一种单腔体真空炉炉膛内料片进给装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及真空炉技术领域，具体是涉及一种单腔体真空炉炉膛内料片进给装置，在进行料片进给时，移动机构能够带动动力辊组进行水平和竖直方向的移动，动力辊组的驱动辊带动下压机构工作，下压机构带动输送辊组将料片步进式从进给台组的一端输送至另一端，同时下压机构在运动过程中带动料片矫正机构运动，料片矫正机构将输送过程中由于摩擦等因素造成的输送偏移的料片矫正，防止料片在烧结区域偏移受热不均，影响烧结效果，提高了料片在真空炉内的上料进给的效率。上料进给的效率。上料进给的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种单腔体真空炉炉膛内料片进给装置


[0001]本专利技术涉及真空炉
，具体是涉及一种单腔体真空炉炉膛内料片进给装置。

技术介绍

[0002]真空热处理炉是用于利用真空状态对零件进行热处理的设施，真空热处理炉热效率高，可实现快速升温和降温，可实现无氧化、无脱碳、无渗碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脱脂除气等作用，从而达到表面光亮净化的效果，广泛应用于金属零件热处理场合，具有较好的使用效果。
[0003]而针对真空炉的上料过程，传统的进料需要人工上料并需要打开真空炉，将料片依次放入烧结区域，然后关闭炉门抽真空后开始烧结工艺，这样的进给方式不但效率低下，而且需要反复抽真空，在进给过程中破坏了真空炉的真空环境，且在进行人工上料过程中料片也容易方式偏移，使得料片在烧结区域受热不均。
[0004]因此，本专利技术提供一种单腔体真空炉炉膛内料片进给装置，能够在真空环境下实现炉内料片进给，同时能够保证料片在烧结区域的平正。

