真空镀膜设备的排气加热方法技术

本申请公开一种真空镀膜设备的排气加热方法，涉及真空镀膜技术领域。该真空镀膜设备包括腔体、以及均与腔体相连的加热机构、抽真空机构和惰性气体充入机构。抽真空机构包括粗抽组件和高真空组件。排气加热方法包括以下步骤：启动粗抽组件，将腔体内的压力抽至第一预定值；关闭粗抽组件，开启加热机构和惰性气体充入机构，向腔体内充入惰性气体；当腔体内的压力达到第二预定值后，关闭惰性气体充入机构；当腔体内的基板温度达到第三预定值后，启动粗抽组件；当腔体内的压力达到第四预定值后，启动高真空组件，将腔体内的压力抽至镀膜预定值。本说明书所提供的真空镀膜设备的排气加热方法，能提高加热效率，实现对基板的快速加热。加热。加热。

【技术实现步骤摘要】
真空镀膜设备的排气加热方法


[0001]本说明书涉及真空镀膜
，尤其涉及一种真空镀膜设备的排气加热方法。

技术介绍

[0002]在光学和半导体领域，很多器件需要进行镀膜工艺，真空镀膜主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀等类型，它们都是采用在高真空的条件下，通过蒸馏或溅射等方式在基板表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点。
[0003]在对基板进行镀膜前，需先对基板进行加热处理。为了防止在加热过程中基板以及腔体内的部件在高温下发生氧化等反应，使用加热机构对基板进行加热需要在真空条件下进行。
[0004]而由于真空条件下只能通过热辐射来实现加热，导致加热效率不高，尤其对于热容量大的基板承载机构(例如三级行星机构)，加热过程将是一个非常缓慢的过程，严重影响生产效率。

