终点检测窗及刻蚀反应腔体制造技术

技术编号:36227283 阅读:9 留言:0更新日期:2023-01-04 12:26
本公开是关于一种终点检测窗及刻蚀反应腔体,应用于终点检测窗的安装中,所述终点检测窗包括:主体,所述主体包括透光部;安装于所述主体上的弹性形变体,所述弹性形变体暴露出所述透光部,且所述弹性形变体至少一处轮廓的边缘位于所述主体的轮廓的边缘外部。本公开通过弹性形变体增强了终点检测窗的安装稳定性,弹性形变体能够起到减震缓冲的作用,减小了终点检测窗由于受到震动而从安装位置掉落的可能,同时弹性形变体在终点检测窗安装位置受损扩大时能够产生形变,减小了终点检测窗掉落的可能,保护了晶片不受损伤,同时提高了刻蚀设备的工作稳定性。备的工作稳定性。备的工作稳定性。

【技术实现步骤摘要】
终点检测窗及刻蚀反应腔体


[0001]本公开涉及半导体
,尤其涉及一种终点检测窗及刻蚀反应腔体。

技术介绍

[0002]当前,现有的半导体刻蚀设备中,终点检测窗与刻蚀设备上的终点检测窗口之间安装关系较弱,在对晶片刻蚀过程中,终点检测开口会因为受到震动或终点检测窗口受刻蚀消耗的影响损坏导致掉落,进而对加工中的晶片造成损伤,并造成刻蚀设备工作中断。

