本申请实施例提供了一种抛光液输送装置以及化学机械抛光设备，应用于化学机械抛光设备，抛光液输送装置包括输液机构以及遮挡件，输液机构具有出液口，出液口用于向化学机械抛光设备的抛光垫喷洒抛光液；遮挡件设置于出液口喷洒抛光液的路径上，遮挡件具有用于承接所述抛光液的承接面，出液口在承接面上的正投影位于承接面内。通过在出液口和抛光垫之间设置遮挡件，遮挡件能扩大抛光液的喷洒范围，使得抛光液从遮挡件流至抛光垫上时，抛光液的喷洒范围更大，且能够更均匀的分布在抛光垫上。且能够更均匀的分布在抛光垫上。且能够更均匀的分布在抛光垫上。
【技术实现步骤摘要】
一种抛光液输送装置以及化学机械抛光设备
[0001]本申请涉及半导体生产设备领域，具体而言，涉及一种抛光液输送装置以及化学机械抛光设备。
技术介绍
[0002]CMP(Chemical Mechanical Polishing，化学机械抛光技术)是一种常见的抛光技术，化学机械抛光技术是化学腐蚀和机械研磨的组合技术，主要的工作原理如下：待抛光物的待抛光层与抛光液发生化学反应，生成相对容易去除的软质层，在抛光液中的磨料和抛光垫的共同作用下去除软质层，在相关技术中，化学反应过程和机械研磨过程依次交替进行，最后达到去除待抛光层的目的。化学机械抛光技术相比于其他抛光技术有以下优势：避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤，也避免了单纯化学抛光造成的抛光速度慢、表面平整度差等缺点。
技术实现思路
[0003]本申请实施例提供了一种抛光液输送装置，应用于化学机械抛光设备，抛光液输送装置包括输液机构以及遮挡件，输液机构具有出液口，出液口用于向化学机械抛光设备的抛光垫喷洒抛光液；遮挡件设置于出液口喷洒抛光液的路径上，遮挡件具有用于承接所述抛光液的承接面，出液口在承接面上的正投影位于承接面内。
[0004]输液机构用于将抛光液输送至出液口，出液口用于将抛光液喷洒至抛光垫，抛光垫；遮挡件用于扩大抛光液喷洒在抛光垫上的范围，遮挡件设置在出液口与抛光垫之间，抛光液从出液口流至遮挡件，遮挡件能改变抛光液流动的范围；遮挡件朝向出液口的表面为承接面，承接面用于承接抛光液。
[0005]基于上述实施例，抛光液输送装置应用于化学机械抛光设备，抛光液输送装置设置了输液机构以及遮挡件，遮挡件设置在出液口和抛光垫之间，输液机构将抛光液输送至出液口，出液口将抛光液喷洒至遮挡件，遮挡件能扩大抛光液的喷洒范围，使得抛光液从遮挡件流至抛光垫上时，抛光液的喷洒范围更大，且能够更均匀的分布在抛光垫上。
[0006]在一个实施例中，承接面与出液口喷洒抛光液的喷洒方向之间呈夹角设置，且夹角为α，且10
°
≤α≤80
°
。
[0007]基于上述实施例，承接面与出液口喷洒抛光液的喷洒方向之间的夹角大于 10度小于80度时，承接面能承接从出液口流出的所有抛光液，且不会使得抛光液喷洒范围过大导致抛光液流出抛光垫，遮挡件扩大抛光液的喷洒范围能够使抛光液更均匀的流至抛光垫。
[0008]在一个实施例中，出液口呈扩口状设置。
[0009]基于上述实施例，出液口呈扩口状设置，使得抛光液从出液口喷出时，出液口能够扩大抛光液的喷洒范围。
[0010]在一个实施例中，出液口的流通截面为矩形。
[0011]基于上述实施例，出液口的流通截面设置为矩形，抛光液流至承接面时，抛光液的流动轨迹更规则使得抛光液流至抛光垫时，抛光液在抛光垫上分布的更宽且更均匀。
[0012]在一个实施例中，输液机构包括悬臂以及至少一个喷嘴，悬臂设置有输液通道，输液通道与出液口连通；至少一个喷嘴设置于悬臂上，每一喷嘴具有至少一出液口；其中，遮挡件设置于喷嘴的喷液路径上，且遮挡件可活动地设置于悬臂上。
[0013]基于上述实施例，悬臂具有输液通道，输液通道用于将抛光液输送至出液口；喷嘴用于将输液通道内的抛光液输送至遮挡件，喷嘴设置于悬臂上，且喷嘴具有至少一个出液口，当喷嘴具有多个出液口时，多个出液口同时喷洒抛光液可以扩大抛光液的喷洒范围且能够减短抛光液的喷洒时间；遮挡件可活动地设置于悬臂，遮挡件可以相对于悬臂转动以改变承接面与抛光液喷洒方向之间的夹角。
[0014]在一个实施例中，遮挡件包括遮挡部以及连接部，遮挡部设置于喷嘴的喷液路径上；连接部连接遮挡部与悬臂；其中，遮挡部可转动或者可移动地连接于连接部，及/或，连接部可移动或者可移动地连接于悬臂。
