一种塑料管材溅镀系统技术方案

本发明专利技术属于镀膜技术领域，具体的说是一种塑料管材溅镀系统，包括溅镀箱，溅镀箱上设置有工件架；溅镀箱内设置有真空模块和靶材；溅镀箱外部设置有牵引机构；积渣模块用于对溅镀箱内壁的溅射粒子进行处理；在溅镀箱内壁位置的积渣模块中设置有回收板；回收板用于吸附溅射粒子；本发明专利技术解决了塑料管材溅镀设备在溅镀过程中一部分的溅射粒子会在溅镀箱内壁上沉积，由于溅射粒子与溅镀箱内壁的结合力较弱，当溅射粒子再次溅射到溅镀箱内壁时，容易使得之前沉积的粒子脱落形成碎渣，若这些碎渣掉落到靶材的表面会严重影响镀膜的质量的问题。到靶材的表面会严重影响镀膜的质量的问题。到靶材的表面会严重影响镀膜的质量的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种塑料管材溅镀系统


[0001]本专利技术属于镀膜
，具体的说是一种塑料管材溅镀系统。

技术介绍

[0002]溅镀，通常指的是磁控溅镀，属于高速低温溅镀法。该工艺要求真空度在1
×
10
‑
3Torr左右，即1.3
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10
‑
3Pa的真空状态充入惰性气体氩气(Ar)，并在塑胶基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直流电，由于辉光放电(glow discharge)产生的电子激发惰性气体，产生等离子体，等离子体将金属靶材的原子轰出，沉积在塑胶基材上。但现有的塑胶管材溅镀装置，多数溅镀塑胶管材都存在缺陷，溅镀不均匀，整个溅镀过程效率低；溅射镀膜膜厚的均匀性是间接衡量镀膜工艺的最终标准之一，涉及镀膜过程的各个方面。
[0003]在溅镀的过程中，影响溅镀膜厚均衡性的因素主要有靶材和基体的距离、塑料管材的运动形式、溅射的功率、工作的气压和靶材的形状等影响因素；靶材与基体的距离和工作气压又存在沉积速率和均匀性之间平衡的问题。
[0004]在实际生产中，溅射粒子本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种塑料管材溅镀系统，包括控制器；溅镀箱(1)，所述溅镀箱(1)上设置有工件架(2)；所述溅镀箱(1)内设置有真空模块(3)和靶材(4)；所述溅镀箱(1)外部设置有牵引机构(5)；牵引机构(5)用于牵引塑料管材在溅镀箱(1)内移动，其特征在于：该溅镀系统还包括：积渣模块，所述积渣模块用于对溅镀箱(1)内壁的溅射粒子进行处理；在溅镀箱(1)内壁位置的所述积渣模块中设置有回收板(81)；所述回收板(81)采用具有吸附作用的材料。2.根据权利要求1所述的一种塑料管材溅镀系统，其特征在于：所述回收板(81)采用全氟橡胶制成，所述回收板(81)表面设置有凹坑。3.根据权利要求1或2所述的一种塑料管材溅镀系统，其特征在于：所述溅镀箱(1)后端固连有电动伸缩杆(82)；电动伸缩杆(82)前端的两侧均固连有收渣盒(83)；所述收渣盒(83)的下端一体成型有收渣板(84)，所述收渣盒(83)的前端一体成型有刮渣板(85)。4.根据权利要求3所述的一种塑料管材溅镀系统，其特征在于：所述刮渣板(85)前端靠近溅镀箱(1)内壁的一侧设置有双弯钩型的刮钩(86)；所述收渣盒(83)与电动伸缩杆(82)可拆卸连接。5.根据权利要求4所述的一种塑料管材溅镀系统，其特征在于：所述刮钩(86)的前端设置有一体成...

【专利技术属性】
技术研发人员：马续峰，赵坤，
申请(专利权)人：马续峰，
类型：发明
国别省市：