【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻领域，特别涉及一种直写式曝光系统及光刻机。
技术介绍
1、众所周知，激光直写光刻机用于进行集成电路等的制造，具有良好的适应性和灵活性，且具有相对更低的加工成本，在线路板行业、掩膜板制造等行业被广泛应用。然而，直写式的光刻机调节光刻分辨率和蚀刻尺寸时，需要进行部件的移动、更换及定位等步骤，因此具有作业繁琐的问题。
技术实现思路
1、本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种直写式曝光系统，能够便利地调节光刻范围和蚀刻尺寸。
2、本专利技术还提出一种具有上述直写式曝光系统的光刻机。
3、根据本专利技术的第一方面实施例的直写式曝光系统，包括：激光光源、引射系统、空间光调制器和基板安装平台，激光光源安装于可旋转的安装工件并能够进行自转；引射系统包括第一引射镜组、第二引射镜组和第三引射镜组，所述安装工件能且仅能带动所述激光光源旋转朝向所述第一引射镜组、所述第二引射镜组和所述第三引射镜组的其中之一，所述第一引射镜组、所述第二引射镜组和所述第三引射镜组均能够对激光进行引导和均匀化且三者对激光的折射率相异；第一成像镜组、第二成像镜组和第三成像镜组分别与所述第一引射镜组、所述第二引射镜组和所述第三引射镜组对接；空间光调制器安装于可移动的位移平台，所述空间光调制器能够位移至所述第一引射镜组和所述第一成像镜组之间，或者位移至所述第二引射镜组和所述第二成像镜组之间，或者位移至所述第三引射镜组和所述第三成像镜组之间，并将激光处理为成
4、根据本专利技术实施例的直写式曝光系统，至少具有如下有益效果：激光光源发出激光后，激光将会射入于引射系统中。激光在引射系统中进行引导和均匀化之后，将会射入空间光调制器，并由空间光调制器将激光处理为成像光。随后，成像光将会射入于第一成像镜组、第二成像镜组和第三成像镜组的其中之一，并由其进行成像处理，最后成型结果则会投射于基板安装平台，从而完成光刻作业。
5、需要对成像的分辨率、精度等进行调节时，可以通过安装工件驱动激光光源进行旋转。激光光源在旋转时，将会与所述第一引射镜组、所述第二引射镜组和所述第三引射镜组的其中之一对接，并最后通过第一成像镜组、第二成像镜组和第三成像镜组的其中之一射出。由于对激光光源进行旋转，即可得到相异的引射及成像处理，因此可以快捷、方便的对光刻分辨率进行切换，进而可以便利地进行作业。
6、根据本专利技术的一些实施例，所述第一引射镜组、所述第二引射镜组和所述第三引射镜组环绕所述激光光源分布；所述激光光源的旁侧设置有到位感应器，所述到位感应器与所述激光光源电连接并能够控制所述激光光源的启闭。
7、根据本专利技术的一些实施例，所述安装工件的旁侧设置有多个环绕其分布的定位卡点，所述定位卡点能够与所述激光光源卡接配合并对所述激光光源进行定位固定。
8、根据本专利技术的一些实施例，所述激光光源、所述第一引射镜组和所述第一成像镜组成列分布，所述第二引射镜组和所述第三引射镜组分别位于所述激光光源的两侧；所述第二引射镜组和所述第三引射镜组与所述第一引射镜组之间的距离大于所述激光光源所发出的激光的扩散距离。
9、根据本专利技术的一些实施例，所述第二引射镜组和所述第二成像镜组之间、所述第三引射镜组和所述第三成像镜组之间均设置有反光镜组，所述反光镜组能够令射入至所述第一成像镜组、所述第二成像镜组和所述第三成像镜组的激光具有相同的照射方向。
10、根据本专利技术的一些实施例，所述基板安装平台对接有微透镜阵列，所述微透镜阵列能够与所述第一成像镜组、所述第二成像镜组和所述第三成像镜组的至少其一对接，并对其传递而来的光线进行聚焦处理。
11、根据本专利技术的一些实施例，所述微透镜阵列包括与所述第一成像镜组对接的第一微透镜组、与所述第二成像镜组对接的第二微透镜组和与所述第三成像镜组对接的第三微透镜组，所述第一微透镜组、所述第二微透镜组和所述第三微透镜组均包括多个微透镜且三者具有相异的微透镜间距。
12、根据本专利技术的一些实施例，所述空间光调制器内具有多个微透镜，所述空间光调制器、所述第一微透镜组、所述第二微透镜组和所述第三微透镜组中的微透镜具有相同的数量和排列分布。
13、根据本专利技术的一些实施例，所述第一成像镜组、所述第二成像镜组和所述第三成像镜组均对应设置有定位点，所述定位点处设置有定位感应器，所述定位感应器与所述位移平台电连接。
14、根据本专利技术第二方面实施例的光刻机，包括根据本专利技术上述第一方面实施例的直写式曝光系统。
15、根据本专利技术实施例的光刻机，至少具有如下有益效果：激光光源发出激光后，激光将会射入于引射系统中。激光在引射系统中进行引导和均匀化之后，将会射入空间光调制器，并由空间光调制器将激光处理为成像光。随后，成像光将会射入于第一成像镜组、第二成像镜组和第三成像镜组的其中之一，并由其进行成像处理，最后成型结果则会投射于基板安装平台，从而完成光刻作业。
16、需要对成像的分辨率、精度等进行调节时，可以通过安装工件驱动激光光源进行旋转。激光光源在旋转时，将会与所述第一引射镜组、所述第二引射镜组和所述第三引射镜组的其中之一对接，并最后通过第一成像镜组、第二成像镜组和第三成像镜组的其中之一射出。由于对激光光源进行旋转，即可得到相异的引射及成像处理，因此可以快捷、方便的对光刻的分辨率进行切换，进而可以便利地进行作业。
17、本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。
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1.一种直写式曝光系统，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的直写式曝光系统，其特征在于：
3.如权利要求2所述的直写式曝光系统，其特征在于：
4.如权利要求2所述的直写式曝光系统，其特征在于：
5.如权利要求4所述的直写式曝光系统，其特征在于：
6.如权利要求1所述的直写式曝光系统，其特征在于：
7.如权利要求6所述的直写式曝光系统，其特征在于：
8.如权利要求7所述的直写式曝光系统，其特征在于：
9.如权利要求1所述的直写式曝光系统，其特征在于：
10.一种光刻机，其特征在于，包括权利要求1至9任一项所述的直写式曝光系统。
【技术特征摘要】
1.一种直写式曝光系统，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的直写式曝光系统，其特征在于：
3.如权利要求2所述的直写式曝光系统，其特征在于：
4.如权利要求2所述的直写式曝光系统，其特征在于：
5.如权利要求4所述的直写式曝光系统，其特征在于：
6.如权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈超，陈锡媛，蔡自立，零萍，
申请(专利权)人：中山新诺科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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