本发明提供一种气液分离装置及半导体设备，所述气液分离装置包括：气液分离罐，所述气液分离罐的外侧面并联有双层套管装置，用于所述气液分离罐的液位联通和监测；所述双层套管装置包括内连通管和外套接管，所述内连通管的两端与所述气液分离罐连通，所述...

本发明提出的基板处理装置，包括处理腔室；气体供给部，配置在处理腔室的上部，用于向处理腔室内供应处理气体；多个基板保持部，配置在处理腔室内并位于气体供给部的下方，用以保持基板；排气部，配置在处理腔室的下部，用于从处理腔室中排气，排气部包括...

本发明涉及集成电路技术领域，具体为一种晶圆对中调节装置及调节方法。在晶圆刻蚀前，晶圆对中系统确认晶圆圆心与第一吸附平台中心是否重合，若不重合，则晶圆对中系统修正晶圆的位置。晶圆刻蚀完成后，晶圆洗边效果检测系统确认晶圆刻蚀过程中晶圆圆心与...

本申请涉及一种半导体清洗设备的刷子运动装置和半导体清洗设备。其中，该半导体清洗设备的刷子运动装置通过四个导向轴承与主轴驱动连接，且围绕主轴形成等夹角设置，四个导向轴承在进行旋转时适于带动主轴进行旋转；旋转驱动单元通过传动组件与轴承组件连...

本发明提供了一种晶圆电镀装置的保护罩，包括壳体、第一环形挡板和第二环形挡板，所述第一环形挡板和所述第二环形挡板都位于所述壳体的内部，所述壳体和所述第一环形挡板围设形成液体收集槽，所述第二环形挡板位于所述第一环形挡板的上方，所述第二环形挡...

半导体设备及其流体供应装置。本发明提供一种流体供应装置，包括：喷头和流体管路，所述流体管路与喷头相连，用以向喷头供应流体；摆动臂，所述摆动臂的一端与所述喷头连接；支撑杆，所述支撑杆的上端与所述摆动臂的另一端连接；转动套筒，所述转动套筒内...

本发明提供了一种气体供应装置和包括该气体供应装置的基板处理装置。气体供应装置向基板处理装置供应多组工艺气体，该基板处理装置内放置有多个晶圆。气体供应装置包括多个用于供应多组工艺气体的工艺气体供应单元；工艺气体临时储存器，包括内部空间，该...

本发明提供了一种晶圆电镀设备，包括阳极腔、阴极腔和离子膜，所述离子膜位于所述阳极腔和所述阴极腔之间，所述阳极腔用于装载阳极液，所述阳极腔包括阳极和至少一个自旋转搅拌装置，所述阳极设置在所述阳极腔的底部，所述至少一个自旋转搅拌装置设置在所...

本发明提出的供液装置及基板清洗方法。供液装置包括喷嘴，喷嘴的液体入口可采用切向进液方式，利用离心力促使气液分离；喷嘴的液体出口上方可以设置板状分离部或者筒状分离部，可以抑制气泡从液体出口排出；喷嘴的内部可以采用上、下腔室结构，上、下腔室...

本发明公开了一种电镀工艺中的球阀控制方法、系统和计算机可读介质，球阀控制方法包括步骤：S1：将集液漏斗内的液位划分为连续的多个液位区间，并从多个液位区间中确定预设区间；S2：实时检测集液漏斗内的液位，确定液位所属的液位区间；S3：根据所...

基板热处理装置包括固定框架；移动底座，用于装载热处理模块；有限板式运动导轨，移动底座通过有限板式运动导轨可移动地安装在固定框架内，第一定位销组件，用于在移动底座运动方向上对移动底座进行定位固定；至少两组滑动组件，分布在移动底座垂直于运动...

本发明涉及一种晶圆翻转装置、晶圆翻转方法和半导体机台。该晶圆翻转装置包括晶圆夹持机构和旋转机构，晶圆夹持机构包括第一移动单元、第二移动单元、第一夹持单元和第二夹持单元，第一夹持单元包括设置在第一移动单元上的至少一组第一托块组，每组第一托...

本发明提出的基板提升机构，包括主体支架，所述主体支架包括多个水平支杆，多个水平支杆相互平行且间隔布置，每个水平支杆包括两个侧壁；齿板，所述齿板的顶部设置有等间隔排布的多个插槽，用以保持多个基板；其中，每个水平支杆的至少一个侧壁安装有所述...

本申请提供了一种晶圆电镀装置及电镀工艺中的清洗方法，电镀装置包括晶圆夹具、电镀腔保护罩、储液槽、挡水环和喷液器，晶圆夹具适用于晶圆到达甩干高度并以第一速度旋转进行甩干作业，以及带动晶圆到达冲洗高度并以第二速度旋转进行冲洗作业；电镀腔保护...

本发明提出一种预湿腔内外气压平衡控制装置及方法，通过在预湿腔上设置进气口和与进气口相连接的进气管道且进气管道连接预湿腔外部大气压，用以平衡预湿腔内外的气压，无需另外设置安装检测部件，同时也无需对其进行额外的操作，便能够在预湿腔破真空后,...

本发明提出的基板干燥装置，包括：腔室，用以提供处理基板的密闭空间；基板支架，位于腔室内，用于保持基板；第一流体供给管，用于向腔室内补充有机溶剂以使有机溶剂浸没基板；第二流体供给管，用于在基板浸没在有机溶剂之后向腔室内供应超临界流体，且第...

本发明提供的基板清洗装置，包括卡盘，用于承载基板；旋转轴，用于驱动卡盘旋转；固定轴，为中空轴，且同轴设置在旋转轴内侧；其中，固定轴的侧壁设置有至少一圈斜向下的出气口，用于向旋转轴与固定轴间隙内提供正压保护气体；旋转轴的内侧壁设置有导气槽...

本发明提供了一种电镀设备中除泡器漏液的检测装置和方法。该检测装置包括除泡器、冷凝管和电导率检测器，其中，所述除泡器包括第一进液口、第一出液口和真空口，镀液从所述第一进液口进入所述除泡器并从所述第一出液口流出，所述除泡器在除泡过程中产生的...

本发明的实施例提供了一种基板处理设备，包括化学液体处理装置。化学液体处理装置包括第一化学液体处理部、配置为与第一化学液体处理部堆叠的第二化学液体处理部、位于第一化学液体处理部和第二化学液体处理部的对面的热处理部、以及位于第一和第二化学液...

本发明揭示了一种基板处理设备，包括工艺腔室、基板托盘、兆声波发射装置和清洗装置，基板托盘设置于工艺腔室内，基板托盘用于承载基板；兆声波发射装置用于对兆声波发射装置和基板之间的化学液传递兆声波能量；清洗装置用于清洗兆声波发射装置，清洗装置...