一种引线框架高精度单双面曝光机制造技术

本发明专利技术公开了一种引线框架高精度单双面曝光机，涉及引线框架技术领域，包括曝光箱体，曝光箱体内开设有曝光腔体；还包括贯穿曝光腔体的支撑架，支撑架布设有两组且呈相对布设，支撑架上可滑动布设有定位框架，定位框架中相对固定布设定位板，两侧定位板与定位框架围合形成用于放置工件的定位槽；其中，定位板底部可滑动布设有第一承载组件以及第二承载组件，第一承载组件与第二承载组件用于交替承托放置于定位槽中的工件，本发明专利技术通过在引线框架两侧同步设置曝光机本体，使得在输送的过程中可以对其进行双面曝光处理，有效提高了曝光效率，自动化程度更高。自动化程度更高。自动化程度更高。

【技术实现步骤摘要】
一种引线框架高精度单双面曝光机


[0001]本专利技术涉及引线框架
，具体涉及一种引线框架高精度单双面曝光机。

技术介绍

[0002]引线框架是半导体封装的基础材料，是集成线路芯片的载体，生产引线框架的主要材料是铜合金，主要通过冲压的方式生产，冲压完成后需要对引线框架进行蚀刻，以实现高密度和多脚数引线框架的生产。
[0003]在现有技术中，如公告号为CN111640726A的专利文件公开了一种引线框架激光的曝光工艺，同步公开了包括压膜辊、干膜辊以及预热装置，预热装置和压膜辊沿引线框架的输送方向依次设置，压膜辊沿引线框架的输送方向并排设置有若干对，且压膜辊为加热辊，干膜辊与压膜辊设置预热装置的同一侧，干膜辊有设置在引线框架两侧的两个；
[0004]但是在实际应用过程中，由于引线框架自身重力的影响，使得引线框架在输送的过程中，其表面无法保持绝对水平的状态，进而影响曝光机的曝光效果以及曝光精度；
[0005]在现有技术中，为了降低引线框架自身重力的影响，需要在引线框架底部设置支撑装置对其进行支撑，将曝光机设置在其上方，以此进行单面曝光，但是在一面曝光完成后，需要将引线框架进行翻转以对另一面进行曝光，为了提高曝光效果，现有技术通常在其底部对称设置曝光机进行曝光；
[0006]然而在输送架底部也设置曝光机进行曝光时，由于支撑装置对其下表面的遮挡，使得其下表面部分位置无法曝光，因此无法对引线框架进行同步双面曝光处理，仍然需要进行再次翻转，难以满足曝光需求。

