防电磁干扰遮蔽罩的上盖结构制造技术

一种防电磁干扰遮蔽罩的上盖结构，该上盖用以覆盖于遮蔽罩；其特征在于：该上盖系呈片体，该上盖与该遮蔽罩顶部之间设有一接合装置，该上盖以该接合装置连接于该遮蔽罩顶部。（*该技术在2015年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种防电磁干扰遮蔽罩的上盖结构，特别涉及一种能用以覆盖于遮蔽罩顶部，使遮蔽罩的盖板在掀开后仍能回复遮蔽状态的上盖结构。
技术介绍
为了防止电磁波干扰(EMI)影响到芯片、中央处理器等电子组件的运作，有一种与本技术相关用以防止电磁干扰之遮蔽罩(如图1)，该遮蔽罩7具有一罩体71，该罩体71内部形成有一容置空间，而能用以容纳电子组件8，该罩体71顶部近四周边缘处设有预断线72，使该罩体71顶部形成一片可向上掀起的盖板73。该遮蔽罩7能覆盖于一安装在电路板9上的电子组件8外部，从而可藉该遮蔽罩7提供电磁波遮蔽效果。上述之遮蔽罩已可有效的防止电磁波干扰影响到电子组件的运作，且其制造成本较低，并可大幅的降低所需物料成本，已较已知技术具有更佳的效能，但其设计仍未臻于完美，仍有待进一步的加以改良。亦即该遮蔽罩利用另外设置的上盖(图略)来回复遮蔽状态时，该上盖系采全罩式设计，模具费用较高，且材料成本也高，生产速度较慢，产率无法有效的提高。缘是，本设计人有感上述问题之可改善，乃特潜心研究并配合学理之运用，终于提出一种设计合理且有效改善上述问题之本技术。
技术实现思路
本技术之主要目的，在于可提供一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：洪进富，
申请(专利权)人：洪进富，
类型：实用新型
国别省市：