MEMS器件制造技术

技术编号:3687737 阅读:317 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种微机电器件,包括:换能器布置,其至少具有针对衬底而安装的薄膜;和电交互装置,其用于将电信号联系于所述薄膜的运动;其中,所述换能器布置包括在所述薄膜的周界内的应力减缓构造,该构造至少部分地减弱来自所述衬底的膨胀或收缩对所述薄膜的影响。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种微机电器件,包括: 换能器布置,其至少具有针对衬底而安装的薄膜;和 电交互装置,其用于将电信号联系于所述薄膜的运动; 其中,所述换能器布置包括在所述薄膜的周界内的应力减缓构造,该构造至少部分地减弱来自所述衬底的膨胀或收缩对所述薄膜的影响。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:RI拉明M贝格比
申请(专利权)人:沃福森微电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:GB[英国]

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