极紫外光设备与其运作方法技术

一种极紫外光设备与其运作方法，极紫外光设备包括腔室、极紫外光源以及自由基源。极紫外光源设置向腔室内发射出极紫外光束。自由基源位于腔室内并邻近于极紫外光束通过的路径上。自由基源设置以向路径发射多个自由基。自由基源设置以向路径发射多个自由基。自由基源设置以向路径发射多个自由基。

【技术实现步骤摘要】
极紫外光设备与其运作方法


[0001]本揭露的一些实施方式有关于极紫外光设备与其运作方法。

技术介绍

[0002]近年来，半导体集成电路(IC)快速发展，无论是制造IC所使用的材料，或是IC设计，再经历数代的发展后，都有长足的进步。其中，根据摩尔定律(Moore
’
s Law)，各代相较于前代，应会具有更小且更为复杂的电路。在IC发展的过程中，这对应到，每一个IC的功能密度(意即，单位晶片面积的互连元件的数目)会显著增加，而几何大小(意即，于制造制程中，产生的最小部件或接线的尺寸或长度，例如特征长度)已缩小。在功能密度增加且几何大小缩小，通常因增加生产的效率，且能降低相关成本，从而提供益处。整体尺寸的缩小，也增加了IC处理及IC制造的复杂性。为此，发展了更高解析度的微影制程，已因应日益缩小的几何尺寸。举例而言，微影技术包括极紫外光微影(Extreme ultraviolet lithography,EUVL)技术。

