一种真空离子镀膜方法技术

技术编号:3854981 阅读:356 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种真空离子镀膜方法,属于真空镀膜技术领域。首先在镀膜设备的沉积室的设置柱弧源和点弧源,待加工工件悬挂在工件架上;使工件转动,升温抽真空;向沉积室内通入氩气或氮气,调节真空度,对工件施加负偏压进行辉光放电清洗;提高沉积室真空度,向沉积室内通入氩气,调节真空度和柱弧源电流,对工件进行放电清洗;再调节氩气的进气量、真空度、负偏压、柱弧源的工作电流和点弧源的工作电流,开始镀膜,以形成底膜过渡层,继续调节工艺参数,依次快速沉积硬质膜层和细腻、致密和光亮的硬质膜层。本发明专利技术方法结合点电弧和柱弧镀膜的优点,改善了镀膜层的致密度和表面光洁度,提高了镀膜层在工件上的附着力,使工件长期保持表面色彩。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及,属于真空镀膜

技术介绍
真空离子镀膜法(PVD)作为一种完全环保的薄膜技术,具有硬度高、耐磨性能好、膜 层稳定、色泽丰富、摩擦系数低等优点,有很好的应用开发前景。目前真空离子镀膜法(PVD) 有多种方法,其中电弧离子镀膜常用的有以下二种-点弧真空离子镀膜法,即传统的阴极电弧源技术,具有反应离子镀膜工艺稳定,膜层 沉积速率高,设备技术简单,采用多个小弧源可以满足大尺寸工件和批量生产,生产成本 低。但点弧工艺的阴极电弧源会蒸发出微米级的微液滴,这些微液滴使得膜层的致密性降 低,影响到产品的耐腐蚀性能。柱弧真空离子镀膜法,即使用柱状阴极电弧源,在保持点弧的优点外,还改善了大尺 寸工件镀膜的均匀性、粒子沉积细腻;细化了膜层的结构,也有利于镀制温度敏感的工件; 大大降低了微液滴的数量和大小,从而改善了膜层的致密度和表面光洁度。但柱弧真空离 子镀膜法的沉积速率慢,镀膜时间长,生产成本过高,生产效率较低, 一般多用于航空工 业。
技术实现思路
本专利技术的目的是提出,在传统的阴极电弧源镀膜过程中增加了 中心阴极旋转柱弧,使传统的阴极电弧源(点弧)和柱状阴极电弧源(柱弧)并存,在不 同的工艺步骤中采用不同的弧源,改变原有单一传统的阴极电弧源(点弧)或柱状阴极电 弧源(柱弧)镀膜法,把点弧和柱弧二种镀膜法有机的结合起来,以改善工件的外观装饰 性能和色泽,同时使工件更耐磨、耐腐蚀,延长工件的使用寿命。本专利技术提出的真空离子镀膜方法,包括以下步骤-(1) 在镀膜设备的沉积室的中心设置柱弧源,沉积室的圆周壁上设置点弧源,待加 工工件悬挂在沉积室的柱弧源和点弧源之间的工件架上;(2) 使工件转动速度为1 3转/分钟,使沉积室内的温度达到15(TC 260'C,使沉 积室内的真空度达到4X10—2Pa 1X10—2Pa;(3) 向沉积室内通入氩气或氮气,气体流量为200 480cmV分钟,调节真空度为4 1. 5Pa,对工件施加负偏压300—500V,对工件进行辉光放电清洗4 8分钟;(4) 使沉积室内的真空度达到8X10—:1Pa 4X10—3Pa,向沉积室内通入氩气,进气量为100-150 cmV分钟,调节真空度为5.0-2.0X10,a,调节柱弧源电流为200-250A,对工 件施加负偏压300-400V,对工件进行放电清洗4~7分钟;(5) 调节氩气的进气量为100-300 cmV分钟,使真空度保持在5X l(T Pa 3X l(T Pa, 对工件施加负偏压100-180V,调节柱弧源的工作电流为150 A 235A,点弧源的工作电流 为70A 100A,镀膜时间为4分钟 8分钟;(6) 向沉积室内通入反应气体,反应气体流量为50 450cm7分钟,调节氩气的进气量, 使真空度保持在5X10—' Pa 3X10—' Pa,对工件施加负偏压100-180V,调节柱弧源的工作 电流为150 A 235A,点弧源的工作电流为70A 100A,镀膜时间为3分钟 5分钟;(7) 使点弧源停止工作,调节反应气体和氩气的进气量,使真空度保持在5X10—'Pa 3X10—1 Pa,对工件施加负偏压80-120V,调节柱弧源的工作电流为150 A 235A,镀膜时 间为5分钟 8分钟。上述镀膜方法,还可以包括使沉积室内的真空度达到5X10—3 Pa 3X10—3 Pa,向沉 积室内通入氧气,调节氩气的进气量,对工件施加负偏压100-180V,调节柱弧源的工作电 流为150 A 235A,点弧源的工作电流为70A 100A,镀膜时间为1分钟 2分钟。上述镀膜方法中,所述的反应气体可以为乙炔、氮气、氧气或甲烷中的任何一种或多种 相混合。本专利技术提出的真空离子镀膜方法,其优点是采用了阴极多金属多点点电弧和中心阴极 旋转柱弧相结合的方法,将点弧镀膜方法的沉积速率高、成本低和柱弧镀膜方法的均匀性、 粒子沉积细腻、结合密度高,结合力强、工件表面光亮度好等特点相结合,减少或抑制了 镀膜过程中金属液滴的产生,从而改善了工件镀膜层的致密度和表面光洁度,使镀膜层更 加细化、致密和光亮;大大提高了镀膜层在工件上的附着力和耐腐蚀能力,而且镀膜层具 有较强的抗氧化性,使工件长期保持表面色彩。