等离子处理装置制造方法及图纸

在通过将衬底（１１）容纳在处理腔（６）中而实现等离子处理的等离子处理装置中，由陶瓷制成的固定引导件（１２）和可移动引导件（１３）沿Ｙ方向（沿衬底运输方向）排列，以引导保持在陶瓷制成的安装板（１０）上的衬底的两个侧端部，并且可移动引导件（１３）的两个端部由支撑构件支撑。在该构造中，这些支撑构件安装到沿Ｙ方向布置的固定构件（１５Ａ和１５Ｂ）上，安装板（１０）设置在所述固定构件（１５Ａ和１５Ｂ）之间，从而Ｙ方向上的间距可调整。因此，陶瓷制成的引导构件（１３）可以安装和拆卸，而不需要直接对其进行螺栓连接，并且可以通过将具有不同宽度尺寸的多产品薄类型衬底用作目标来防止产生不正常放电。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种通过将衬底用作目标而实现等离子处理的等离子处理装置。
技术介绍
等离子处理公知为表面处理方法，例如对其上安装有电子器件的衬底进行清洗和蚀刻。在该等离子处理中，例如清洗的表面处理通过等离子的蚀刻作用来实现，这通过将衬底安装在减压气氛下的处理腔中并且造成在处理腔中发生等离子放电而产生。设置衬底引导机构以在载入和载出期间引导衬底并且在等离子处理期间将衬底保持在适当的位置和方位(例如，参考日本专利出版物JP-A-10-140376和JP-A-10-223725)。在JP-A-10-140376中，衬底的侧端表面由沿衬底运输方向设置的条形引导构件引导，并且引导构件的安装位置相应于用作目标的衬底的宽度尺寸而变化。另外，在JP-A-10-223725中，还用作在其上安装衬底的安装部的电极制造成能够引导衬底侧端部的形状，并且每次用作目标的衬底发生变化时，安装部相应于衬底而被更换。近年，树脂衬底越来越多地被用作安装衬底。由于树脂衬底较薄并且可弯曲，所以树脂衬底具有这样的特性，即，很可能在树脂衬底和该树脂衬底安装在其上的电极之间形成间隙，以使得很可能发生例如不正常放电的故障。为此，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在处理腔中对衬底表面进行等离子处理的等离子处理装置，其包括：基部，其形成所述处理腔的底部；箱形构件，其下表面侧敞开，并且下端部抵靠在所述基部顶部上的基部表面上，以形成所述处理腔；电极部，其经由绝缘体安装在所述 基部上，并且其上表面暴露在所述处理腔中；衬底安装部，该衬底安装部构成所述电极部的上部并且其上表面由陶瓷覆盖；等离子产生装置，其产生用于在所述处理腔中等离子处理的等离子；多个条形陶瓷引导构件，其沿衬底运输方向设置在所述 衬底安装部的上表面上，并且适于引导安装于所述衬底安装部上的衬底的侧端表面...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：是永哲雄，永留隆二，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]