技术实现思路

[0005]为解决上述技术问题。
[0006]本申请提供了一种单腔体真空炉炉膛内料片进给装置，其设置在单腔体真空炉炉膛内，包括：动力辊组、进给台组和移动机构，动力辊组安装在移动机构上且与移动机构传动连接，移动机构安装在进给台组的两端，动力辊组包括驱动辊和多个输送辊组，输送辊组安装在驱动辊上，驱动辊通过支撑辊座安装在移动机构上，驱动辊和每个输送辊组之间各通过一组下压机构传动连接，下压机构与驱动辊传动连接，输送辊组的上端安装有料片矫正机构，料片矫正机构与下压机构抵接；
[0007]在进行料片进给时，移动机构能够带动动力辊组进行水平和竖直方向的移动，动力辊组的驱动辊带动下压机构工作，下压机构带动输送辊组将料片步进式从进给台组的一端输送至另一端，同时下压机构在运动过程中带动料片矫正机构运动，料片矫正机构将输送过程中由于摩擦等因素造成的输送偏移的料片矫正。
[0008]进一步的，所述驱动辊包括驱动机构和传动辊轴，传动辊轴能够转动的安装在位于进给台组两端的两个支撑辊座之间，驱动机构安装在支撑辊座上且与对应的传动辊轴传动连接，输送辊组安装在两个传动辊轴之间，传动辊轴与下压机构传动连接。
[0009]进一步的，每个所述输送辊组均包括两个输送辊轴，每个输送辊轴的两端均通过轴承辊座能够转动的安装在两个传动辊轴之间，轴承辊座套设在对应的传动辊轴上，每个输送辊轴上均间隔的安装有多个托料板，每个托料板均卡接在输送辊轴的对应位置，输送辊轴与下压机构传动连接。
[0010]进一步的，每组所述下压机构均包括下压板和两个回转压条，下压板安装在传动
辊轴上且位于同一输送辊组的两个输送辊轴之间，两个回转压条对称安装在对应的两个输送辊轴上，下压板的下表面能够与回转压条的上表面抵接。
[0011]进一步的，所述移动机构包括直线移动组件、凸轮升降模组和两个移动滑座，两个移动滑座安装在进给台组的两端下方，凸轮升降模组安装在两个移动滑座上，直线移动组件与移动滑座连接，凸轮升降模组与支撑辊座传动连接，直线移动组件包括水平移动模组和导向杆组，水平移动模组安装在进给台组的下方，导向杆组通过杆座安装在两个移动滑座上，导向杆组与水平移动模组之间通过移动滑台连接。
[0012]进一步的，所述凸轮升降模组包括旋转凸轮和驱动电机，驱动电机通过支座固定安装在移动滑座的滑座上，旋转凸轮有两个且均通过传动轴分别安装在对应的移动滑座上的支座上，传动轴能够转动的安装在两个支座之间且与驱动电机的输出端传动连接，旋转凸轮与支撑辊座的下端抵接。
[0013]进一步的，所述支撑辊座的下端设置有抵接板，抵接板与旋转凸轮抵接，支撑辊座与对应的支座之间通过限位杆组滑动连接，限位杆组固定安装在支撑辊座上，限位杆组与支座之间通过限位套连接，限位套固定安装在支座上，限位套套设在限位杆组的限位杆上。
[0014]进一步的，所述料片矫正机构包括两个矫正架和轨架，两个矫正架各通过一个复位组件对称安装在对应的轨架上，两个轨架对称安装在同一输送辊组两端的轴承辊座上，矫正架的下端贴近输送辊组，复位组件安装在轨架上。
[0015]进一步的，所述复位组件包括架杆和轨座，架杆的一端穿过轨架与矫正架固定连接，另一个与轨座固定连接，轨座与轨架滑动连接，轨座与轨架之间的架杆上套设有复位弹簧，复位弹簧的两端分别抵接轨座和轨架，轨座上设置有能够与下压板抵接的抵接杆。
[0016]进一步的，所述进给台组包括进给架和支架，进给架通过升降组件安装在支架上，进给架和支架均安装在真空炉炉膛内，进给架位于动力辊组的输送输送辊组的下方，进给架上设置有能够对料片预热的电预热板。
[0017]本专利技术与现有技术相比具有的有益效果是：
[0018]1.本申请为了解决真空炉内的料片进给的技术问题，本专利技术通过动力辊组和移动机构实现在真空环境下对真空炉炉膛内的料片的步进式进给，且在进给过程中能够将由于摩擦等因素造成的输送偏移的料片矫正，防止料片在烧结区域偏移受热不均，影响烧结效果，提高了料片在真空炉内的上料进给的效率。
[0019]2.本申请为了解决料片在前震抛料式的步进输送过程中震动和摩擦造成料片偏移的技术问题，本专利技术通过在每个输送辊组两侧设置料片矫正机构，将料片对中夹正，使得偏移的料片回正，实现料片在输送过程中“一送一夹”的效果，使得料片始终处于平正输送状态。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对本专利技术实施例中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0021]图1为本专利技术的立体结构示意图一；
[0022]图2为本专利技术的立体结构示意图二；
[0023]图3为本专利技术的主视图；
[0024]图4为本专利技术的俯视图；
[0025]图5为本专利技术的动力辊组和移动机构的立体结构示意图；
[0026]图6为输送辊组、下压机构和料片矫正机构的立体结构示意图一；
[0027]图7为输送辊组、下压机构和料片矫正机构的立体结构示意图二；
[0028]图8为图5中A处的放大图。
[0029]图中标号为：
[0030]1‑
动力辊组；1a
‑
驱动辊；1a1
‑
传动辊轴；1a2
‑
驱动机构；1b
‑
支撑辊座；1b1
‑
限位杆组；1b2
‑
抵接板；1c
‑
输送辊组；1c1
‑
输送辊轴；1c2
‑
轴承辊座；1c3
‑
托料板；1d
‑
下压机构；1d1
‑
下压板；1d2
‑
回转压条；
[0031]2‑
进给台组；2a
‑
进给架；2b本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单腔体真空炉炉膛内料片进给装置，其设置在单腔体真空炉炉膛内，其特征在于，包括：动力辊组(1)、进给台组(2)和移动机构(3)，动力辊组(1)安装在移动机构(3)上且与移动机构(3)传动连接，移动机构(3)安装在进给台组(2)的两端，动力辊组(1)包括驱动辊(1a)和多个输送辊组(1c)，输送辊组(1c)安装在驱动辊(1a)上，驱动辊(1a)通过支撑辊座(1b)安装在移动机构(3)上，驱动辊(1a)和每个输送辊组(1c)之间各通过一组下压机构(1d)传动连接，下压机构(1d)与驱动辊(1a)传动连接，输送辊组(1c)的上端安装有料片矫正机构(4)，料片矫正机构(4)与下压机构(1d)抵接；在进行料片进给时，移动机构(3)能够带动动力辊组(1)进行水平和竖直方向的移动，动力辊组(1)的驱动辊(1a)带动下压机构(1d)工作，下压机构(1d)带动输送辊组(1c)将料片步进式从进给台组(2)的一端输送至另一端，同时下压机构(1d)在运动过程中带动料片矫正机构(4)运动，料片矫正机构(4)将输送过程中由于摩擦等因素造成的输送偏移的料片矫正。2.根据权利要求1所述的一种单腔体真空炉炉膛内料片进给装置，其特征在于，所述驱动辊(1a)包括驱动机构(1a2)和传动辊轴(1a1)，传动辊轴(1a1)能够转动的安装在位于进给台组(2)两端的两个支撑辊座(1b)之间，驱动机构(1a2)安装在支撑辊座(1b)上且与对应的传动辊轴(1a1)传动连接，输送辊组(1c)安装在两个传动辊轴(1a1)之间，传动辊轴(1a1)与下压机构(1d)传动连接。3.根据权利要求2所述的一种单腔体真空炉炉膛内料片进给装置，其特征在于，每个所述输送辊组(1c)均包括两个输送辊轴(1c1)，每个输送辊轴(1c1)的两端均通过轴承辊座(1c2)能够转动的安装在两个传动辊轴(1a1)之间，轴承辊座(1c2)套设在对应的传动辊轴(1a1)上，每个输送辊轴(1c1)上均间隔的安装有多个托料板(1c3)，每个托料板(1c3)均卡接在输送辊轴(1c1)的对应位置，输送辊轴(1c1)与下压机构(1d)传动连接。4.根据权利要求3所述的一种单腔体真空炉炉膛内料片进给装置，其特征在于，每组所述下压机构(1d)均包括下压板(1d1)和两个回转压条(1d2)，下压板(1d1)安装在传动辊轴(1a1)上且位于同一输送辊组(1c)的两个输送辊轴(1c1)之间，两个回转压条(1d2)对称安装在对应的两个输送辊轴(1c1)上，下压板(1d1)的下表面能够与回转压条(1d2)的上表面抵接。5.根据权利要求1所述的一种单腔体真空炉炉膛内料片进给装置，其特征在于，所述移动机构(3)包括直线移动组件(3a)、凸轮升降模组(3b)和两个移动滑座(3c)，两个移动滑座(3c)安装在进给台组(2)的两端下方，凸轮升降模组(3b)安装在两个移动滑座(3c)上，直线移动组件(3a)与...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘祥坤，周豆，
申请(专利权)人：芯朋半导体科技如东有限公司，
类型：发明
国别省市：