本专利技术方法与已有技术相比,降低了生产 成本,大大提高了生产效率,本专利技术方法可应用于五金行业的门窗、五金、锁具、卫浴等 领域的工件镀膜。具体实施例方式本专利技术提出的真空离子镀膜方法,包括以下步骤(1) 在镀膜设备的沉积室的中心设置柱弧源,沉积室的圆周壁上设置点弧源,待加工工件悬挂在沉积室的柱弧源和点弧源之间的工件架上;(2) 使工件转动速度为1 3转/分钟,使沉积室内的温度达到15(TC 260'C,抽真 空使沉积室内的真空度达到4Xl(TPa 1X10—2Pa;(3) 向沉积室内通入氩气或氮气,气体流量为200 480cmV分钟,调节真空度为4 1.5Pa,对工件施加负偏压300—500V,对工件进行辉光放电清洗4 8分钟,达到初步清 洗的目的;(4) 使沉积室内的真空度达到8X10,a 4X10—'Pa,向沉积室内通入氩气,进气量为100-150 cm'V分钟,调节真空度为5. 0-2.0X10—2Pa,调节柱弧源电流为200-250A,对工 件施加负偏压300-400V,利用柱弧对工件进行放电清洗4 7分钟,使工件表面达到原子 级清洁;(5) 调节氩气的进气量为100-300 cmV分钟,使真空度保持在5X 10—' Pa 3X10—' Pa, 对工件施加负偏压100-180V,调节柱弧源的工作电流为150 A 235A,点弧源的工作电流 为70A 100A,点弧和柱弧同时镀膜,镀膜时间为4分钟 8分钟,以形成底膜过渡层;(6) 向沉积室内通入反应气体,反应气体流量为50 450cmV分钟,调节氩气的进气 量,使真空度保持在5X10—'Pa 3X10—ipa,对工件施加负偏压100-180V,调节柱弧源的 工作电流为150A 235A,点弧源的工作电流为70A 100A,点弧和柱弧同时镀膜,镀膜时 间为3分钟 5分钟,达到快速沉积硬质膜层的目的;(7) 关闭点弧源,保持柱弧工作,调节反应气体和氩气的进气量,使真空度保持在5 X1(T Pa 3Xl(T Pa,对工件施加负偏压80-120V,调节柱弧源的工作电流为150A 235A, 镀膜时间为5分钟 8分钟,单独使用柱弧后使之达到膜层细腻、致密和光亮的硬质膜层。上述镀膜方法,还可以包括使沉积室内的真空度达到5X10—' Pa 3Xl(T! Pa,向沉 积室内通入氧气,调节氩气的进气量,对工件施加负偏压100-180V,调节柱弧源的工作电 流为150A 235A,点弧源的工作电流为70A 100A,镀膜时间为1分钟 2分钟,以形成 致密和耐磨的保护层。以下介绍具体实施例方式实施例l:钛灰色产品(1) 在镀膜设备的沉积室的中心设置柱弧源,靶材为金属钛,在沉积室的圆周壁上设 置一组点弧源,共五个,靶材为金属钛,待加工工件悬挂在沉积室的柱弧源和点弧源之间 的工件架上;(2) 使工件转动速度为1转/分钟,使沉积室内的温度达到15(TC,抽真空使沉积室 内的真空度达到4X10—2Pa;(3) 向沉积室内通本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空离子镀膜方法,其特征在于该方法包括以下步骤: (1)在镀膜设备的沉积室的中心设置柱弧源,沉积室的圆周壁上设置点弧源,待加工工件悬挂在沉积室的柱弧源和点弧源之间的工件架上; (2)使工件转动速度为1~3转/分钟,使沉积室内的温度达到150℃~260℃,使沉积室内的真空度达到4×10↑[-2]Pa~1×10↑[-2]Pa; (3)向沉积室内通人氩气或氮气,气体流量为200~480cm↑[3]/分钟,调节真空度为4~1.5Pa,对工件施加负偏压300-500V,对工件进行辉光放电清洗4~8分钟; (4)使沉积室内的真空度达到8×10↑[-3]Pa~4×10↑[-3]Pa,向沉积室内通入氩气,进气量为100-150cm↑[3]/分钟,调节真空度为5.0-2.0×10↑[-2]Pa,调节柱弧源电流为200-250A,对工件施加负偏压300-400V,对工件进行放电清洗4~7分钟; (5)调节氩气的进气量为100-300cm↑[3]/分钟,使真空度保持在5×10↑[-1]Pa~3×10↑[-1]Pa,对工件施加负偏压100-180V,调节柱弧源的工作电流为150A~235A,点弧源的工作电流为70A~100A,镀膜时间为4分钟~8分钟; (6)向沉积室内通入反应气体,反应气体流量为50~450cm↑[3]/分钟,调节氩气的进气量,使真空度保持在5×10↑[-1]Pa~3×10↑[-1]Pa,对工件施加负偏压100-180V,调节柱弧源的工作电流为150A~235A,点弧源的工作电流为70A~100A,镀膜时间为3分钟~5分钟; (7)使点弧源停止工作,调节反应气体和氩气的进气量,使真空度保持在5×10↑[-1]Pa~3×10↑[-1]Pa,对工件施加负偏压80-120V,调节柱弧源的工作电流为150A~235A,镀膜时间为5分钟~8分钟。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张伯良王伟弟何勤伟郭洪明
申请(专利权)人:杭州泛亚卫浴股份有限公司
类型:发明
国别省市:33[中国|浙江]

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