反射式空间光调节器的结构制造技术

技术编号:3029007 阅读:268 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术是空间光调节器(100),具有选择性地反射的可偏转微镜阵列(103)板(202),由第一衬底(105)制造。在另一衬底上,有用于微镜阵列(103)的寻址和控制电路(106),其使得控制电路(106)控制施加到与微镜板(204)相关的选定的电极(126)的电压。通常,控制电路(106)包括显示控制(108)、线路存储缓存(110)、脉宽调制阵列(112)和用于视频信号(120)和图形信号(122)的输入。镜阵列衬底(105)进一步具有隔离支持框架(210)和铰链(206),其中当静电力施加到微镜阵列板(204)时,与其相连的铰链使得镜板(204)相对于隔离支持框架(210)旋转。该旋转在选定的方向为反射光产生角度偏转。第一衬底和第二衬底压焊到一起。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及空间光调节器(SLM),更为确切地说,涉及用于显示设备中带有电子可寻址控制电路的微镜阵列。
技术介绍
空间光调节器(SLM)在光学信息处理、投影显示、视频和图形监视器、电视和电子照相印刷等领域里有着大量的应用。反射式SLM是在空间模式中调制入射光以反射对应于电子或光学输入的图像的设备。可以对入射光进行相位、强度、偏振或偏转方向等方面的调制。反射式SLM一般由能够反射入射光的可寻址图片元件(像素)的区域或二维阵列组成。源像素数据首先经过有关的控制电路的处理,然后被加载到像素阵列上,一次加载一框架。现有技术的SLM具有多种缺点。这些缺点包括不够优化的光学有效区域(通过测量设备表面中的反射部分所占比例而得,也叫做“填充比”)减少了光学效率,粗糙的反射表面降低了镜的反射性,衍射降低了显示的对比度,使用的材料在长期耐用性方面存在问题,还有,复杂的制造过程增加了产品的生产成本。许多现有技术的设备包括了在其表面上基本不反射的区域。这使它具有低填充比和低的最佳反射效率。例如,美国专利号4,229,732中公开的MOSFET器件是在镜以及设备表面上形成的。这些MOSFET器件占用了表本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种空间光调节器,包括:    控制电路衬底,包括:    多个电极,用于接收选定电压;    存储缓存;    显示控制器;和    脉宽调制阵列;以及    镜阵列衬底,压焊到控制电路衬底,镜阵列衬底包括:    多个微镜板;    隔离支持框架,用于将多个微镜板与控制电路衬底相隔离以及支持微镜板;和    多个铰链,每个铰链连接到隔离支持框架和微镜板,用于使得镜板相对于隔离支持框架围绕由铰链限定的轴旋转。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:晓河X潘陈东敏杨晓张首晟
申请(专利权)人:明锐有限公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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