真空镀膜设备制造技术

本申请公开一种真空镀膜设备，涉及真空镀膜技术领域，包括腔体、基板加热机构、抽真空机构、泄放机构、第一真空计和惰性气体充入机构。其中，所述腔体用于进行镀膜。所述基板加热机构与所述腔体相连，用于加热所述腔体内的基板。所述抽真空机构与所述腔体相连，用于对所述腔体进行抽真空。所述抽真空机构包括粗抽组件和高真空组件。所述泄放机构与所述腔体相连，用于解除所述腔体的真空状态。所述第一真空计与所述腔体相连，用于测量所述腔体内的真空度或气压。所述惰性气体充入机构与所述腔体相连，用于向所述腔体内充入惰性气体。本说明书所提供的真空镀膜设备，能提高加热效率，实现对基板的快速加热。现对基板的快速加热。现对基板的快速加热。

【技术实现步骤摘要】
真空镀膜设备


[0001]本说明书涉及真空镀膜
，尤其涉及一种真空镀膜设备。

技术介绍

[0002]在光学和半导体领域，很多器件需要进行镀膜工艺，真空镀膜主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀等类型，它们都是采用在高真空的条件下，通过蒸馏或溅射等方式在基板表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点。
[0003]在对基板进行镀膜前，需先对基板进行加热处理。为了防止在加热过程中基板以及腔体内的部件在高温下发生氧化等反应，使用加热机构对基板进行加热需要在真空条件下进行。
[0004]而由于真空条件下只能通过热辐射来实现加热，导致加热效率不高，尤其对于热容量大的基板承载机构(例如三级行星机构)，加热过程将是一个非常缓慢的过程，严重影响生产效率。

