一种3D曝光系统及方法技术方案

本发明专利技术公开了一种3D曝光系统及方法。所述3D曝光系统包括：第一光学引擎，用于生成第一曝光图案并将所述第一曝光图案投影到所述3D基板(700)的第一面，所述第一光学引擎包括DMD器件(400)和无掩膜投影装置(600)，所述DMD器件(400)生成的像素掩膜图形产生的光输入到所述无掩膜投影装置(600)，通过无掩膜投影装置(600)的光作为曝光光束聚焦到所述3D基板(700)的第一面；其中，所述DMD器件(400)相对于所述无掩膜投影装置(600)的光轴倾斜设置，通过无掩膜投影装置(600)的光的焦平面为斜面，所述斜面相对于所述无掩膜投影装置(600)的光轴的倾斜角度，等于所述所述DMD器件(400)相对于所述无掩膜投影装置(600)的光轴的倾斜角度。度。度。

【技术实现步骤摘要】
一种3D曝光系统及方法


[0001]本专利技术涉及成像
，特别是涉及本申请涉及数字化光刻领域，更为具体的，涉及一种新型的3D曝光系统及方法。

技术介绍

[0002]在现有技术中，采用无掩模曝光系统对平面基板进行曝光。例如，如图1所示，曝光光源100产生的光束通过光纤110到达光准直均化装置200，然后经过准直和/或均化处理的光由反光镜500发射到DMD器件300。DMD器件300用作空间光调制器。DMD器件300生成的像素掩膜图形产生的光输入到无掩膜投影装置600，通过无掩膜投影装置600的曝光光束900聚焦到承载在承载板800上的平面基板750的上表面。由此，完成对平面基板750的无掩模光刻。
[0003]但是，上述的技术方案仅仅能够对平面基板进行无掩模光刻，而无法实现对3D基板的无掩模光刻。
[0004]例如，计算机类(computer)、通信类(communication)、消费类(consumer)电子产品的开发热，要求加工各种非比寻常的3D产品。对产品图形的制作提出越来越多的期望。而现有技术的上述无掩模光刻技术无本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种3D曝光系统，其特征在于，包括：第一光学引擎，其设置在3D基板(700)的第一侧，用于生成第一曝光图案并将所述第一曝光图案投影到所述3D基板(700)的第一面，具体地，所述第一光学引擎包括DMD器件(400)和无掩膜投影装置(600)，所述DMD器件(400)用作空间光调制器，所述DMD器件(400)生成的像素掩膜图形产生的光输入到所述无掩膜投影装置(600)，通过无掩膜投影装置(600)的光作为曝光光束聚焦到所述3D基板(700)的第一面，光源装置，用于对所述第一光学引擎提供光源；其中，所述DMD器件(400)相对于所述无掩膜投影装置(600)的光轴倾斜设置，通过无掩膜投影装置(600)的光的焦平面为斜面，所述斜面相对于所述无掩膜投影装置(600)的光轴的倾斜角度，等于所述所述DMD器件(400)相对于所述无掩膜投影装置(600)的光轴的倾斜角度。2.如权利要求1所述的3D曝光系统，其特征在于，所述倾斜角度设置在小于90度大于等于45度的范围内。3.如权利要求1所述的3D曝光系统，其特征在于，还包括Z向移动装置，所述Z向移动装置用于驱动所述无掩膜投影装置(600)在Z向上运动。4.如权利要求1所述的3D曝光系统，其特征在于，所述DMD器件(400)沿着其倾斜方向分为至少两个DMD区域，分别用于对所述3D基板(700)的第一侧的相应个数不同高度区间部位进行曝光。5.如权利要求4所述的3D曝光系统，其特征在于，所述3D曝光系统包括视觉识别装置，所述视觉识别装置用于获取所述3D基板(700)在承载板(800)上的定位信息。6.如权利要求1所述的3D曝光系统，其特征在于，所述DMD器件(400)的数量为多个，且具有不同高度和不同倾斜度。7.如权利要求1所述的3D曝光系统，其特征在于，所述DMD器件(40...

【专利技术属性】
技术研发人员：敦士军，梅文辉，杜卫冲，
申请(专利权)人：中山新诺科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：