【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻机领域，特别涉及一种翻面机构及光刻机。
技术介绍
1、众所周知，在芯片的生产制造过程中，单面数字化光刻系统通常需要对第一面和第二面采取至少两次曝光，并且在对第一面进行曝光之后需进行翻转操作，进行第二面的曝光。因此，在曝光的过程中需要多次对基板进行翻转。然而，目前对基板的翻转作业通常具有对位不准的问题，并导致对基板的两面进行的光刻作业出现偏差。
技术实现思路
1、本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种翻面机构，能够准确地对工件进行翻转作业。
2、本专利技术还提出一种具有上述翻面机构的光刻机。
3、根据本专利技术的第一方面实施例的翻面机构，包括：机台、装载框、定位夹具和翻转结构；装载框活动安装于所述机台，所述装载框用于夹紧工件的边缘并与工件定位固定，所述装载框的两侧边缘对称地设置有定位部；定位夹具设于所述机台，所述定位夹具用于夹紧所述定位部并使得所述装载框与所述机台相对定位；当且仅当所述定位部与所述定位夹具对位准确时，所述定位夹具能够对所述定位部进行夹紧固定；翻转结构与所述机台对接，所述翻转结构用于带动装载框相对于机台翻转。
4、根据本专利技术实施例的翻面机构，至少具有如下有益效果：装载框被输送至机台上之后，定位夹具将会对装载框一侧边缘的定位部进行夹紧固定。由于定位夹具仅能在对位准确时方能对定位部进行夹紧固定，因此光刻设备将可以对装载框所夹紧的工件的一面进行精准的光刻作业。光刻作业结束后，翻转结
5、由于在工件的两侧进行光刻作业之前，装载框均通过定位部和定位夹具之间的配合实现了精准的定位效果，因此工件可以得到精准、准确的光刻作业效果，进而可以有效地提高光刻作业的准确性。
6、根据本专利技术的一些实施例，所述定位部设置于所述装载框的侧壁并相对于装载框外伸，所述定位部远离所述装载框的端部具有异形端；所述定位夹具包括与所述异形端的形状适配的夹持部，所述夹持部能够对所述异形端夹紧固定。
7、根据本专利技术的一些实施例，所述定位夹具包括驱动气缸，所述夹持部为两个且对称连接于所述驱动气缸，所述驱动气缸用于带动两个所述夹持部相互靠近并夹紧所述定位部或者相互远离并松开所述定位部。
8、根据本专利技术的一些实施例，所述夹持部的侧部设置有防脱螺栓，两个所述夹持部围成有夹紧区域，所述防脱螺栓能够运动至两个所述夹持部之间并配合所述定位部环绕封闭所述夹紧区域。
9、根据本专利技术的一些实施例，所述机台上设置有到位感应器，所述到位感应器能够检测所述定位部是否处于所述夹紧区域内。
10、根据本专利技术的一些实施例，所述夹持部和所述异形端的其中之一设置有卡位槽，另一设置有卡位凸台；当且仅当所述异形端被所述夹持部夹紧固定时，所述卡位凸台卡接于所述卡位槽内。
11、根据本专利技术的一些实施例，所述机台设置有输送装置，所述输送装置能够带动所述装载框由所述定位夹具朝向所述翻转结构运动，或者由所述翻转结构朝向所述定位夹具运动。
12、根据本专利技术的一些实施例，所述翻转结构包括与所述机台对接的托料架，所述输送装置能够将所述装载框输送至所述托料架，所述托料架上设置有负压吸附孔位；所述托料架连接有第一电机，所述第一电机用于带动所述托料架进行翻转。
13、根据本专利技术的一些实施例，所述机台的旁侧设置有第二电机，所述第二电机连接有翻转架并能够带动所述翻转架进行翻转；所述托料架和所述第一电机均为两个，两个所述第一电机分别安装于所述翻转架的两端，两个所述托料架一一对应地连接于所述第一电机。
14、根据本专利技术第二方面实施例的光刻机，包括根据本专利技术上述第一方面实施例的翻面机构。
15、根据本专利技术实施例的光刻机，至少具有如下有益效果：装载框被输送至机台上之后，定位夹具将会对装载框一侧边缘的定位部进行夹紧固定。由于定位夹具仅能在对位准确时方能对定位部进行夹紧固定，因此光刻设备将可以对装载框所夹紧的工件的一面进行精准的光刻作业。光刻作业结束后，翻转结构将会对装载框进行翻转，从而使得工件的另一面朝向光刻设备。由于装载框的两侧为轴对称，在定位夹具对装载框另一侧边缘的定位部进行夹紧固定后，光刻设备便可以再次精准地对工件进行光刻作业。
16、由于在工件的两侧进行光刻作业之前，装载框均通过定位部和定位夹具之间的配合实现了精准的定位效果，因此工件可以得到精准、准确的光刻作业效果，进而可以有效地提高光刻作业的准确性。
17、本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种翻面机构，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的翻面机构，其特征在于：
3.如权利要求2所述的翻面机构，其特征在于：
4.如权利要求3所述的翻面机构，其特征在于：
5.如权利要求4所述的翻面机构，其特征在于：
6.如权利要求2所述的翻面机构，其特征在于：
7.如权利要求1所述的翻面机构，其特征在于：
8.如权利要求7所述的翻面机构，其特征在于：
9.如权利要求8所述的翻面机构，其特征在于：
10.一种光刻机，其特征在于，包括权利要求1至9任一项所述的翻面机构。
【技术特征摘要】
1.一种翻面机构，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的翻面机构，其特征在于：
3.如权利要求2所述的翻面机构，其特征在于：
4.如权利要求3所述的翻面机构，其特征在于：
5.如权利要求4所述的翻面机构，其特征在于：
6.如权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈超，零萍，敦士军，陈锡媛，
申请(专利权)人：中山新诺科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。