一种可大面积镀膜基板装置制造方法及图纸

本申请提出了一种可大面积镀膜基板装置，所述坩埚组件设置在所述镀膜腔体内，所述基板调节组件设置在镀膜腔体内且与坩埚组件相对设置，所述坩埚组件与基板调节组件之间设置有修正板组件，由于所述坩埚组件距离基本中心投影位置越近，有效蒸发效率越高，因此坩埚组件正上方的镀膜厚度总是最厚的，越远离越薄，修正板组件通过修正板的形状对坩埚组件的蒸发镀膜的较厚的镀膜区进行局部遮挡，从而减少镀膜厚度，以此来控制镀膜均匀性，所述调节螺杆用于调节所述夹持装置相对于坩埚组件的高度，通过调节螺杆以及修正板组件的配合来更好的调节基板镀膜的均匀性，成本低且效率高

【技术实现步骤摘要】
一种可大面积镀膜基板装置


[0001]本专利技术涉及镀膜
，更具体地，涉及一种可大面积镀膜基板装置
。

技术介绍

[0002]在蒸发台设备中，蒸发源被加热蒸发，蒸发的气体呈球面状向外扩散
。
气体扩散到衬底表面时凝结，一段时间后凝结颗粒长大连接形成一层薄膜
。
衬底被装附在呈球面的载体上，一般来说，衬底载体与蒸发源之间距离越大，衬底上生成的膜厚均匀性越好，衬底载体与蒸发源之间距离越小，衬底上生成膜厚均匀性越差
。
而衬底载体与蒸发源之间距离越大要求蒸发环境设备的腔体体积越大，腔体体积越大，腔体制作成本越高
。
[0003]现有技术设计了镀膜机和镀膜控制方法，例如，中国专利
CN111455343A
，公开了镀膜机包括：镀膜腔；靶材组件，设置于所述镀膜腔内；基板固定组件，设置于所述镀膜腔内，且与所述靶材组件相对设置；挡板，用于改变从所述靶材组件发射的粒子向所述基板固定组件的运动方向，通过设置挡板以改变由靶材组件发射的粒子向基板固定组件的运动方向，这样，能够在避免改变溅射功率和溅射气氛等相关参数的情况下，实现对镀膜速度的调节，有利于简化控制过程以及保持镀膜进程的连续性，提高了镀膜过程的便利程度
。
[0004]然而，该专利中的挡板只能够进行水平移动，同时，是通过分别移动挡板，交替的使得两个靶材组件分别进行镀膜，起到的是一个完全遮挡与完全不遮挡的一个作用，并不能起到修正的作用
。
[0005]有鉴于此，本专利技术提供一种可大面积镀膜基板装置，能够通过修正板
(
挡板
)
和基板调节件组件的配合工作，达到完整且均匀镀膜
。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于，提供一种可大面积镀膜基板装置，能够通过修正板
(
挡板
)
和基板调节件组件的配合工作，达到完整且均匀镀膜
。
[0007]本申请提出了一种可大面积镀膜基板装置，所述坩埚组件7设置在所述镀膜腔体1内，所述基板调节组件设置在镀膜腔体1内且与坩埚组件7相对设置，所述坩埚组件7与基板调节组件之间设置有修正板组件，由于所述坩埚组件7距离基本中心投影位置越近，有效蒸发效率越高，因此坩埚组件7正上方的镀膜厚度总是最厚的，越远离越薄，修正板组件通过修正板的形状对坩埚组件7的蒸发镀膜的较厚的镀膜区进行局部遮挡，从而减少镀膜厚度，以此来控制镀膜均匀性，所述调节螺杆
32
用于调节所述夹持装置
31
相对于坩埚组件7的高度，通过调节螺杆
32
以及修正板组件的配合来更好的调节基板镀膜的均匀性，成本低且效率高
。
[0008]一种可大面积镀膜基板装置，其包括镀膜腔体1，其特征在于：坩埚组件7设置在所述镀膜腔体1内，坩埚组件7为两个，基板调节组件设置在镀膜腔体1内且与坩埚组件7相对设置，所述坩埚组件7与基板调节组件之间设置有修正板组件，由于所述坩埚组件7距离基本中心投影位置越近，有效蒸发效率越高，因此坩埚组件7正上方的镀膜厚度总是最厚的，
越远离越薄，修正板组件通过修正板的形状对坩埚组件7的蒸发镀膜的较厚的镀膜区进行局部遮挡，从而减少镀膜厚度，以此来控制镀膜均匀性，所述基板调节组件包括用于承载基板的承载板
311
，所述基板为满布凹槽的基板，所述承载板
311
的四角均设有调节螺杆
32
，所述调节螺杆
32
用于调节所述承载板
311
相对于坩埚组件7的高度，所述调节螺杆
32
的上部与升降板5连接，所述升降板5与贯穿镀膜腔体1的回转轴2固定，回转轴2用于动能传递带基板调节组件旋转，使得坩埚组件7的镀膜材料能够镀膜至基板的凹槽内且保证基板凹槽内镀膜的均匀性
。
[0009]进一步的，所述升降板5的上部设有连接板6，用于使得升降板5与回转轴2连接固定
。
[0010]进一步的，所述升降板5的四角均设有第一调节孔，所述调节螺杆
