本实用新型专利技术涉及一种角度调节装置及相应的物理气相沉积装置，其中，角度调节装置包括固定法兰、活动法兰及数个调节螺栓组件；固定法兰用于连接待调节设备的固定部，活动法兰用于连接待调节设备的待调节部；固定法兰与活动法兰上分别设有数个螺栓连接孔，且固定法兰与活动法兰相对而设，数个调节螺栓组件分别用于连接固定法兰及活动法兰上对应的螺栓连接孔，以实现对固定法兰与活动法兰的连接，并且可通过调节各个调节螺栓组件与对应的固定法兰及活动法兰上的螺栓连接孔的相对位置来调节固定法兰与活动法兰之间的相对夹角。该角度调节装置及包括该角度调节装置的物理气相沉积装置具备结构简单、易于调节、性能良好、适应性广泛的特点。泛的特点。泛的特点。
【技术实现步骤摘要】
角度调节装置及相应的物理气相沉积装置
[0001]本技术涉及机械领域，尤其涉及一种设备调节
，具体涉及一种角度调节装置及相应的物理气相沉积装置。
技术介绍
[0002]随着现有技术一些装置趋向于小型化及精细化等方向地发展，对于相关加工设备的精细度也越来越高，同时，在一些应用领域同一设备可能需要对不同部件进行加工，这就导致一台设备可能需要具备一定地可调节性才能满足上述需求。
[0003]例如，真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。为了提高镀膜过程中的加工精度，现有技术通常是通过把基材旋转起来，以求能达到消除靶材和基片的之间因角度、磁场分布不均等问题造成的基片镀膜均匀性差的问题。但通过应用证明，现有技术确实有一定的效果，但是效果仍然很不理想。因为零件加工中存在一定制造误差，装配当中，也存在一定的装配误差。这些都是造成磁极和基片不平行的因素，从而对基材镀膜的均匀性起到严重的影响。
[0004]这就导致现有技术中急需一种操作方便、调节灵活地调节装置解决上述问题。
技术实现思路
[0005]有鉴于现有技术的上述缺陷，本技术设计了一种操作方便、性能良好、实用性好的角度调节装置及相应的物理气相沉积装置。
[0006]为了实现上述目的，本技术的角度调节装置及相应的物理气相沉积装置如下：
[0007]该角度调节装置，其主要特点是，所述角度调节装置包括固定法兰、活动法兰及数个调节螺栓组件；
[0008]所述固定法兰用于连接待调节设备的固定部，所述活动法兰用于连接所述待调节设备的待调节部；
[0009]所述固定法兰与所述活动法兰上分别设有数个螺栓连接孔，且所述固定法兰与所述活动法兰相对而设，数个所述调节螺栓组件分别用于连接所述固定法兰及所述活动法兰上对应的所述螺栓连接孔，以实现对所述固定法兰与活动法兰的连接，并且可通过调节各个所述调节螺栓组件与对应的所述固定法兰及所述活动法兰上的螺栓连接孔的相对位置来调节所述固定法兰与所述活动法兰之间的相对夹角。
[0010]上述的角度调节装置，其中，各所述调节螺栓组件包括双头螺柱及两个支撑螺母；
[0011]所述双头螺柱的第一端与所述固定法兰中的对应螺栓连接孔螺纹连接；
[0012]所述双头螺柱的第二端穿过所述活动法兰中对应螺栓连接孔，由螺纹连接于该双头螺柱上的两个所述支撑螺母夹装于所述活动法兰中对应螺栓连接孔的两侧。
[0013]上述的角度调节装置，其中，所述支撑螺母的一端面呈圆弧型，连接于所述双头螺柱上的两个所述支撑螺母中呈圆弧型的一面相对设置地夹装于所述活动法兰中对应螺栓
连接孔的两侧。
[0014]上述的角度调节装置，其中，所述调节螺栓组件还包括两个锁紧螺母，两个所述锁紧螺母均螺纹连接于所述双头螺柱上，且两个所述锁紧螺母分别与两个所述支撑螺母中不呈圆弧型的一面相抵。
[0015]上述的角度调节装置，其中，所述角度调节装置还包括弹性密封套，所述弹性密封套设于所述固定法兰与所述活动法兰之间，且所述弹性密封套的两端分别固定于所述固定法兰与所述活动法兰中相对的两面上。
[0016]上述的角度调节装置，其中，所述弹性密封套由波纹管构成。
[0017]上述的角度调节装置，其中，所述固定法兰中用于与所述待调节设备的固定部相接触的位置设有第一密封圈；
[0018]所述活动法兰中用于与所述待调节设备的待调节部相接触的位置设有第二密封圈。
[0019]该物理气相沉积装置，其主要特征是，所述物理气相沉积装置包括腔体、基片平台、电机、磁流体密封机构、磁极、靶材及上述的角度调节装置；
[0020]所述腔体包括上盖腔体部和下腔体部，所述上盖腔体部盖合于所述下腔体部上，并在所述上盖腔体部和所述下腔体部之间形成中空的腔室；
[0021]由所述上盖腔体部构成所述待调节设备的固定部，所述固定法兰固定于所述上盖腔体部上；
[0022]由所述磁流体密封机构构成所述待调节设备的待调节部，所述磁流体密封机构的固定端固定于所述活动法兰上，所述磁流体密封机构的磁极连接端依次穿过所述活动法兰上的通孔、所述固定法兰上的通孔及所述上盖腔体部上的通孔与位于所述腔室中的所述磁极相连接；