技术实现思路

[0003]以下是对本公开详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。
[0004]为克服相关技术中存在的问题,本公开提供了一种终点检测窗及刻蚀反应腔体。
[0005]本公开实施例提供了一种终点检测窗,应用于终点检测窗的安装中,所述终点检测窗包括:主体,所述主体包括透光部;安装于所述主体上的弹性形变体,所述弹性形变体暴露出所述透光部,且所述弹性形变体至少一处轮廓的边缘位于所述主体的轮廓的边缘外部。
[0006]根据本公开的一些实施例,所述弹性形变体有多个且均匀分布于所述主体上。
[0007]根据本公开的一些实施例,所述弹性形变体为一体成型的弹性形变环,所述弹性形变环套设于所述主体上。
[0008]根据本公开的一些实施例,所述主体的轮廓外壁向朝向所述主体的方向凹陷,形成用于卡合所述弹性形变环的安装槽;或,所述弹性形变环的内壁向背离所述主体的方向凹陷,形成用于卡合所述主体的安装槽。
[0009]根据本公开的一些实施例,所述弹性形变环的外壁厚度自中间位置向边缘逐渐减小。
[0010]根据本公开的一些实施例,所述弹性形变环的外壁形状为弧面。
[0011]根据本公开的一些实施例,所述弹性形变体的材质为聚四氟乙烯。
[0012]本公开实施例的第二方面,提供一种刻蚀反应腔体,所述刻蚀反应腔体包括:腔壁,所述腔壁上具有信号接收端;移动环,沿竖直方向滑移连接于所述腔壁的内壁上,所述移动环的侧壁上具有开孔,所述主体安装于所述开孔中,所述弹性形变体抵接于所述开孔的内壁上;所述移动环沿竖直方向滑移并用于使所述主体上的透光部对齐/错开所述信号接收端,所述透光部对齐所述信号接收端时,所述刻蚀反应腔体中的光信号穿过所述透光部被所述信号接收端捕捉。
[0013]根据本公开的一些实施例,所述开孔包括用于容纳所述主体的容置槽以及安装孔,所述安装孔与所述容置槽连通。
[0014]根据本公开的一些实施例,所述安装孔包括位于所述容置槽正上方的通过孔以及位于所述通过孔侧边的操作孔。
[0015]根据本公开的一些实施例,所述开孔的侧壁呈向远离开孔方向凹陷的弧面状。
[0016]根据本公开的一些实施例,所述开孔内固定有用于限制所述主体逃离所述容置槽的限位结构,所述限位结构与所述弹性形变体和/或所述主体抵接。
[0017]根据本公开的一些实施例,所述开孔内设有入口,所述入口位于所述容置槽和所述安装孔的连通路径上,所述限位结构包括固定于所述开孔内壁上的限位块。
[0018]根据本公开的一些实施例,所述限位块朝向所述入口延伸并在朝向入口的一侧的外壁上形成倾斜设置的第一通过面;所述主体位于所述开孔内时,所述第一通过面位于所述主体的上方。
[0019]根据本公开的一些实施例,所述限位块朝向所述容置槽一侧的外壁上形成倾斜设置的第二通过面,所述主体位于所述开孔内时,所述第二通过面抵接于所述主体的侧壁或所述弹性变形体的外壁上。
[0020]根据本公开的一些实施例,所述第二通过面朝向入口平面的斜率小于所述第一通过面朝向入口平面的斜率。
[0021]根据本公开的一些实施例,所述限位结构包括固定于所述开孔内壁上并用于抵接终点检测窗的侧壁和/或弹性形变体的侧壁的限位条。
[0022]本公开的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:通过弹性形变体增强了终点检测窗的安装稳定性,弹性形变体能够起到减震缓冲的作用,减小了终点检测窗由于受到震动而从安装位置掉落的可能,同时弹性形变体在终点检测窗安装位置受损扩大时能够产生形变,减小了终点检测窗掉落的可能,保护了晶片不受损伤,同时提高了刻蚀设备的工作稳定性。
[0023]应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本公开。在阅读并理解了附图和详细描述后,可以明白其他方面。
附图说明
[0024]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本专利技术的实施例,并与说明书一起用于解释本专利技术的原理。
[0025]图1是
技术介绍
附图。
[0026]图2是
技术介绍
附图。
[0027]图3是根据一示例性实施例示出的弹性形变体位置布局的示意图。
[0028]图4是根据一示例性实施例示出的弹性形变体结构的示意图。
[0029]图5是根据一示例性实施例示出的弹性形变环结构的示意图。
[0030]图6是根据一示例性实施例示出的安装槽结构的示意图。
[0031]图7是根据另一示例性实施例示出的安装槽结构的示意图
[0032]图8是根据一示例性实施例示出的移动环位置的示意图。
[0033]图9是根据一示例性实施例示出的开孔位置的示意图。
[0034]图10是根据一示例性实施例示出的开孔结构的示意图。
[0035]图11是根据一示例性实施例示出的容置槽结构的示意图。
[0036]图12是根据一示例性实施例示出的操作孔位置的示意图。
[0037]图13是根据一示例性实施例示出的第一通过面位置的示意图。
[0038]图14是根据一示例性实施例示出的为表示限位块结构的示意图。
[0039]图15是根据一示例性实施例示出的为表示第二通过面位置的示意图。
[0040]附图标记
[0041]1、刻蚀腔体;11、容纳槽;12、圆形通槽;13、翼槽;2、终点检测窗本体;21、翼板;3、主体;31、透光部;4、弹性形变体;41、弹性形变环;411、套环;412、卡圈;413、安装槽;5、腔壁;51、信号接收端;52、移动环;6、开孔;61、安装孔;611、通过孔;612、操作孔;62、容置槽;63、入口;7、限位结构;71、限位块;711、通过面;72、限位条。
具体实施方式
[0042]为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本公开实施例中的附图,对公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本公开一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例,本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本公开保护的范围。需要说明的是,在不冲突的情况下,本公开中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。
[0043]如
技术介绍
所言,现有的半导体刻蚀设备中,终点检测窗与刻蚀设备上的终点检测开口之间安装关系较弱,参照图1和图2,刻蚀设备包括刻蚀腔体1,刻蚀腔体1上开设有用于安装终点检测窗本体2的通槽,通槽本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种终点检测窗,应用于刻蚀终点检测,其特征在于,所述终点检测窗包括:主体,所述主体包括透光部;安装于所述主体上的弹性形变体,所述弹性形变体暴露出所述透光部,且所述弹性形变体至少一处轮廓的边缘位于所述主体的轮廓的边缘外部。2.根据权利要求1所述的终点检测窗,其特征在于,所述弹性形变体有多个且均匀分布于所述主体上。3.根据权利要求1所述的终点检测窗,其特征在于,所述弹性形变体为一体成型的弹性形变环,所述弹性形变环套设于所述主体上。4.根据权利要求3所述的终点检测窗,其特征在于,所述主体的轮廓外壁向朝向所述主体的方向凹陷,形成用于卡合所述弹性形变环的安装槽;或,所述弹性形变环的内壁向背离所述主体的方向凹陷,形成用于卡合所述主体的安装槽。5.根据权利要求3所述的终点检测窗,其特征在于,所述弹性形变环的外壁厚度自中间位置向边缘逐渐减小。6.根据权利要求5所述的终点检测窗,其特征在于,所述弹性形变环的外壁形状为弧面。7.根据权利要求1所述的终点检测窗,其特征在于,所述弹性形变体的材质为聚四氟乙烯。8.一种刻蚀反应腔体,其特征在于,包括上述权利要求1

7任一项所述的终点检测窗,所述刻蚀反应腔体还包括:腔壁,所述腔壁上具有信号接收端;移动环,沿竖直方向滑移连接于所述腔壁的内壁上,所述移动环的侧壁上具有开孔,所述主体安装于所述开孔中,所述弹性形变体抵接于所述开孔的内壁上;所述移动环沿竖直方向滑移并用于使所述主体上的透光部对齐/错开所述信号接收端,所述透光部对齐所述信号接收端时,所述刻蚀反应腔体中的光信号穿过所述透光部被所述信号接收端捕...

【专利技术属性】
技术研发人员:王威金江奕陈浩淼孙阳阳
申请(专利权)人:长鑫存储技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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