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本发明公开了一种引线框架高精度单双面曝光机，涉及引线框架技术领域，包括曝光箱体，曝光箱体内开设有曝光腔体；还包括贯穿曝光腔体的支撑架，支撑架布设有两组且呈相对布设，支撑架上可滑动布设有定位框架，定位框架中相对固定布设定位板，两侧定位板与定位...
该专利属于安徽立德半导体材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽立德半导体材料有限公司授权不得商用。

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