[0023]所述基片平台设于所述下腔体部处与所述磁极相对的位置；
[0024]所述靶材位于所述磁极与所述基片平台之间，且所述靶材固定于所述上盖腔体部上；
[0025]所述电机固定于所述磁流体密封机构的固定端上。
[0026]上述物理气相沉积装置，其中，所述固定法兰通过对应的第一螺栓固定于所述上盖腔体部上；
[0027]所述磁流体密封机构的固定端通过对应的第二螺栓固定于所述活动法兰上。
[0028]上述物理气相沉积装置，其中，所述固定法兰中与所述上盖腔体部接触的一面上设有第一密封圈安装槽，所述第一密封圈安装槽内设有第一密封圈。
[0029]上述物理气相沉积装置，其中，所述活动法兰中与所述磁流体密封机构的固定端相接触的一面上设有第二密封圈安装槽，所述第二密封圈安装槽内设有第二密封圈。
[0030]本技术的角度调节装置及相应的物理气相沉积装置具备以下有益效果：
[0031]该角度调节装置可利用数个调节螺栓组件调节固定法兰与所述活动法兰之间的相对夹角，从而带动待调节设备的待调节部相对于待调节设备的固定部进行相对夹角的调整，调节过程十分方便、且易于操作，特别适合对于微小角度的调整。而采用该角度调节装置的物理气相沉积装置，可利用角度调节装置方便地对磁极与基片平台的相对夹角进行调整，操作十分方便，有效满足精细化生产地必要，保障基材镀膜操作的均匀性。该角度调节
装置及相应的物理气相沉积装置具备结构简单、易于调节、性能良好、适应性广泛的特点。
附图说明
[0032]以下将结合附图对本技术的构思、具体结构及产生的技术效果作进一步说明，以充分地了解本技术的目的、特征和效果。
[0033]图1是一实施例中本技术的角度调节装置中的固定法兰、活动法兰及弹性密封套的相对位置示意图。
[0034]图2是一实施例中本技术的角度调节装置中的支撑螺母的结构示意图。
[0035]图3是一实施例中本技术的角度调节装置中的双头螺柱的结构示意图。
[0036]图4是一实施例中本技术的物理气相沉积装置的结构示意图。
[0037]图5是一实施例中本技术的物理气相沉积装置的剖面图。
[0038]附图标记
[0039]1固定法兰
[0040]11第一螺栓连接孔
[0041]12第一密封圈安装槽
[0042]2活动法兰
[0043]21第二螺栓连接孔
[0044]22第二密封圈安装槽
[0045]3调节螺栓组件
[0046]31双头螺柱
[0047]32支撑螺母
[0048]3本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种角度调节装置，其特征在于，所述角度调节装置包括固定法兰、活动法兰及数个调节螺栓组件；所述固定法兰用于连接待调节设备的固定部，所述活动法兰用于连接所述待调节设备的待调节部；所述固定法兰与所述活动法兰上分别设有数个螺栓连接孔，且所述固定法兰与所述活动法兰相对而设，数个所述调节螺栓组件分别用于连接所述固定法兰及所述活动法兰上对应的所述螺栓连接孔，以实现对所述固定法兰与活动法兰的连接，并且可通过调节各个所述调节螺栓组件与对应的所述固定法兰及所述活动法兰上的螺栓连接孔的相对位置来调节所述固定法兰与所述活动法兰之间的相对夹角。2.根据权利要求1所述的角度调节装置，其特征在于，各所述调节螺栓组件包括双头螺柱及两个支撑螺母；所述双头螺柱的第一端与所述固定法兰中的对应螺栓连接孔螺纹连接；所述双头螺柱的第二端穿过所述活动法兰中对应螺栓连接孔，由螺纹连接于该双头螺柱上的两个所述支撑螺母夹装于所述活动法兰中对应螺栓连接孔的两侧。3.根据权利要求2所述的角度调节装置，其特征在于，所述支撑螺母的一端面呈圆弧型，连接于所述双头螺柱上的两个所述支撑螺母中呈圆弧型的一面相对设置地夹装于所述活动法兰中对应螺栓连接孔的两侧。4.根据权利要求3所述的角度调节装置，其特征在于，所述调节螺栓组件还包括两个锁紧螺母，两个所述锁紧螺母均螺纹连接于所述双头螺柱上，且两个所述锁紧螺母分别与两个所述支撑螺母中不呈圆弧型的一面相抵。5.根据权利要求1所述的角度调节装置，其特征在于，所述角度调节装置还包括弹性密封套，所述弹性密封套设于所述固定法兰与所述活动法兰之间，且所述弹性密封套的两端分别固定于所述固定法兰与所述活动法兰中相对的两面上。6.根据权利要求4所述的角度调节装置，其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄善发，臧宇，王祎翱，
申请(专利权)人：盛吉盛半导体科技无锡有限公司，
类型：新型
国别省市：
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