一种物镜保护装置及其工作方法、光刻机制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种物镜保护装置及其工作方法、光刻机。所述物镜保护装置内中间连接板与待保护物镜的镜头镜面相对设置，中间连接板包括出气口，出气口贯穿中间连接板露出镜头镜面的取光区；第一环形气腔包括第一进气孔和第一出气滤网，第一进气孔设置于第一环形气腔远离中间连接板一侧的侧壁上，第一出气滤网与待保护物镜的镜头侧壁相对且等间距设置；第二环形气腔包括第二进气孔和第二出气滤网，第二进气孔设置于第二环形气腔远离中间连接板一侧的侧壁上，第二出气滤网与待保护物镜的镜筒靠近物镜保护装置一侧的表面相对且等间距设置。本发明专利技术实施例提供的技术方案，避免了物镜受污染。染。染。

【技术实现步骤摘要】
一种物镜保护装置及其工作方法、光刻机


[0001]本专利技术实施例涉及光刻
，尤其涉及一种物镜保护装置及其工作方法、光刻机。

技术介绍

[0002]光刻机中物镜用于将掩膜版上的图案按照一定比例缩小后映射至涂覆有光刻胶的硅片上，同时在上述过程中进行光学误差补偿，是光刻机的重要组成部件，对光刻精度的影响较大。
[0003]现有技术中在物镜与硅片之间设置底部流动板，底部流动板能够在物镜镜头的取光区与硅片之间形成气帘，阻止光刻胶曝光产生的气体和颗粒污染物镜。但气帘通过抽排方式形成，抽排区域附近形成负压环境，导致气帘密封不严，光刻胶曝光一段时间后，仍然会有有害气体和颗粒穿过气帘污染物镜。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供一种物镜保护装置及其工作方法、光刻机，以避免物镜受污染。
[0005]第一方面，本专利技术实施例提供了一种物镜保护装置，包括保护装置本体，所述保护装置本体包括中间连接板以及依次围绕所述中间连接板设置的第一环形气腔、第二环形气腔；
[0006]其中，所述中间连接板与待保护物镜的镜头镜面相对设置，所述中间连接板包括出气口，所述出气口贯穿所述中间连接板露出所述镜头镜面的取光区；
[0007]所述第一环形气腔包括第一进气孔和第一出气滤网，所述第一进气孔设置于所述第一环形气腔远离所述中间连接板一侧的侧壁上，所述第一出气滤网与所述待保护物镜的镜头侧壁相对且等间距设置；
[0008]所述第二环形气腔包括第二进气孔和第二出气滤网，所述第二进气孔设置于所述第二环形气腔远离所述中间连接板一侧的侧壁上，所述第二出气滤网与所述待保护物镜的镜筒靠近所述物镜保护装置一侧的表面相对且等间距设置。
[0009]第二方面，本专利技术实施例还提供了一种光刻机，包括上述第一方面所述的物镜保护装置。
[0010]第三方面，本专利技术实施例还提供了一种物镜保护装置的工作方法，采用上述第一方面所述物镜保护装置执行，该物镜保护装置的工作方法包括：
[0011]固定所述物镜保护装置的保护装置本体，以使所述物镜保护装置的中间连接板与待保护物镜的镜头镜面相对设置，所述镜头镜面的取光区从所述中间连接板上的出气口露出，第一出气滤网与所述待保护物镜的镜头侧壁相对且等间距设置，所述第二出气滤网与所述待保护物镜的镜筒靠近所述物镜保护装置一侧的表面相对且等间距设置；
[0012]通过所述第一进气孔向所述第一环形气腔输入第一气体，通过所述第二进气孔向所述第二环形气腔输入第二气体，所述第一气体的流量小于所述第二气体的流量，所述第
一气体的密度和所述第二气体的密度不同。
[0013]本专利技术实施例提供的物镜保护装置中保护装置本体包括中间连接板以及依次围绕中间连接板设置的第一环形气腔、第二环形气腔，其中，中间连接板与待保护物镜的镜头镜面相对设置，中间连接板包括出气口，出气口贯穿中间连接板露出镜头镜面的取光区，第一环形气腔包括第一进气孔和第一出气滤网，第一进气孔设置于第一环形气腔远离中间连接板一侧的侧壁上，第一出气滤网与待保护物镜的镜头侧壁相对且等间距设置，第二环形气腔包括第二进气孔和第二出气滤网，第二进气孔设置于第二环形气腔远离中间连接板一侧的侧壁上，第二出气滤网与待保护物镜的镜筒靠近物镜保护装置一侧的表面相对且等间距设置，从而在待保护物镜与物镜保护装置之间形成稳定的正压区域，保证了光刻胶曝光产生的气体和颗粒污染物无法流入该正压区域，更无法进一步达到待保护物镜的镜头镜片上，进而避免了待保护物镜受污染。
附图说明
[0014]通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本专利技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
[0015]图1是现有技术中曝光过程的部分结构示意图；
[0016]图2是本专利技术实施例提供的物镜和物镜保护装置的位置关系示意图；
