面与入料口下表面分离。
【技术实现步骤摘要】
一种防止串料的坩埚装置
[0001]本专利技术属于真空蒸镀机
，较为具体的，涉及到一种防止串料的坩埚装置。
技术介绍
[0002]真空蒸镀机为在真空条件下，通过电流加热、电子束轰击加热和离子源轰击等方式，蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，再使气化后的粒子飞至基片表面而凝结，最后形成薄膜。真空蒸镀具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点，因此得到广泛的应用。
[0003]在真空蒸镀的加工工艺中，在真空条件下采用坩埚气化镀膜材料，坩埚包括：蒸镀腔室、设置在蒸镀腔室内的蒸镀源(source)，加热蒸镀源使蒸镀源蒸内的蒸镀材料经过加热发生汽化，以扇形的结构向上蒸发，坩埚上方具有用来承载被镀膜工件的伞状结构的镀锅，镀锅上固定有被镀膜工件，因此使得蒸镀材料分子沉积到被镀膜工件上形成镀膜。
[0004]现有技术参考专利公告号为CN216585179U、公开了一种真空蒸镀机的坩埚系统，适用于各种类型的坩埚，该专利中的坩埚与坩埚盖板之间留有间隙，导致料液从入料口进入穴位孔时会有部分滞留堆积在坩埚上，且坩埚旋转时堆积的料液会在坩埚与坩埚盖板之间挤压，或者会进入坩埚的其他穴位孔，造成料液的混合。
[0005]有鉴于此，本专利技术提出一种防止串料的坩埚装置，使料液不再堆积在坩埚上或者进入其他穴位孔。
技术实现思路
[0006]有鉴于此，为了解决料液从入料口进入穴位孔时会有部分滞留堆积在坩埚上，且坩埚旋转时堆积的料液会在坩埚与坩埚盖板之间挤压，或者会进入坩埚的其他穴位孔造成料液的混合的问题，本专利技术提出一种防止串料的坩埚装置，坩埚盖板1上方设有活动盖板4，所述活动盖板4一端设有凹槽5，凹槽5上连接有入料口6，所述活动盖板4的两侧边对称设有调节装置7，调节装置7靠近坩埚本体2的一端设有滚轮8，所述坩埚本体2上表面边缘均匀间隔设置有多个滑槽9，当滚轮8位于滑槽9内时，调节装置7带动活动盖板4下移，活动盖板4带动入料口6下移，此时其中一个穴位孔3位于入料口6正下方，且坩埚本体2上表面与入料口6下表面完全贴合，当滚轮8滑出滑槽9时，调节装置7带动活动盖板4上移，活动盖板4带动入料口6上移，此时坩埚本体2上表面与入料口6下表面分离。
[0007]一种防止串料的坩埚装置，其包括：坩埚盖板1和坩埚本体2，坩埚盖板1设于坩埚本体2上方，坩埚本体2上均匀设有多个穴位孔3，其特征在于：所述坩埚盖板1上方设有活动盖板4，所述活动盖板4一端设有凹槽5，凹槽5上连接有入料口6，所述活动盖板4的两侧边对称设有调节装置7，调节装置7靠近坩埚本体2的一端设有滚轮8，所述坩埚本体2上表面边缘均匀间隔设置有多个滑槽9，当滚轮8位于滑槽9内时，调节装置7带动活动盖板4下移，活动盖板4带动入料口6下移，此时其中一个穴位孔3位于入料口6正下方，且坩埚本体2上表面与入料口6下表面完全贴合，当滚轮8滑出滑槽9时，调节装置7带动活动盖板4上移，活动盖板4
带动入料口6上移，此时坩埚本体2上表面与入料口6下表面分离。
[0008]进一步的，所述活动盖板4开口向下，用于对坩埚盖板1进行一个限位。
[0009]进一步的，所述活动盖板4的两侧边远离入料口6一端对称设有第一旋转轴10，所述第一旋转轴10一端与活动盖板4铰接，另一端与坩埚盖板1连接，活动盖板4可围绕第一旋转轴10进行旋转，当滚轮8位于滑槽9内时，活动盖板4与坩埚盖板1平行，当滚轮8滑出滑槽9时，活动盖板4远离第一旋转轴10一端翘起，活动盖板4呈倾斜状。
[0010]在一些实施例中，所述活动盖板4的两侧边对称设有腰型槽15，所述两个调节装置7分别与对应的腰型槽15连接，所述调节装置7可在腰型槽15内滑动，调节由于穴位孔3的位置加工时产生的误差，使得调整后入料口6与穴位孔3完全贴合。
[0011]进一步的，所述调节装置7远离滚轮8一端设有连轴11，连轴11的一端穿过腰型槽15并与腰型槽15可拆卸连接，另一端与滚轮8相连。
[0012]进一步的，所述滑槽9位于相邻两个穴位孔3的中垂线上，且滑槽9个数与穴位孔3个数对应，使得滚轮8位于滑槽9内时穴位孔3位于入料口6正下方。
[0013]进一步的，所述滑槽9为V字型或者U字型。
[0014]进一步的，所述滑槽9的深度等于滚轮8位于滑槽9内时坩埚盖板1下表面到坩埚本体2上表面的距离。