技术实现思路

[0007]本专利技术的目的在于提供一种引线框架高精度单双面曝光机，解决以下技术问题：
[0008]一面曝光完成后，需要将引线框架进行翻转以对另一面进行曝光，然而当在输送架底部也设置曝光机进行曝光时，由于支撑装置的遮挡，无法对引线框架进行同步双面曝光处理，仍然需要进行再次翻转，难以满足曝光需求。
[0009]本专利技术的目的可以通过以下技术方案实现：
[0010]一种引线框架高精度单双面曝光机，包括曝光箱体，曝光箱体内开设有曝光腔体；
[0011]还包括贯穿曝光腔体的支撑架，支撑架布设有两组且呈相对布设，支撑架上可滑动布设有定位框架，定位框架中相对固定布设定位板，两侧定位板与定位框架围合形成用于放置工件的定位槽；
[0012]其中，定位板底部可滑动布设有第一承载组件以及第二承载组件，第一承载组件与第二承载组件用于交替承托放置于定位槽中的工件。
[0013]优选的，支撑架上布设有第一齿条板，其中，定位框架两侧相对转动布设有与第一齿条板啮合的第一齿轮，一侧第一齿轮与第一电机输出端固定连接。
[0014]优选的，定位框架中相对可转动布设转轴，转轴两端分别通过皮带轮机构与第一
齿轮传动连接。
[0015]优选的，第一承载组件包括相对可滑动布设于定位板底部的第一承托板，第一承托板与驱动其往复滑动的第一调节模块连接。
[0016]优选的，第二承载组件包括相对可滑动布设于定位板底部的第二承托板，第二承托板与驱动其往复滑动的第二调节模块连接。
[0017]优选的，第一调节模块包括固定布设于转轴上的第一半齿轮，定位框架一侧可滑动布设第一推板，第一推板一端固定布设有与第一半齿轮间歇性啮合的第二齿条板，另一端固定布设第一推杆，两侧第一承托板与第二齿条板固定连接；
[0018]第一推杆与固定布设于定位框架一侧的限位架滑动连接，第一推杆上布设第一弹簧。
[0019]优选的，第二调节模块包括相对固定布设于转轴上的第二半齿轮，定位框架一侧可滑动布设第二推板，第二推板一端固定布设有与第二半齿轮啮合的第三齿条板，另一端固定布设第二推杆，第三齿条板另一端固定连接第二承托板；
[0020]第二推杆与限位架滑动连接，第二推杆上布设第二弹簧。
[0021]优选的，第一半齿轮与第二半齿轮上的弧形齿条为圆周总长的二分之一；
[0022]其中，第一半齿轮与第二半齿轮上的弧形齿条延伸方向相反；
[0023]优选的，曝光腔体中固定布设有定位环，其中，定位环内侧布设定位筒，定位筒与定位环同轴心布设，定位筒套设于支撑架外侧；
[0024]优选的，定位筒内布设有曝光机本体，曝光机本体与驱动其沿定位筒呈周向运动的转动机构连接；
[0025]转动机构包括布设于定位筒筒壁上的环形齿条，其中，定位环与定位筒之间预设有环形槽，环形槽中可滑动嵌设有支轴，支轴一端布设有与环形齿条啮合的第二齿轮，另一端与第二电机输出端固定连接，曝光机本体通过L型支架与第二电机固定连接。
[0026]本专利技术的有益效果：
[0027](1)本专利技术通过在引线框架两侧同步设置曝光机本体，使得在输送的过程中可以对其进行双面曝光处理，有效提高了曝光效率，自动化程度更高。
[0028](2)本专利技术通过布设用于对工件进行交替承托的第一承载组件与第二承载组件，当第一承载组件对工件进行支撑时，第二承载组件与工件分离，当第二承载组件对工件进行支撑时，第一承载组件与工件分离，进而在对工件进行双面曝光时，工件底侧部位不会因为与第一承载组件或第二承载组件持续性接触而无法得到曝光处理，对工件曝光更加充分，质量更高；
[0029](3)本专利技术中，当第一电机输出端驱动一侧第一齿轮转动时，第一齿轮通过皮带轮机构以及转轴驱动另一侧第一齿轮转动，使得两侧第一齿轮同步转动并与第一齿条板啮合，在驱动定位框架移送的过程中稳定性更高。
附图说明
[0030]下面结合附图对本专利技术作进一步的说明。
[0031]图1是本专利技术一种引线框架高精度单双面曝光机的结构示意图；
[0032]图2是本专利技术一种引线框架高精度单双面曝光机中定位框架的结构示意图一；
[0033]图3是本专利技术一种引线框架高精度单双面曝光机中定位框架的结构示意图二；
[0034]图4是本专利技术一种引线框架高精度单双面曝光机中定位框架的结构示意图三；
[0035]图5是本专利技术一种引线框架高精度单双面曝光机中定位筒的结构示意图一；
[0036]图6是本专利技术一种引线框架高精度单双面曝光机中定位筒的结构示意图二；
[0037]图7是本专利技术一种引线框架高精度单双面曝光机中第一承托板的结构示意图。
[0038]图中：1、曝光箱体；2、支撑架；3、定位环；4、定位框架；5、转轴；6、第一电机；101、曝光腔体；201、第一齿条板；301、定位筒；302、环形槽；303、环形齿条；304、第二齿轮；305、支轴；306、第二电机；307、L型支架；308、曝光机本体；401、限位架；402、第二推板；403、定位槽；404、第一弹簧；405、第二弹簧；406、第二半齿轮；407、第三齿条板；408、定位板；501、第一半齿轮；502、第二齿条板；503、第一推杆；504、第一弹簧；505、第一承托板；506、第二承托板；507、第一推板；601、第一齿轮；602、皮带轮机构。
具体本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种引线框架高精度单双面曝光机，包括曝光箱体(1)，其特征在于，所述曝光箱体(1)内开设有曝光腔体(101)；还包括贯穿曝光腔体(101)的支撑架(2)，支撑架(2)布设有两组且呈相对布设，支撑架(2)上可滑动布设有定位框架(4)，定位框架(4)中相对固定布设定位板(408)，两侧定位板(408)与定位框架(4)围合形成用于放置工件的定位槽(403)；其中，所述定位板(408)底部可滑动布设有第一承载组件以及第二承载组件，第一承载组件与第二承载组件用于交替承托置于定位槽(403)中的工件。2.根据权利要求1所述的一种引线框架高精度单双面曝光机,其特征在于，所述支撑架(2)上布设有第一齿条板(201)，其中，定位框架(4)两侧相对转动布设有与第一齿条板(201)啮合的第一齿轮(601)，一侧第一齿轮(601)与第一电机(6)输出端固定连接。3.根据权利要求2所述的一种引线框架高精度单双面曝光机,其特征在于，所述定位框架(4)中相对可转动布设转轴(5)，转轴(5)两端分别通过皮带轮机构(602)与第一齿轮(601)传动连接。4.根据权利要求3所述的一种引线框架高精度单双面曝光机,其特征在于，所述第一承载组件包括相对可滑动布设于定位板(408)底部的第一承托板(505)，第一承托板(505)与驱动其往复滑动的第一调节模块连接。5.根据权利要求3所述的一种引线框架高精度单双面曝光机,其特征在于，所述第二承载组件包括相对可滑动布设于定位板(408)底部的第二承托板(506)，第二承托板(506)与驱动其往复滑动的第二调节模块连接。6.根据权利要求4所述的一种引线框架高精度单双面曝光机,其特征在于，所述第一调节模块包括固定布设于转轴(5)上的第一半齿轮(501)，定位框架(4)一侧...

【专利技术属性】
技术研发人员：高小平，
申请(专利权)人：安徽立德半导体材料有限公司，
类型：发明
国别省市：