技术实现思路

[0005]鉴于现有技术的不足，本说明书的一个目的是提供一种真空镀膜设备的排气加热方法，能提高加热效率，实现对基板的快速加热。
[0006]为达到上述目的，本说明书实施方式提供一种真空镀膜设备的排气加热方法，所述真空镀膜设备包括腔体、以及均与所述腔体相连的加热机构、抽真空机构和惰性气体充入机构，所述抽真空机构包括粗抽组件和高真空组件；所述排气加热方法包括以下步骤：
[0007]启动所述粗抽组件，将所述腔体内的压力抽至第一预定值；
[0008]关闭所述粗抽组件，开启所述加热机构和惰性气体充入机构，向所述腔体内充入惰性气体；/>[0009]当所述腔体内的压力达到第二预定值后，关闭所述惰性气体充入机构；
[0010]当所述腔体内的基板温度达到第三预定值后，启动所述粗抽组件；
[0011]当所述腔体内的压力达到第四预定值后，启动所述高真空组件，将所述腔体内的压力抽至镀膜预定值。
[0012]作为一种优选的实施方式，所述第一预定值为5Pa～200Pa。
[0013]作为一种优选的实施方式，所述粗抽组件包括机械泵、连接所述机械泵和所述腔体的第一管道、以及设置在所述第一管道上的闸阀、粗抽阀和慢粗抽阀，所述闸阀靠近所述机械泵设置，所述粗抽阀和慢粗抽阀靠近所述腔体设置，所述粗抽阀的排气速度大于所述慢粗抽阀的排气速度；
[0014]所述启动所述粗抽组件，将所述腔体内的压力抽至第一预定值的步骤包括：
[0015]启动所述机械泵，打开所述闸阀和慢粗抽阀，将所述腔体内的压力抽至第五预定值；所述第五预定值大于所述第一预定值；
[0016]打开所述粗抽阀，将所述腔体内的压力抽至第一预定值。
[0017]作为一种优选的实施方式，所述第一预定值为10Pa，所述第五预定值为104Pa～5
×
104Pa。
[0018]作为一种优选的实施方式，所述惰性气体充入机构包括氮气源、连接所述氮气源和所述腔体的第一进气管道、以及设置在所述第一进气管道上的第一阀门；和/或，所述惰性气体充入机构包括氩气源、连接所述氩气源和所述腔体的第二进气管道、以及设置在所述第二进气管道上的第二阀门；
[0019]所述开启所述惰性气体充入机构的步骤包括：打开所述第一阀门和/或所述第二阀门。
[0020]作为一种优选的实施方式，所述第二预定值为5
×
104Pa。
[0021]作为一种优选的实施方式，当所述腔体内的基板温度达到第三预定值后，所述加热机构进入温度保持状态，同时开启粗抽阀和慢粗抽阀。
[0022]作为一种优选的实施方式，所述第四预定值为5Pa～200Pa；优选地，所述第四预定值为10Pa。
[0023]作为一种优选的实施方式，所述高真空组件包括辅助阀、高真空泵和第二管道；所述第二管道的一端与第一管道连通且位于闸阀和粗抽阀之间，另一端与所述腔体连通；所述高真空泵和所述辅助阀位于所述第二管道上；
[0024]当所述腔体内的压力达到第四预定值后，关闭粗抽阀和慢粗抽阀，开启辅助阀和高真空泵，将所述腔体内的压力抽至镀膜预定值。
[0025]作为一种优选的实施方式，所述高真空组件还包括冷冻机，所述冷冻机通过冷阱线圈和所述腔体连通；所述开启辅助阀和高真空泵的步骤后，还包括：开启冷冻机。
[0026]有益效果：
[0027]本实施方式所提供的真空镀膜设备的排气加热方法，先使用粗抽组件将腔体内的压力抽至第一预定值，再开启加热机构和惰性气体充入机构，在加热腔体内的基板的同时向腔体内充入惰性气体，惰性气体使得加热时除了有辐射加热，还有传导和对流加热，从而提高加热效率，实现对基板的快速加热。当腔体内的压力达到第二预定值后，关闭惰性气体充入机构，停止导入惰性气体。当腔体内的基板温度达到第三预定值后，启动粗抽组件；当腔体内的压力达到第四预定值后，启动高真空组件，将腔体内的压力抽至镀膜预定值。粗抽组件和高真空组件可以实现对腔体的抽真空。
[0028]参照后文的说明和附图，详细公开了本专利技术的特定实施方式，指明了本专利技术的原理可以被采用的方式。应该理解，本专利技术的实施方式在范围上并不因而受到限制。
[0029]针对一种实施方式描述和/或示出的特征可以以相同或类似的方式在一个或更多个其它实施方式中使用，与其它实施方式中的特征相组合，或替代其它实施方式中的特征。
[0030]应该强调，术语“包括/包含”在本文使用时指特征、整件、步骤或组件的存在，但并不排除一个或更多个其它特征、整件、步骤或组件的存在或附加。
附图说明
[0031]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本
专利技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0032]图1为本实施方式中所提供的一种真空镀膜设备的排气加热方法的步骤流程图；
[0033]图2为本实施方式中所提供的一种真空镀膜设备的结构示意图；
[0034]图3为本实施方式中所提供的另一种真空镀膜设备的排气加热方法的步骤流程图。
[0035]附图标记说明：
[0036]1、腔体；
[0037]2、加热机构；
[0038]3、粗抽组件；31、机械泵；311、旋片泵；312、罗茨泵；32、第一管道；33、闸阀；34、粗抽阀；35、慢粗抽阀；
[0039]4、高真空组件；41、辅助阀；42、高真空泵；43、第二管道；44、冷冻机；45、冷阱线圈；
[0040]5、泄放机构；51、泄放阀；52、细泄放阀；53、泄放管道；
[0041]6、惰性气体充入机构；61、氮气源；62、第一进气管道；63、第一阀门；64、氩气源；65、第二进气管道；66、第二阀门；67、共用管道；
[0042]7、第一真空计；8、第二真空计。
具体实施方式
[0043]为了使本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜设备的排气加热方法，其特征在于，所述真空镀膜设备包括腔体、以及均与所述腔体相连的加热机构、抽真空机构和惰性气体充入机构，所述抽真空机构包括粗抽组件和高真空组件；所述排气加热方法包括以下步骤：启动所述粗抽组件，将所述腔体内的压力抽至第一预定值；关闭所述粗抽组件，开启所述加热机构和惰性气体充入机构，向所述腔体内充入惰性气体；当所述腔体内的压力达到第二预定值后，关闭所述惰性气体充入机构；当所述腔体内的基板温度达到第三预定值后，启动所述粗抽组件；当所述腔体内的压力达到第四预定值后，启动所述高真空组件，将所述腔体内的压力抽至镀膜预定值。2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备的排气加热方法，其特征在于，所述第一预定值为5Pa～200Pa。3.根据权利要求1所述的真空镀膜设备的排气加热方法，其特征在于，所述粗抽组件包括机械泵、连接所述机械泵和所述腔体的第一管道、以及设置在所述第一管道上的闸阀、粗抽阀和慢粗抽阀，所述闸阀靠近所述机械泵设置，所述粗抽阀和慢粗抽阀靠近所述腔体设置，所述粗抽阀的排气速度大于所述慢粗抽阀的排气速度；所述启动所述粗抽组件，将所述腔体内的压力抽至第一预定值的步骤包括：启动所述机械泵，打开所述闸阀和慢粗抽阀，将所述腔体内的压力抽至第五预定值；所述第五预定值大于所述第一预定值；打开所述粗抽阀，将所述腔体内的压力抽至第一预定值。4.根据权利要求3所述的真空镀膜设备的排气加热方法，其特征在于，所述第一预定值为10Pa，所述第五预定值为104Pa～5
×
104Pa。5.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：王怀民，葛鹤龄，姜友松，
申请(专利权)人：安徽其芒光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：