一种引线框架高精度单双面曝光机制造技术

本发明专利技术公开了一种引线框架高精度单双面曝光机，涉及引线框架技术领域，包括曝光箱体，曝光箱体内开设有曝光腔体；还包括贯穿曝光腔体的支撑架，支撑架布设有两组且呈相对布设，支撑架上可滑动布设有定位框架，定位框架中相对固定布设定位板，两侧定位板与定位框架围合形成用于放置工件的定位槽；其中，定位板底部可滑动布设有第一承载组件以及第二承载组件，第一承载组件与第二承载组件用于交替承托放置于定位槽中的工件，本发明专利技术通过在引线框架两侧同步设置曝光机本体，使得在输送的过程中可以对其进行双面曝光处理，有效提高了曝光效率，自动化程度更高。自动化程度更高。自动化程度更高。

【技术实现步骤摘要】
一种引线框架高精度单双面曝光机


[0001]本专利技术涉及引线框架
，具体涉及一种引线框架高精度单双面曝光机。

技术介绍

[0002]引线框架是半导体封装的基础材料，是集成线路芯片的载体，生产引线框架的主要材料是铜合金，主要通过冲压的方式生产，冲压完成后需要对引线框架进行蚀刻，以实现高密度和多脚数引线框架的生产。
[0003]在现有技术中，如公告号为CN111640726A的专利文件公开了一种引线框架激光的曝光工艺，同步公开了包括压膜辊、干膜辊以及预热装置，预热装置和压膜辊沿引线框架的输送方向依次设置，压膜辊沿引线框架的输送方向并排设置有若干对，且压膜辊为加热辊，干膜辊与压膜辊设置预热装置的同一侧，干膜辊有设置在引线框架两侧的两个；
[0004]但是在实际应用过程中，由于引线框架自身重力的影响，使得引线框架在输送的过程中，其表面无法保持绝对水平的状态，进而影响曝光机的曝光效果以及曝光精度；
[0005]在现有技术中，为了降低引线框架自身重力的影响，需要在引线框架底部设置支撑装置对其进行支撑，将曝光机设置在其上方，以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种引线框架高精度单双面曝光机，包括曝光箱体(1)，其特征在于，所述曝光箱体(1)内开设有曝光腔体(101)；还包括贯穿曝光腔体(101)的支撑架(2)，支撑架(2)布设有两组且呈相对布设，支撑架(2)上可滑动布设有定位框架(4)，定位框架(4)中相对固定布设定位板(408)，两侧定位板(408)与定位框架(4)围合形成用于放置工件的定位槽(403)；其中，所述定位板(408)底部可滑动布设有第一承载组件以及第二承载组件，第一承载组件与第二承载组件用于交替承托置于定位槽(403)中的工件。2.根据权利要求1所述的一种引线框架高精度单双面曝光机,其特征在于，所述支撑架(2)上布设有第一齿条板(201)，其中，定位框架(4)两侧相对转动布设有与第一齿条板(201)啮合的第一齿轮(601)，一侧第一齿轮(601)与第一电机(6)输出端固定连接。3.根据权利要求2所述的一种引线框架高精度单双面曝光机,其特征在于，所述定位框架(4)中相对可转动布设转轴(5)，转轴(5)两端分别通过皮带轮机构(602)与第一齿轮(601)传动连接。4.根据权利要求3所述的一种引线框架高精度单双面曝光机,其特征在于，所述第一承载组件包括相对可滑动布设于定位板(408)底部的第一承托板(505)，第一承托板(505)与驱动其往复滑动的第一调节模块连接。5.根据权利要求3所述的一种引线框架高精度单双面曝光机,其特征在于，所述第二承载组件包括相对可滑动布设于定位板(408)底部的第二承托板(506)，第二承托板(506)与驱动其往复滑动的第二调节模块连接。6.根据权利要求4所述的一种引线框架高精度单双面曝光机,其特征在于，所述第一调节模块包括固定布设于转轴(5)上的第一半齿轮(501)，定位框架(4)一侧...

【专利技术属性】
技术研发人员：高小平，
申请(专利权)人：安徽立德半导体材料有限公司，
类型：发明
国别省市：