本实用新型专利技术涉及的晶圆加工用高洁净度输送装置，包括AGV小车、支撑台以及设置在支撑台上的储料容器，支撑台的底部与AGV小车接触，储料容器内放置有一个或多个储料盒，在每个储料盒内均设置有支撑板，每个储料盒中的支撑板的数量为2个，2个支撑板沿所在的储料盒的中轴线为轴对称设置，支撑板内侧开设有支撑凹槽，晶圆的两侧分别位于不同的支撑板上开设的支撑凹槽中，储料容器连接有用于去除储料容器中的微小颗粒的风淋管道。本实用新型专利技术的有益效果是：通过设置在储料容器中的储料盒对晶圆进行存储，然后通过风淋管道对储料容器的洁净度进行调整，使得储料容器中的洁净度高于外界环境的洁净度。的洁净度。的洁净度。
【技术实现步骤摘要】
一种晶圆加工用高洁净度输送装置
[0001]本技术涉及了晶圆加工
，具体的是一种晶圆加工用高洁净度输送装置。
技术介绍
[0002]半导体制造工厂中，晶圆通常需要在生产线上不同的工艺模块之间进行高效的传输和定位，设备前端装置正是完成这一任务的关键装备，是连接物料搬运系统与晶圆处理系统的桥梁，能够使晶圆在不受污染的条件下被准确的传输。但是现有技术中的设备前端装置需要在同一洁净度等级下进行运输，当加工前的晶圆和加工后的晶圆需要不同的洁净度等级时，则需要提高整体的加工环境的洁净度等级，成本高，针对这一问题，需要对现有的晶圆转运设备进行调整，降低晶圆的转移成本。
技术实现思路
[0003]为了克服现有技术中的至少部分缺陷，本技术实施例提供了一种晶圆加工用高洁净度输送装置，结构简单，使用方便，能够降低晶圆的转移成本。
[0004]本技术涉及的一种晶圆加工用高洁净度输送装置，包括AGV小车、支撑台以及设置在所述支撑台上的储料容器，所述支撑台的底部与所述AGV小车接触，所述储料容器内放置有一个或多个储料盒，在每个所述储料盒内均设置有支撑板，每个所述储料盒中的所述支撑板的数量为2个，2个所述支撑板沿所在的储料盒的中轴线为轴对称设置，所述支撑板内侧开设有支撑凹槽，晶圆的两侧分别位于不同的支撑板上开设的所述支撑凹槽中，所述储料容器连接有用于去除储料容器中的微小颗粒的风淋管道。
[0005]进一步地，所述储料容器上侧设置有由透明材料制成的观察窗，所述观察窗包括第一窗体和第二窗体，所述第一窗体与所述第二窗体可相对滑动。
[0006]进一步地，所述第一窗体上连接有第一滑动齿条，所述第一滑动齿条与第一驱动齿轮啮合，所述第一窗体的上侧与上导向条接触，所述第一滑动齿条连接在所述第一窗体的下侧，所述第一滑动齿条的下表面与所述下导向条接触。
[0007]进一步地，所述第二窗体连接有第二滑动齿条，所述第二滑动齿条与第二驱动齿轮接触，所述第二窗体的下侧与所述下导向条接触，所述第二滑动齿条连接在所述第二窗体的上侧，所述第二滑动齿条的上表面与所述上导向条接触。
[0008]进一步地，在所述支撑台远离所述储料容器的一侧连接有上料区，所述上料区内设置有多个用于存储待加工的晶圆的储料盒。
[0009]进一步地，所述支撑台上连接有用于将储料盒中转移到加工设备或将加工设备中容纳加工完成的晶圆的储料盒转移到储料容器中的机械手。
[0010]进一步地，所述支撑台上还设置有用于对待加工的晶圆原料的缓存盒。
[0011]进一步地，所述第一驱动齿轮和所述第二驱动齿轮分别与不同的驱动电机连接。
[0012]进一步地，所述驱动电机连接有信号输入端子和信号输出端子，所述驱动电机通
过所述信号输入端子和所述信号输出端子与控制器连接。
[0013]本技术的有益之处在于：通过设置在储料容器中的储料盒对晶圆进行存储，然后通过风淋管道对储料容器的洁净度进行调整，使得储料容器中的洁净度高于外界环境的洁净度，进而在不改变外界环境的洁净度的情况下，保证晶圆运输过程的洁净度，从而实现对晶圆的安全高效运输，降低晶圆的运输成本。
[0014]为让本技术的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。
附图说明
[0015]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0016]图1是晶圆加工用高洁净度输送装置的整体结构示意图。
[0017]图2是放卷机构的正面结构示意图。