技术实现思路

[0005]鉴于现有技术的不足，本说明书的一个目的是提供一种真空镀膜设备，能提高加热效率，实现对基板的快速加热。
[0006]为达到上述目的，本说明书实施方式提供一种真空镀膜设备，包括：
[0007]用于进行镀膜的腔体；
[0008]与所述腔体相连的基板加热机构，用于加热所述腔体内的基板；
[0009]与所述腔体相连的抽真空机构，用于对所述腔体进行抽真空；所述抽真空机构包括粗抽组件和高真空组件；
[0010]与所述腔体相连的泄放机构，用于解除所述腔体的真空状态；
[0011]与所述腔体相连的第一真空计，用于测量所述腔体内的真空度或气压；
[0012]与所述腔体相连的惰性气体充入机构，用于向所述腔体内充入惰性气体。
[0013]作为一种优选的实施方式，所述惰性气体充入机构包括氮气源、连接所述氮气源和所述腔体的第一进气管道、以及设置在所述第一进气管道上的第一阀门。
[0014]作为一种优选的实施方式，所述惰性气体充入机构包括氩气源、连接所述氩气源和所述腔体的第二进气管道、以及设置在所述第二进气管道上的第二阀门。
[0015]作为一种优选的实施方式，所述第二进气管道和第一进气管道靠近所述腔体的部分为共用管道。
[0016]作为一种优选的实施方式，所述粗抽组件包括机械泵、连接所述机械泵和所述腔体的第一管道、以及设置在所述第一管道上的闸阀、粗抽阀和慢粗抽阀，所述闸阀靠近所述机械泵设置，所述粗抽阀和慢粗抽阀靠近所述腔体设置，所述粗抽阀的排气速度大于所述慢粗抽阀的排气速度。
[0017]作为一种优选的实施方式，所述机械泵包括依次相连的旋片泵和罗茨泵，所述罗茨泵位于所述旋片泵和所述腔体之间。
[0018]作为一种优选的实施方式，所述第一管道上设有第二真空计，用于测量所述第一管道内的真空度或气压。
[0019]作为一种优选的实施方式，所述高真空组件包括辅助阀、高真空泵、第二管道和冷冻机，所述第二管道的一端与所述第一管道连通且位于所述闸阀和所述粗抽阀之间，另一端与所述腔体连通；所述高真空泵和所述辅助阀位于所述第二管道上；所述冷冻机通过冷阱线圈和所述腔体连通。
[0020]作为一种优选的实施方式，所述高真空泵采用分子泵、罗茨泵、冷凝泵中的一种；所述第二管道有多个，每个所述第二管道上设有一个所述高真空泵和一个所述辅助阀。
[0021]作为一种优选的实施方式，所述泄放机构包括并联的泄放阀和细泄放阀，所述泄放阀的排气速度大于所述细泄放阀的排气速度；所述泄放阀和细泄放阀通过泄放管道与所述腔体相连通。
[0022]有益效果：
[0023]本实施方式所提供的真空镀膜设备，设置用于进行镀膜的腔体、以及与腔体相连的基板加热机构、抽真空机构、泄放机构、第一真空计和惰性气体充入机构，在基板加热机构加热腔体内的基板时，惰性气体充入机构可以向腔体内导入惰性气体，使得加热时除了有辐射加热，还有传导和对流加热，从而提高加热效率，实现对基板的快速加热。同时，抽真空机构包括粗抽组件和高真空组件，第一真空计可以实时测量腔体内的真空度或气压，辅助抽真空机构实现对腔体的抽真空，泄放机构可以平稳地解除腔体的真空状态。
[0024]参照后文的说明和附图，详细公开了本技术的特定实施方式，指明了本技术的原理可以被采用的方式。应该理解，本技术的实施方式在范围上并不因而受到限制。
[0025]针对一种实施方式描述和/或示出的特征可以以相同或类似的方式在一个或更多个其它实施方式中使用，与其它实施方式中的特征相组合，或替代其它实施方式中的特征。
[0026]应该强调，术语“包括/包含”在本文使用时指特征、整件、步骤或组件的存在，但并不排除一个或更多个其它特征、整件、步骤或组件的存在或附加。
附图说明
[0027]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0028]图1为本实施方式中所提供的一种真空镀膜设备的结构示意图。
[0029]附图标记说明：
[0030]1、腔体；
[0031]2、基板加热机构；
[0032]3、粗抽组件；31、机械泵；311、旋片泵；312、罗茨泵；32、第一管道；33、闸阀；34、粗抽阀；35、慢粗抽阀；
[0033]4、高真空组件；41、辅助阀；42、高真空泵；43、第二管道；44、冷冻机；45、冷阱线圈；
[0034]5、泄放机构；51、泄放阀；52、细泄放阀；53、泄放管道；
[0035]6、惰性气体充入机构；61、氮气源；62、第一进气管道；63、第一阀门；64、氩气源；65、第二进气管道；66、第二阀门；67、共用管道；
[0036]7、第一真空计；8、第二真空计。
具体实施方式
[0037]为了使本
的人员更好地理解本技术中的技术方案，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本技术保护的范围。
[0038]需要说明的是，当元件被称为“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的另一个元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中另一个元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
[0039]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括：用于进行镀膜的腔体；与所述腔体相连的基板加热机构，用于加热所述腔体内的基板；与所述腔体相连的抽真空机构，用于对所述腔体进行抽真空；所述抽真空机构包括粗抽组件和高真空组件；与所述腔体相连的泄放机构，用于解除所述腔体的真空状态；与所述腔体相连的第一真空计，用于测量所述腔体内的真空度或气压；与所述腔体相连的惰性气体充入机构，用于向所述腔体内充入惰性气体。2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述惰性气体充入机构包括氮气源、连接所述氮气源和所述腔体的第一进气管道、以及设置在所述第一进气管道上的第一阀门。3.根据权利要求1或2所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述惰性气体充入机构包括氩气源、连接所述氩气源和所述腔体的第二进气管道、以及设置在所述第二进气管道上的第二阀门。4.根据权利要求3所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第二进气管道和第一进气管道靠近所述腔体的部分为共用管道。5.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述粗抽组件包括机械泵、连接所述机械泵和所述腔体的第一管道、以及设置在所述第一管道上的闸阀、粗抽阀和慢粗抽阀，所述闸阀靠近所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王怀民，葛鹤龄，姜友松，
申请(专利权)人：安徽其芒光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：