一种压力阀及其控制方法、计算机可读存储介质技术

本发明专利技术涉及压力控制阀技术领域，具体为一种压力阀及其控制方法、计算机可读存储介质，压力阀包括自学习模块、压力PID控制器、位置PID控制器、电机驱动模块、执行器和阀体；位置PID控制器根据阀体开度角的位置误差误重新调节开度角；自学习模块实时采集当前压力、阀体开度角的实际位置，并结合上位机发送的当前上游流量，为压力PID控制器、位置PID控制器计算PID参数。本发明专利技术通过自学习模块实时确定压力PID控制器的PD比例系数和位置PID控制器的PI比例系数，压力阀无需进行专门的学习过程即能保持稳定阀体在合适的开度角下作业，提高在生产环节中对产品质量的控制。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及压力控制阀，具体为一种压力阀及其控制方法、计算机可读存储介质。

技术介绍

1、在半导体制造设备中，压力阀是一种很常用的设备，该阀一般用于下游的压力控制系统，用于稳定工艺腔体内的气体压力在设定值上，气体压力的稳定与加工产品的质量有直接的关系。

2、图1为现有技术中半导体沉积设备的工艺腔体压力控制系统，图2为现有技术中工艺腔体的压力阀1的结构框图；如图1和图2所示，通常的压力控制系统主要由上游的流量控制阀3，工艺腔体2和下游的压力阀1组成，通过流量控制阀3向工艺腔体2内注入一定流量的气体，压力阀1通过控制阀体10的开度，来控制流出工艺腔体的气体流量，从而来稳定工艺腔体的气体压力。压力阀1一般由阀体10、执行器9和控制器4组成；控制器4根据外部的压力传感器12提供的工艺腔体压力信号，以及上位机13提供的设定目标压力，通过执行器控制阀体10的开度，从而控制腔体的压力。

3、半导体设备如cvd、pvd技术的工艺范围很宽，针对不同的流量和压力，需要压力阀1在很大的范围内保证稳定的工作状态和控制精度；由于压力阀1内的阀体10（一般是本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种压力阀，其特征在于，所述压力阀包括：自学习模块（5）、压力PID控制器（6）、位置PID控制器（7）、电机驱动模块（8）、执行器（9）和阀体（10）；

2.根据权利要求1所述的压力阀，其特征在于，所述自学习模块（5）采用Kalman滤波算法为所述压力PID控制器（6）、位置PID控制器（7）计算PID参数。

3.根据权利要求2所述的压力阀，其特征在于，所述自学习模块（5）采用Kalman滤波算法计算PID参数，包括以下步骤：

4.根据权利要求3所述的压力阀，其特征在于，所述Kalman滤波算法包括：

5.根据权利要求4所述的压力阀，...

【技术特征摘要】

1.一种压力阀，其特征在于，所述压力阀包括：自学习模块（5）、压力pid控制器（6）、位置pid控制器（7）、电机驱动模块（8）、执行器（9）和阀体（10）；

2.根据权利要求1所述的压力阀，其特征在于，所述自学习模块（5）采用kalman滤波算法为所述压力pid控制器（6）、位置pid控制器（7）计算pid参数。

3.根据权利要求2所述的压力阀，其特征在于，所述自学习模块（5）采用kalman滤波算法计算pid参数，包括以下步骤：

4.根据权利要求3所述的压力阀，其特征在于，所述kalman滤波算法包括：

5.根据权利要求4所述的压力阀，其特征在于，s4中，压力pid控制器（6）采用pd调节，位置pid控制器（7）采用pi调节；系统闭环模型（52）...

【专利技术属性】
技术研发人员：邹中辉，金帅，
申请(专利权)人：盛吉盛半导体科技无锡有限公司，
类型：发明
国别省市：