【技术实现步骤摘要】
本专利技术设计芯片焊接制备,具体是真空炉搬运机构。
技术介绍
1、在芯片的制作过程中,料片作为芯片的基础,需要对芯片进行运输加工处理,而传统的对料片的运输装置,对料片进行加热的时候,只有一个温区,或只有两个温度对料片进行加热,对料片的极速加温容易对料片造成伤害,传统的方式是通过吸盘对料片进行吸附将其放到指定的位置,容易发生料片坠落的风险,然后其他方式对料片的进行位移的装置,也存在一些缺陷,例如在位移的过程中,如果进行承托的结构为平直的板状,那么在料片加热完成之后,由于其承托结构的不散热会对料片造成损伤,因此,需要对之前料片的放料方式以及加热方式和焊接形式等作出改变。
技术实现思路
1、为了解决上述问题,本专利技术公开了真空炉搬运机构。
2、的技术方案为:真空炉搬运机构,包括马达c和马达d,马达c和马达d设有和其相对应的马达a和马达b,马达c处设有进料圆筒,马达c通过齿轮带动链条转动,链条和钢丝固定,马达a和马达c处之间设有加热区和降温区,加热区包括真空区,加热板和降温区设有向下
...【技术保护点】
1.真空炉搬运机构,包括马达C和马达D,所述马达C和马达D设有和其相对应的马达A和马达B,所述马达C处设有进料圆筒,其特征在于:所述马达C通过齿轮带动链条转动,所述链条和钢丝固定,所述马达A和马达C处之间设有加热区和降温区,所述加热区包括真空区,所述加热板和降温区设有向下的凹陷,所述凹陷为锯齿状的槽体。
2.根据权利要求1所述的真空炉搬运机构,其特征在于:所述齿轮包括主动轮和被动轮,所述被动轮上方设有的链轮包括链轮a、链轮b和链轮c,所述主动轮由马达C驱动,并通过皮带带动被动轮进行转动,被动轮下方同时绕有链条,所述链条绕过链轮a上方、链轮b上方和链轮c下方
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【技术特征摘要】
1.真空炉搬运机构,包括马达c和马达d,所述马达c和马达d设有和其相对应的马达a和马达b,所述马达c处设有进料圆筒,其特征在于:所述马达c通过齿轮带动链条转动,所述链条和钢丝固定,所述马达a和马达c处之间设有加热区和降温区,所述加热区包括真空区,所述加热板和降温区设有向下的凹陷,所述凹陷为锯齿状的槽体。
2.根据权利要求1所述的真空炉搬运机构,其特征在于:所述齿轮包括主动轮和被动轮,所述被动轮上方设有的链轮包括链轮a、链轮b和链轮c,所述主动轮由马达c驱动,并通过皮带带动被动轮进行转动,被动轮下方同时绕有链条,所述链条绕过链轮a上方、链轮b上方和链轮c下方。
3.根据权利要求1所述的真空炉搬运机构,其特征在于:若干组所述链轮的链轮a、链轮b和链轮c分别通过转轴连接下一组链轮,每组链轮上通过链条连接的钢丝皆位于加...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘祥坤,
申请(专利权)人:芯朋半导体科技如东有限公司,
类型:发明
国别省市:
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