[0015]进一步的，所述滑槽9的两侧分别设有滑出面12，滑出面12为向上延伸的曲面，使得滚轮8滚出滑槽9时减少阻力，顺利滑出。
[0016]进一步的，所述坩埚盖板1两侧边还设有避位槽13，使得第一旋转轴10与滚轮8可以在避位槽13内。
[0017]进一步的，所述坩埚本体2正下方设有第二旋转轴14，使得坩埚本体2可以旋转，从而使得每个穴位孔3可以旋转到入料口6下方。
[0018]在一些实施例中，所述坩埚盖板1四角下方还设有支撑柱，所述支撑柱下方设有底板，支撑柱与底板固定。
[0019]在一些实施例中，所述入料口6为倒漏斗的形状，入料口6底部口径大于穴位孔3口径，便于加料；所述穴位孔3为碗状凹陷的形状。
[0020]本专利技术的有益效果：本专利技术提出一种防止串料的坩埚装置，其包括：坩埚盖板1和坩埚本体2，坩埚盖板1设于坩埚本体2上方，坩埚本体2上均匀设有多个穴位孔3，其特征在于：所述坩埚盖板1上方设有活动盖板4，所述活动盖板4一端设有凹槽5，凹槽5上连接有入料口6，所述活动盖板4的两侧边对称设有调节装置7，调节装置7靠近坩埚本体2的一端设有滚轮8，所述坩埚本体2上表面边缘均匀间隔设置有多个滑槽9，当滚轮8位于滑槽9内时，调节装置7带动活动盖板4下移，活动盖板4带动入料口6下移，此时其中一个穴位孔3位于入料口6正下方，且坩埚本体2上表面与入料口6下表面完全贴合，当滚轮8滑出滑槽9时，调节装置7带动活动盖板4上移，活动盖板4带动入料口6上移，此时坩埚本体2上表面与入料口6下表面分离。
附图说明
[0021]图1为本专利技术的防止串料的坩埚装置的整体结构示意图。
[0022]图2为本专利技术的防止串料的坩埚装置的上部透视结构示意图。
[0023]图3为本专利技术的防止串料的坩埚装置的去活动盖板结构示意图。
[0024]图4为本专利技术的防止串料的坩埚装置的局部结构示意图。
[0025]图5为本专利技术的防止串料的坩埚装置的坩埚局部结构示意图。
[0026]图6为本专利技术的防止串料的坩埚装置的坩埚局部平面示意图。
[0027]主要元件符号说明
[0028]坩埚盖板1坩埚本体2穴位孔3活动盖板4凹槽5入料口6调节装置7滚轮8滑槽9第一旋转轴10连轴11滑出面12避位槽13第二旋转轴14腰型槽15
[0029]如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本专利技术。
具体实施方式
[0030]描述以下实施例以辅助对本申请的理解，实施例不是也不应当以任何方式解释为限制本申请的保护范围。
[0031]在以下描述中，本领域的技本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种防止串料的坩埚装置，其包括：坩埚盖板(1)和坩埚本体(2)，坩埚盖板(1)设于坩埚本体(2)上方，坩埚本体(2)上均匀设有多个穴位孔(3)，其特征在于：所述坩埚盖板(1)上方设有活动盖板(4)，所述活动盖板(4)一端设有凹槽(5)，凹槽(5)上连接有入料口(6)，所述活动盖板(4)的两侧边对称设有调节装置(7)，调节装置(7)靠近坩埚本体(2)的一端设有滚轮(8)，所述坩埚本体(2)上表面边缘均匀间隔设置有多个滑槽(9)，当滚轮(8)位于滑槽(9)内时，调节装置(7)带动活动盖板(4)下移，活动盖板(4)带动入料口(6)下移，此时其中一个穴位孔(3)位于入料口(6)正下方，且坩埚本体(2)上表面与入料口(6)下表面完全贴合，当滚轮(8)滑出滑槽(9)时，调节装置(7)带动活动盖板(4)上移，活动盖板(4)带动入料口(6)上移，此时坩埚本体(2)上表面与入料口(6)下表面分离。2.如权利要求1所述的防止串料的坩埚装置，其特征在于：所述活动盖板(4)开口向下，用于对坩埚盖板(1)进行一个限位。3.如权利要求1所述的防止串料的坩埚装置，其特征在于：所述活动盖板(4)的两侧边远离入料口(6)一端对称设有第一旋转轴(10)，所述第一旋转轴(10)一端与活动盖板(4)铰接，另一端与坩埚盖板(1)连接，活动盖板(4)可围绕第一旋转轴(10)进行旋转，当滚轮(8)位于滑槽(9)内时，活动盖板(4)与坩埚盖板(1)平行，当滚轮(8)滑出滑槽(9)时，...
【专利技术属性】
技术研发人员：薛蒙晓，杜宝胜，张银丹，
申请(专利权)人：苏州佑伦真空设备科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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