【技术实现步骤摘要】
一种物镜保护装置及其工作方法、光刻机
[0001]本专利技术实施例涉及光刻
，尤其涉及一种物镜保护装置及其工作方法、光刻机。
技术介绍
[0002]光刻机中物镜用于将掩膜版上的图案按照一定比例缩小后映射至涂覆有光刻胶的硅片上，同时在上述过程中进行光学误差补偿，是光刻机的重要组成部件，对光刻精度的影响较大。
[0003]现有技术中在物镜与硅片之间设置底部流动板，底部流动板能够在物镜镜头的取光区与硅片之间形成气帘，阻止光刻胶曝光产生的气体和颗粒污染物镜。但气帘通过抽排方式形成，抽排区域附近形成负压环境，导致气帘密封不严，光刻胶曝光一段时间后，仍然会有有害气体和颗粒穿过气帘污染物镜。
技术实现思路
[0004]本专利技术提供一种物镜保护装置及其工作方法、光刻机，以避免物镜受污染。
[0005]第一方面，本专利技术实施例提供了一种物镜保护装置，包括保护装置本体，所述保护装置本体包括中间连接板以及依次围绕所述中间连接板设置的第一环形气腔、第二环形气腔；
[0006]其中，所述中间连接板与待...
【技术保护点】
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种物镜保护装置，其特征在于，包括保护装置本体，所述保护装置本体包括中间连接板以及依次围绕所述中间连接板设置的第一环形气腔、第二环形气腔；其中，所述中间连接板与待保护物镜的镜头镜面相对设置，所述中间连接板包括出气口，所述出气口贯穿所述中间连接板露出所述镜头镜面的取光区；所述第一环形气腔包括第一进气孔和第一出气滤网，所述第一进气孔设置于所述第一环形气腔远离所述中间连接板一侧的侧壁上，所述第一出气滤网与所述待保护物镜的镜头侧壁相对且等间距设置；所述第二环形气腔包括第二进气孔和第二出气滤网，所述第二进气孔设置于所述第二环形气腔远离所述中间连接板一侧的侧壁上，所述第二出气滤网与所述待保护物镜的镜筒靠近所述物镜保护装置一侧的表面相对且等间距设置。2.根据权利要求1所述的物镜保护装置，其特征在于，所述保护装置本体还包括抽排腔，所述抽排腔围绕所述第一环形气腔设置，且位于所述第二环形气腔远离所述待保护物镜的一侧。3.根据权利要求2所述的物镜保护装置，其特征在于，所述抽排腔包括四个子抽排腔，四个所述子抽排腔依次等间距排列。4.根据权利要求1所述的物镜保护装置，其特征在于，还包括多个音圈电机，所述音圈电机与所述保护装置本体连接，用于控制所述保护装置本体朝向或远离所述待保护物镜移动。5.根据权利要求4所述的物镜保护装置，其特征在于，还包括绝压传感器，所述绝压传感器用于检测待保护物镜的底部压力。6.一种光刻机，其特征在于，包括权利要求1
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5任一项所述的物镜保护装置。7.一种物镜保护装置的工作方法，采用权利要求1
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技术研发人员：杨宪，戴思雨，刘伟，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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