水封防污染装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于硅材料的酸或碱处理设备中的水封防污染装置，它设置在硅的酸或碱处理设备内。该水封防污染装置包括：隔板和一个过渡槽，其内带有液体，隔板下部连接在过渡槽中间位置并延伸至液面以下，隔板及过渡槽均与设备内壁密闭连接，以便将设备的内部空间的左右两工作区的气流隔断，从而避免带有酸碱的气流对后处理工作区的污染。该装置结构简单、隔离效果好。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及硅材料进行的酸或碱处理的设备，尤其涉及一种硅材料 的酸或碱处理设备中的水封防污染装置。
技术介绍
在硅片、硅料与硅芯处理中，由于涉及酸或石威处理工序，故需要把酸或碱 处理工作区与其它处理(水洗/干燥)工作区分开，以避免酸或^5咸对后处理工作区的污染。现有避免酸或石威对后处理工作区的污染的^f故法有1、通过酸石威萃炎 的抽排风系统来避免酸44气的漂移；这样做一个要求抽风效果要好，另一个 是抽风系统要连续工作。2、把设备分成两部分来做，酸洗做一台设备，碱洗 做一台设备；这样做由于两台设备工艺要连着做，就需人为周转，会带来工 艺的二次污染。
技术实现思路
本技术为了无服现有避见吸孰砜对后处理工作12U 难度大、工艺难控制的缺陷，提供一种水封防污染装置，其通过水封结构实 现污染的控制，结构简单、隔离效果好。为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案 一种水封防污染 装置，其设置在硅材料的酸或碱处理的设备内。该水封防污染装置包括隔板 和一过渡槽，所述过渡槽为上方开口的容器，其内带有液体，隔板下部连接 在过渡槽中间位置并延伸至液面以下。隔板及过渡槽均与设备内壁紧密连接， 从而实现将设备内腔的空间隔离。其中过渡槽侧面尺寸可设置为与设备内腔 尺寸相匹配，从而实现与设备内腔侧壁部分连接；但尺寸也可以比设备内腔 侧壁小，其空隙部分通过隔板来连接隔离。所述过渡槽内部设有传送机构。传送机构的传送起点与终点分别位于过 渡槽内、隔板延伸面的两侧。所述传送机构上还设置有工件篮，且传送机构与隔板下端的距离大于工 件篮高度。以保证传送时工件篮能顺利通过隔板下方。所述设备包括被隔板所隔离的两个独立的内部空间，它们分别为左工作 区和右工作区，过渡槽横跨两个工作区。所述过渡槽中的液体为水。本技术在硅材料进行酸或碱处理设备中的分区处增加一带传送机构 的过渡槽，通过隔板插于水中以及隔板和过度槽与设备内壁的密闭，将设备 的内部空间左右两工作区的气流隔断，从而避免带有酸石咸的气流对后处理工 作区的污染。该装置结构简单、隔离效果好。以下结合附图和实施例对本技术做进一步的说明 附图说明图1为本技术结构示意图。具体实施方式如图1所示的一种用于硅材料进行酸或碱处理设备中的水封防污染装置， 它设置在硅材料的酸或碱处理设备内需要隔离的区域处。本技术的优选 实施例包括 一纵向于设备截面隔板5和一个过渡槽1，过渡槽l为上方开口 的容器，其内装有水4，所述隔板5下部连接在过渡槽1中间位置并插于水4 中；隔板5及过渡槽1均与设备内壁6连接从而实现利用水封将工作区空气 隔断。设备是四方框架结构。在所述过渡槽l内部设有传送机构2，其传送起 点与终端分别位于过渡槽1内与隔板5延伸面垂直的两侧。所述传送机构2 上还设置有工件篮3,传送机构2上部与隔板5下端的距离大于工件篮3的高 度。过渡槽1侧面(与隔板垂直连接的面)尺寸若与设备内腔侧壁尺寸正好 相匹配，则可将设备内腔侧壁部分直接与过渡槽1连接；但若过渡槽1侧面 尺寸比设备内腔侧壁小，那么其空隙部分设置隔板5隔离。总之确保设备内 部空间被隔板隔离为相互独立的左工作区7和右工作区8，并且过渡槽1横跨 于两个工作区。所述过渡槽1中填充的也可以是其它液体。工作时，首先要确保过渡槽1中的液体浸没过渡槽内的隔板5底端，然 后将工件放入被液体浸没的工件篮3中，再启动传送机构2将工件篮从一个 工作区传送到另 一个工作区。本技术在硅材料的酸或碱处理设备内部空间通过隔板5插于液体中， 利用水封将左右两工作区7、 8有效分开，工件篮3的传送由设于槽内传送机 构2实现，这样两区的气流就不能连通，起到隔离效果，避免带有酸碱的气 流对后处理工作区的污染。结构简单、隔离效果好。上述为本技术优选实施例,凡在此原理上改进，均落入本技术 的保护范围。权利要求1、一种水封防污染装置，设置在酸碱处理的设备内，其特征在于包括隔板和一个过渡槽，其内带有液体，隔板下部设于过渡槽中间位置并延伸至液面以下，隔板及过渡槽的周边均与所述设备内壁连接。2、 根据权利要求1所述的水封防污染装置，其特征在于所述过渡槽内 部设有传送机构。3、 根据权利要求2所述的水封防污染装置，其特征在于所述传送机构 的传送起点与终点分别位于过渡槽内的隔板的两侧。4、 根据权利要求3所述的水封防污染装置，其特征在于所述传送机构 上设置有工件篮，且传送机构与隔板下端的距离大于工件篮高度。5、 根据权利要求1所述的水封防污染装置，其特征在于所述设备的内 部空间被隔板划分为两个独立的左、右工作区，过渡槽横跨这两个工作区。6、 根据权利要求l所述的水封防污染装置，其特征在于所述过渡槽中 的液体为水。专利摘要本技术公开了一种用于硅材料的酸或碱处理设备中的水封防污染装置，它设置在硅的酸或碱处理设备内。该水封防污染装置包括隔板和一个过渡槽，其内带有液体，隔板下部连接在过渡槽中间位置并延伸至液面以下，隔板及过渡槽均与设备内壁密闭连接，以便将设备的内部空间的左右两工作区的气流隔断，从而避免带有酸碱的气流对后处理工作区的污染。该装置结构简单、隔离效果好。文档编号C23F1/08GK201222488SQ200820094928公开日2009年4月15日 申请日期2008年6月20日 优先权日2008年6月20日专利技术者仲 余, 黄进权 申请人:深圳市捷佳创精密设备有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种水封防污染装置，设置在酸碱处理的设备内，其特征在于：包括隔板和一个过渡槽，其内带有液体，隔板下部设于过渡槽中间位置并延伸至液面以下，隔板及过渡槽的周边均与所述设备内壁连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：余仲，黄进权，
申请(专利权)人：深圳市捷佳创精密设备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：94[中国|深圳]