32
的上部穿过对应的第一调节孔，一个第一调节孔连接一根调节螺杆
32。
[0011]进一步的，每个第一调节孔的上部设有第一调节螺母
321
，下部设有第二调节螺母
322
，通过拧松第一调节螺母
321、
第二调节螺母
322
来调节升降板5的高度以及升降板5的平行
。
[0012]进一步的，所述承载板
311
上部设有装载板
312
，所述装载板
312
上部设有盖板
313
，所述装载板
312
用于安装基板，所述装载板
312、
盖板
313
组合安装后用于夹持基板，所述装载板
312、
承载板
311
组合安装后用于承载装载板
312、
盖板
313。
[0013]进一步的，所述装载板
312
为中空结构，所述装载板
312
的内壁四周设有一圈装载台阶
314
，用于承托基板
。
[0014]进一步的，所述装载板
312
的内壁四角为凹型圆弧结构
315
，由于加工需要，便于加工，减少成本
。
[0015]进一步的，所述盖板
313
为中空结构，所述盖板
313
与所述装载板
312
可拆卸连接
。
[0016]进一步的，所述承载板
311
为中空结构，所述承载板
311
的上部靠近其承载板
311
的中空结构处设有一圈承载台阶
316
，用于承托装载板
312
同时，当装载板
312
滑出时，给装载板
312
一个定向的作用
。
[0017]进一步的，所述承载板
311
面对操作台的一侧设有锁接柱
317
，所述锁接柱
317
与装载板
312
通过卡扣
318
卡接，方便拆卸装载板
312。
[0018]进一步的，所述承载板
311
的两侧均设有凸块
319
，所述凸块
319
对应第一调节孔的位置设有第二调节孔，所述调节螺杆
32
的下部穿过对应的第二调节孔，一个第二调节孔连接一根调节螺杆
32。
[0019]进一步的，每个第二调节孔的上部设有第三调节螺母
323
，下部设有第四调节螺母
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种可大面积镀膜基板装置，其包括镀膜腔体
(1)
，其特征在于：坩埚组件
(7)
设置在所述镀膜腔体
(1)
内，坩埚组件
(7)
为两个，基板调节组件设置在镀膜腔体
(1)
内且与坩埚组件
(7)
相对设置，所述坩埚组件
(7)
与基板调节组件之间设置有修正板组件，所述基板调节组件包括用于承载基板的承载板
(311)
，所述基板为满布凹槽的基板，所述承载板
(311)
的四角均设有调节螺杆
(32)
，所述调节螺杆
(32)
用于调节所述承载板
(311)
相对于坩埚组件
(7)
的高度，所述调节螺杆
(32)
的上部与升降板
(5)
连接，所述升降板
(5)
与贯穿镀膜腔体
(1)
的回转轴
(2)
固定，回转轴
(2)
用于动能传递带基板调节组件旋转
。2.
如权利要求1所述的可大面积镀膜基板装置，其特征在于，所述升降板
(5)
的上部设有连接板
(6)
，用于使得升降板
(5)
与回转轴
(2)
连接固定
。3.
如权利要求1所述的可大面积镀膜基板装置，其特征在于，所述升降板
(5)
的四角均设有第一调节孔，所述调节螺杆
(32)
的上部穿过对应的第一调节孔，一个第一调节孔连接一根调节螺杆
(32)。4.
如权利要求3所述的可大面积镀膜基板装置，其特征在于，进一步的，每个第一调节孔的上部设有第一调节螺母
(321)
，下部设有第二调节螺母
(322)
，通过拧松第一调节螺母
(321)、
第二调节螺母
(322)
来调节升降板
(5)
的高度以及升降板
(5)
的平行
。5.
如权利要求1所述的可大面积镀膜基板装置，其特征在于，所述承载板
(311)
上部设有装载板
(312)
，所述装载板
(312)
上部设有盖板
(313)
，所述装载板
(312)
用于安装基板，所述装载板
(312)、
盖板
(313)
组合安装后用于夹持基板，所述装载板
(312)、
承载板
(311)
组合安装后用于承载装载板
(312)、
盖板
(313)。6.
如权利要求1所述的可大面积镀膜基板装置，其特征在于，所述承载板
(311)
为中空结构，所述承载板
...

【专利技术属性】
技术研发人员：顾建强，杜宝胜，
申请(专利权)人：苏州佑伦真空设备科技有限公司，
类型：发明
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