[0015]抛光液从扩口形状的出液口流出时，抛光液喷洒范围经过第一次扩大；抛光液从出液口喷至遮挡件的承接面时，抛光液喷洒范围经过第二次扩大，抛光液的喷洒范围经过两次扩大，使得抛光液能够更宽且更均匀的分布在抛光垫上。连接部用于连接遮挡部与悬臂，遮挡部转动连接于连接部或者连接部转动连接于悬臂均可改变遮挡件与抛光液喷洒方向之间的夹角，以改变抛光液在遮挡部的承接面上的喷洒范围，进而改变抛光液在抛光垫上的分布；遮挡部移动连接于连接部或者连接部移动连接于悬臂可改变出液口与遮挡部之间的距离，遮挡部越靠近出液口，抛光液在遮挡部的承接面上的喷洒范围越大，进而在抛光垫上的分布的范围越大；遮挡部越远离出液口，抛光液在遮挡部的承接面上的喷洒范围越小，进而在抛光垫上的分布的范围越小。
[0016]在一个实施例中，多个喷嘴等间隔设置于悬臂上。
[0017]基于上述实施例，多个喷嘴在悬臂上等间隔设置使得抛光液能更均匀的流动至抛光垫上，多个喷嘴同时喷洒抛光液可以扩大抛光液的喷洒范围且能够减少抛光液的喷洒时间，使得抛光待抛光物的效率更高。在抛光过程中，多个喷嘴同时喷洒抛光液还可以防止由于个别喷嘴损坏或者堵塞导致无法喷洒抛光液的问题发生。
[0018]在一个实施例中，抛光液输送装置还包括一个或者多个吸液件以及抽液件，吸液件设置于悬臂上，每一吸液件具有至少一吸液口，吸液口用于与抛光垫表面接触；抽液件与吸液口连通。
[0019]基于上述实施例，吸液件用于吸取抛光垫上的废液；抽液件能够吸取液体，抽液件与吸液口连通，吸液件的数量可以设置为多个，吸液件也可以设置多个吸液口，吸液口可以设置为由内向外渐扩的开口，多个吸液口同时工作，能够提高废液的抽吸效率，以减小废液对抛光液组成成分的影响。抽液件将抛光垫上的废液吸入吸液口。
[0020]在一个实施例中，抛光液输送装置还包括挡液件，挡液件连接于悬臂，且挡液件远离悬臂的一端用于与抛光垫抵接，在抛光垫的转动方向上，出液口喷洒出来的抛光液依次经过待抛光物、吸液口以及挡液件。
[0021]基于上述实施例，挡液件用于防止在抛光过程中，废液堆积在抛光垫上，并停留于待抛光物和抛光垫之间，挡液件与抛光垫抵接的部分将部分废液带动至沟槽内，吸液件通
过吸液口将沟槽内废液排出抛光垫；
[0022]由于出液口设置为扩口，抛光液从出液口喷出后，抛光液的喷洒范围会扩大，抛光液从出液口流至遮挡部，遮挡部的承接面再次扩大抛光液的喷洒范围，然后将抛光液引流至抛光垫，抛光液在抛光垫和待抛光物之间，抛光液与待抛光物发生化学反应后，抛光液内的磨料与待抛光物之间进行研磨，抛光液发生化学反应后转变成废液，废液被吸入吸液件，挡液件可以将部分废液带动至沟槽内，以供吸液口抽吸，挡液件能减少废液与出液口喷出的抛光液接触。
[0023]本申请实施例还提供了一种化学机械抛光设备，化学机械抛光设备包括抛光液输送装置、转台以及抵压件，抛光垫设置于转台上，转台用于带动抛光垫转动；抵压件与转台间隔设置，抵压件用于将待抛光物抵压于抛光垫。
[0024]转台可带动抛光垫转动；抵压件对待抛光物施加朝向抛光垫的作用力，使得待抛光物与抛光垫抵接的更紧密，能更有效地研磨本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种抛光液输送装置，其特征在于，应用于化学机械抛光设备，所述抛光液输送装置包括：输液机构，具有出液口；遮挡件，设置于所述出液口喷洒抛光液的路径上，具有用于承接所述抛光液的承接面，所述出液口在所述承接面上的正投影位于所述承接面内。2.如权利要求1所述的抛光液输送装置，其特征在于，所述承接面与所述出液口喷洒抛光液的喷洒方向之间呈夹角设置，且夹角为α，且10
°
≤α≤80
°
。3.如权利要求1所述的抛光液输送装置，其特征在于，所述出液口呈扩口状设置。4.如权利要求3所述的抛光液输送装置，其特征在于，在所述出液口内，所述出液口的流通截面为矩形。5.如权利要求1
‑
4任一项所述的抛光液输送装置，其特征在于，所述输液机构包括：悬臂，设置有输液通道，所述输液通道与所述出液口连通，所述遮挡件可活动地设置于所述悬臂上；至少一个喷嘴，设置于所述悬臂上，每一所述喷嘴具有至少一所述出液口。6.如权利要求5所述的抛光液输送装置，其特征在于，所述遮挡件包括：遮挡部，设置于所述喷嘴的喷液...
【专利技术属性】
技术研发人员：雷志强，
申请(专利权)人：长江存储科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：
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