技术实现思路

[0003]根据本揭露的一些实施方式，一种极紫外光设备包括腔室、极紫外光源以及自由基源。极紫外光源设置向腔室内发射出极紫外光束。自由基源位于腔室内并邻近于极紫外光束通过的路径上。自由基源设置以向路径发射多个自由基。
[0004]根据本揭露的一些实施方式，一种极紫外光设备的运作方法包括以下步骤。通过极紫外光源发射极紫外光束。通过反射镜的反射面反射极紫外光束。通过自由基源向反射镜的反射面发射多个自由基。
[0005]根据本揭露的一些实施方式，一种极紫外光设备的运作方法包括以下步骤。通过极紫外光源发射极紫外光束。通过遮罩接收极紫外光束。通过自由基源向遮罩发射多个自由基。
附图说明
[0006]当结合附图阅读时，根据以下详细描述可更好地理解本揭露的一些实施方式。应强调，根据工业标准实践，各种特征未按比例绘制并且仅用作说明目的。事实上，为论述清楚起见，各特征的尺寸可任意地增大或缩小。
[0007]图1根据本揭露的一些实施方式绘示一极紫外光设备的示意图；
[0008]图2绘示图1的极紫外光设备发射一极紫外光束的示意图；
[0009]图3根据本揭露的一些实施方式绘示一极紫外光设备的运作方法的流程图；
[0010]图4根据本揭露的一些实施方式绘示一极紫外光设备的运作方法的流程图；
[0011]图5根据本揭露的一些实施方式绘示一自由基源的示意图；
[0012]图6根据本揭露的另一些实施方式绘示一自由基源的示意图。
[0013]【符号说明】
[0014]100:极紫外光设备
[0015]110:极紫外光源
[0016]115:腔室
[0017]116:入光口
[0018]117:出光口
[0019]120:容纳区
[0020]130:出光器
[0021]131:入口
[0022]132:通气孔
[0023]135:投影光学盒
[0024]136:通气孔
[0025]150,150A,150B,150G:反射镜
[0026]151:压电材料
[0027]155,155A,155B:自由基源
[0028]156:气体供应器
[0029]157,157
’
:腔体
[0030]158:线圈
[0031]158C:控制器
[0032]159:线圈
[0033]160:通道
[0034]165:遮罩台
[0035]166:遮罩
[0036]167:自由基源
[0037]170:泵浦
[0038]C1:磁力线方向
[0039]C2:气体方向
[0040]D:箭头
[0041]G1:气体
[0042]G2:自由基
[0043]L:极紫外光束
[0044]P:路径
[0045]WSDGL:晶圆台
[0046]200:运作方法
[0047]210～230:流程
[0048]300:运作方法
[0049]310～340:流程
具体实施方式
[0050]以下揭示内容提供许多不同实施例或实例，以便实现所提供标的不同特征。下文
描述元件及布置的特定实例以简化本揭露的一些实施方式的内容。当然，这些实例仅为实例且不意欲为限制性。举例而言，在随后描述中在第二特征上方或在第二特征上的第一特征的形成可包括第一及第二特征形成为直接接触的实施例，以及亦可包括额外特征可形成在第一及第二特征之间，以使得第一及第二特征可不直接接触的实施例。另外，本揭露的一些实施方式在各实例中可重复元件符号及/或字母。此重复为出于简单清楚的目的，且本身不指示所论述各实施例及/或配置之间的关系。
[0051]另外，空间相对用语，诸如“在
……
之下”、“在
……
下方”、“下部”、“在
……
上方”、“上部”及类似术语，在本揭露的一些实施方式中为便于描述可用于描述诸图中所绘示的一个元件或特征与另一(多个)元件或(多个)特征的关系。除图形中描绘的方向外，空间相对用语意欲包含元件在使用或操作中的不同方向。装置/元件可为不同朝向(旋转90度或以其他的方向)及在此使用的空间相对的描述词可因此相应地解释。另外，术语“由...制成”可意谓“包含”或者“由...组成”。
[0052]请同时参照图1与图2。图1根据本揭露的一些实施方式绘示一极紫外光设备100的示意图。图2绘示图1的极紫外光设备100发射一极紫外光束L的示意图。为了简单说明的目的，在图2中，部分元件的标号被省略，相同元件的标号，请参照图1。
[0053]在本揭露的一些实施方式中，如图1所示，一种极紫外光设备100包括极紫外光源110、腔室115与多个自由基源155。如图2所绘示，极紫外光源110设置以朝向腔室115内发射极紫外光束L。自由基源155位于腔室115内并邻近于极紫外光束L通过的路径P上，其中自由基源155设置以向路径P发射多个自由基。
[0054]在本揭露的一些实施方式中，极紫外光源110包括靶材滴产生器与激光光源。靶材滴产生器用以产生多个金属靶材滴。一旦金属靶材滴产生后，激光光源向金属靶材滴发射高功率的激光。金属靶材滴受到高功率激光的激发。随后，当受激发的金属靶材滴从受激发状态回到基态，将能够如图2所示，发射出相应的波长的极紫外光束L。
[0055]举例而言，自本揭露的一些实施方式中，金属靶材滴的材料包括锡。锡受到高功率激光激发后，从激发态回到基态，将能够发射出波长约13.5nm的极紫外光束L。
[0056]当极紫外光源110的组成包括靶材滴产生器与激光，则当极紫外光源110向腔室115内发射极紫外光束L时，相应的，也将会有部分的金属靶材滴残留在腔室115内部。
[0057]传统的极紫外光设备一旦腔室本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种极紫外光设备，其特征在于，包括：一腔室；一极紫外光源，向该腔室内发射出一极紫外光束；以及一第一自由基源，位于该腔室内并邻近于该极紫外光束通过的一路径上，其中该自由基源设置以向该路径发射多个自由基。2.根据权利要求1所述的极紫外光设备，其特征在于，进一步包括：一反射镜，位于该腔室内且包括一反射面，其中该反射镜设置于该极紫外光束的该路径上，以通过该反射面反射该极紫外光束，该第一自由基源邻近于该反射镜并设置以向该反射镜的该反射面发射所述多个自由基。3.根据权利要求2所述的极紫外光设备，其特征在于，进一步包括一压电材料，其中该压电材料设置于该反射镜相对于该反射面的一背面上。4.根据权利要求1所述的极紫外光设备，其特征在于，进一步包括：一遮罩，设置于该路径的顶端，以反射该极紫外光束；以及一第二自由基源，设置以朝向该遮罩发射多个自由基。5.一种极紫外光设备的运作方法，其特征在于，包括：通过一极紫外光源发射一极紫外光束；通过一反射镜的一反射面反射该极紫外光束；以及通过一自由基源向该反射...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏彦硕，谢佳颖，陈彦勳，叶承翰，张汉龙，傅中其，刘恒信，陈立锐，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：