[0018]图3是放卷机构的反面结构示意图。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]在本技术一较佳实施例中的一种晶圆加工用高洁净度输送装置，包括AGV小车1、支撑台2以及设置在所述支撑台2上的储料容器3，所述支撑台2的底部与所述AGV小车1接触，所述储料容器3内放置有一个或多个储料盒4，在每个所述储料盒4内均设置有支撑板41，每个所述储料盒中的所述支撑板41的数量为2个，2个所述支撑板41沿所在的储料盒4的中轴线为轴对称设置，所述支撑板41内侧开设有支撑凹槽42，晶圆的两侧分别位于不同的支撑板41上开设的所述支撑凹槽42中，所述储料容器3连接有用于去除储料容器中的微小颗粒的风淋管道(未图示)。通过设置在储料容器3中的储料盒4对晶圆进行存储，然后通过风淋管道对储料容器3的洁净度进行调整，使得储料容器3中的洁净度高于外界环境的洁净度，进而在不改变外界环境的洁净度的情况下，保证晶圆运输过程的洁净度，从而实现对晶圆的安全高效运输，降低晶圆的运输成本。在实际实施过程中，风淋管道连接有风淋泵，风淋管道连接在风淋泵和储料容器3之间，通过风淋泵吹出或吸入气体实现对储料容器3中悬浮颗粒的去除。
[0021]在上述实施例中，所述储料容器3上侧设置有由透明材料制成的观察窗，所述观察窗包括第一窗体31和第二窗体32，所述第一窗体31与所述第二窗体32可相对滑动。
[0022]在上述实施例中，所述第一窗体31上连接有第一滑动齿条311，所述第一滑动齿条311与第一驱动齿轮312啮合，所述第一窗体31的上侧与上导向条5接触，所述第一滑动齿条311连接在所述第一窗体31的下侧，所述第一滑动齿条311的下表面与所述下导向条6接触。
[0023]在上述实施例中，所述第二窗体32连接有第二滑动齿条321，所述第二滑动齿条321与第二驱动齿轮322接触，所述第二窗体32的下侧与所述下导向条6接触，所述第二滑动齿条322连接在所述第二窗体32的上侧，所述第二滑动齿条321的上表面与所述上导向条5接触。
[0024]在上述实施例中，在所述支撑台2远离所述储料容器3的一侧连接有上料区7，所述上料区7内设置有多个用于存储待加工的晶圆的储料盒71。通过储料盒71的设置，能够方便对待加工的晶圆进行临时存储。
[0025]在上述实施例中，所述支撑台2上连接有用于将储料盒中转移到加工设备或将加工设备中容纳加工完成的晶圆的储料盒转移到储料容器中的机械手8。在实际实施过程中，机械手8采用能够实现晶圆的快速转移的多轴机械手。
[0026]在上述实施例中，所述支撑台2上还设置有用于对待加工的晶圆原料的缓存盒9。通过缓存盒9的设置，能够对待加工的晶圆或加工完成的晶圆或晶圆假片进行零时存储，晶圆假片指在需要对多个晶圆加工过程中，由于晶圆原料不足，本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种晶圆加工用高洁净度输送装置，其特征在于：包括AGV小车、支撑台以及设置在所述支撑台上的储料容器，所述支撑台的底部与所述AGV小车接触，所述储料容器内放置有一个或多个储料盒，在每个所述储料盒内均设置有支撑板，每个所述储料盒中的所述支撑板的数量为2个，2个所述支撑板沿所在的储料盒的中轴线为轴对称设置，所述支撑板内侧开设有支撑凹槽，晶圆的两侧分别位于不同的支撑板上开设的所述支撑凹槽中，所述储料容器连接有用于去除储料容器中的微小颗粒的风淋管道。2.根据权利要求1所述的晶圆加工用高洁净度输送装置，其特征在于：所述储料容器上侧设置有由透明材料制成的观察窗，所述观察窗包括第一窗体和第二窗体，所述第一窗体与所述第二窗体可相对滑动。3.根据权利要求2所述的晶圆加工用高洁净度输送装置，其特征在于：所述第一窗体上连接有第一滑动齿条，所述第一滑动齿条与第一驱动齿轮啮合，所述第一窗体的上侧与上导向条接触，所述第一滑动齿条连接在所述第一窗体的下侧，所述第一滑动齿条的下表面与下导向条接触。4.根据权利要求3所述的晶圆加工用高洁净度输送装置，其特征在于：所述第二...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱跃刚，刘明，
申请(专利权)人：唯实先端智能科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：
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