反射式空间光调节器的制造制造技术

一种包括微镜阵列的反射式空间光调节器的制造。在一个实施例中，微镜阵列是通过仅使用两个主要蚀刻步骤由单晶材料的衬底制造而成的。第一步蚀刻在材料的第一侧中形成空穴。第二步蚀刻形成支持柱、垂直铰链和镜板。在第一和第二步蚀刻之间，可以将衬底压焊到寻址和控制电路上。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种制造空间光调节器的方法，包括：在第一衬底的第一侧中形成空穴；在第二衬底的第一侧上制造电极；将第一衬底的第一侧压焊到第二衬底的第一侧上；以及在将第一衬底的第一侧压焊到第二衬底的第一侧上之后，在第一衬底的第二 侧上形成铰链、连接器和镜板；。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：晓和X潘，杨晓，陈东敏，
申请(专利权)人：明锐有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]