[0017]图3是沿图2中虚线BB的截面图；
[0018]图4是沿图2中虚线CC的截面图；
[0019]图5是本专利技术实施例提供的又一种物镜和物镜保护装置的位置关系示意图；
[0020]图6是沿图5中虚线BB的剖面结构示意图；
[0021]图7是沿图5中虚线CC的剖面结构示意图；
[0022]图8是本专利技术实施例提供的又一种物镜和物镜保护装置的位置关系示意图；
[0023]图9是沿图8中虚线BB的截面图；
[0024]图10是沿图8中虚线CC的截面图；
[0025]图11是本专利技术实施例提供的一种物镜保护装置的工作方法的流程示意图。
具体实施方式
[0026]为更进一步阐述本专利技术为达成预定专利技术目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本专利技术提出的一种物镜保护装置及其工作方法、光刻机的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如下。
[0027]本专利技术实施例提供了一种物镜保护装置，包括保护装置本体，所述保护装置本体包括中间连接板以及依次围绕所述中间连接板设置的第一环形气腔、第二环形气腔；
[0028]其中，所述中间连接板与待保护物镜的镜头镜面相对设置，所述中间连接板包括出气口，所述出气口贯穿所述中间连接板露出所述镜头镜面的取光区；
[0029]所述第一环形气腔包括第一进气孔和第一出气滤网，所述第一进气孔设置于所述第一环形气腔远离所述中间连接板一侧的侧壁上，所述第一出气滤网与所述待保护物镜的镜头侧壁相对且等间距设置；
[0030]所述第二环形气腔包括第二进气孔和第二出气滤网，所述第二进气孔设置于所述
第二环形气腔远离所述中间连接板一侧的侧壁上，所述第二出气滤网与所述待保护物镜的镜筒靠近所述物镜保护装置一侧的表面相对且等间距设置。
[0031]本专利技术实施例提供的物镜保护装置中保护装置本体包括中间连接板以及依次围绕中间连接板设置的第一环形气腔、第二环形气腔，其中，中间连接板与待保护物镜的镜头镜面相对设置，中间连接板包括出气口，出气口贯穿中间连接板露出镜头镜面的取光区，第一环形气腔包括第一进气孔和第一出气滤网，第一进气孔设置于第一环形气腔远离中间连接板一侧的侧壁上，第一出气滤网与待保护物镜的镜头侧壁相对且等间距设置，第二环形气腔包括第二进气孔和第二出气滤网，第二进气孔设置于第二环形气腔远离中间连接板一侧的侧壁上，第二出气滤网与待保护物镜的镜筒靠近物镜保护装置一侧的表面相对且等间距设置，从而在待保护物镜与物镜保护装置之间形成稳定的正压区域，保证了光刻胶曝光产生的气体和颗粒污染物无法流入该正压区域，更无法进一步达到待保护物镜的镜头镜片上，进而避免了待保护物镜受污染。
[0032]以上是本申请的核心思想，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0033]在下面的描述中阐述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种物镜保护装置，其特征在于，包括保护装置本体，所述保护装置本体包括中间连接板以及依次围绕所述中间连接板设置的第一环形气腔、第二环形气腔；其中，所述中间连接板与待保护物镜的镜头镜面相对设置，所述中间连接板包括出气口，所述出气口贯穿所述中间连接板露出所述镜头镜面的取光区；所述第一环形气腔包括第一进气孔和第一出气滤网，所述第一进气孔设置于所述第一环形气腔远离所述中间连接板一侧的侧壁上，所述第一出气滤网与所述待保护物镜的镜头侧壁相对且等间距设置；所述第二环形气腔包括第二进气孔和第二出气滤网，所述第二进气孔设置于所述第二环形气腔远离所述中间连接板一侧的侧壁上，所述第二出气滤网与所述待保护物镜的镜筒靠近所述物镜保护装置一侧的表面相对且等间距设置。2.根据权利要求1所述的物镜保护装置，其特征在于，所述保护装置本体还包括抽排腔，所述抽排腔围绕所述第一环形气腔设置，且位于所述第二环形气腔远离所述待保护物镜的一侧。3.根据权利要求2所述的物镜保护装置，其特征在于，所述抽排腔包括四个子抽排腔，四个所述子抽排腔依次等间距排列。4.根据权利要求1所述的物镜保护装置，其特征在于，还包括多个音圈电机，所述音圈电机与所述保护装置本体连接，用于控制所述保护装置本体朝向或远离所述待保护物镜移动。5.根据权利要求4所述的物镜保护装置，其特征在于，还包括绝压传感器，所述绝压传感器用于检测待保护物镜的底部压力。6.一种光刻机，其特征在于，包括权利要求1
‑
5任一项所述的物镜保护装置。7.一种物镜保护装置的工作方法，采用权利要求1
‑

【专利技术属性】
技术研发人员：杨宪，戴思雨，刘伟，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：