基板提升机构制造技术

本发明专利技术提出的基板提升机构，包括主体支架，所述主体支架包括多个水平支杆，多个水平支杆相互平行且间隔布置，每个水平支杆包括两个侧壁；齿板，所述齿板的顶部设置有等间隔排布的多个插槽，用以保持多个基板；其中，每个水平支杆的至少一个侧壁安装有所述齿板，水平支杆与齿板之间设置有定位组件。齿板与水平支杆通过定位组件卡合固定，能够提高两者之间的定位精度，降低调试难度，提高安装的可靠性和基板保持的稳定性，避免基板因保持稳定性差倾斜，导致相邻基板部分重叠或接触，影响清洗效果，产生颗粒污染等缺陷。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造设备领域，特别是涉及一种基板提升机构。

技术介绍

1、槽式清洗装置能够同时处理多片基板，具有清洗单元和干燥单元。清洗单元包括多个清洗槽，用于盛放不同类型的清洗液，通过不同类型的清洗液对基板进行清洗，以去除基板表面上不同类型的污染物。干燥单元包括盛放diw(去离子水)的储液槽以及位于储液槽上方的干燥腔。清洗槽和储液槽均配置有基板提升机构，用于保持和升降基板。

2、干燥单元可采用超低压干燥工艺对基板进行干燥。在干燥过程中，高温n2(氮气)和高温ipa(异丙醇)蒸汽将被供应至干燥腔，随后，基板提升机构携带基板从储液槽内的纯水中缓慢升起，利用ipa置换基板表面水分，之后，降低干燥腔内压力，即在真空条件下使ipa蒸发，以此实现基板的干燥。

3、日本专利jb 3714763b公开了一种基板提升机构，包括主体支架以及齿板，齿板具有若干个插槽，用以等间隔保持多片基板，齿板通过多个螺丝水平固定在主体支架上，这种装配方式由于齿板与主体支架之间无定位结构，安装可靠性难以保证，无法确保齿板所有插槽均能与基板保持相切，进而影响基板保持本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板提升机构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的基板提升机构，其特征在于，所述定位组件包括：

3.根据权利要求2所述的基板提升机构，其特征在于，还包括紧固件，所述定位轴开设有轴孔，所述紧固件穿过所述轴孔和所述定位孔将所述齿板与所述水平支杆固定。

4.根据权利要求1所述的基板提升机构，其特征在于，每个所述水平支杆的顶部具有导流面。

5.根据权利要求4所述的基板提升机构，其特征在于，所述导流面为倾斜平面、倾斜弧面、人字形斜面、拱形面中的任一种。

6.根据权利要求1所述的基板提升机构，其特征在于，所述齿板与所述水平支...

【技术特征摘要】

1.一种基板提升机构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的基板提升机构，其特征在于，所述定位组件包括：

3.根据权利要求2所述的基板提升机构，其特征在于，还包括紧固件，所述定位轴开设有轴孔，所述紧固件穿过所述轴孔和所述定位孔将所述齿板与所述水平支杆固定。

4.根据权利要求1所述的基板提升机构，其特征在于，每个所述水平支杆的顶部具有导流面。

5.根据权利要求4所述的基板提升机构，其特征在于，所述导流面为倾斜平面、倾斜弧面、人字形斜面、拱形面中的任一种。

6.根据权利要求1所述的基板提升机构，其特征在于，所述齿板与所述水平支杆之间具有预定间隔。

7.根据权利要求1所述的基板提升机构，其特征在于，所述插槽为y型...

【专利技术属性】
技术研发人员：李亚洲，陶泽魏，王鹤，王俊，陶晓峰，贾社娜，胡海波，刘阳，张晓燕，王晖，
申请(专利权)人：盛美半导体设备上海股份有限公司，
类型：发明
国别省市：