深亚微米级堆叠并联金属/绝缘体/金属结构电容器制造技术

技术编号:3239602 阅读:231 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种深亚微米级堆叠并联MiM结构电容器,其具有多层堆叠的MiM结构,有多个金属或多晶硅层作为布线层,构成下极板,其上方有导电层构成上极板,各个上极板图案由同一块MMC掩模定义,上、下两个平行电极板之间有绝缘电介质,构成单个固定电容器,金属层间的导通孔分别从上、下极板引出连接作为MiM结构电容器的两个节点,各布线层之间的单个固定电容器通过布线构成堆叠并联结构电容器。本实用新型专利技术的电容器在同样的布图面积下,电容显著增大,并且不需要额外的掩膜,从而达到节省布局面积的目的。(*该技术在2016年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种深亚微米级堆叠并联金属/绝缘体/金属结构电容器,其特征在于具有多层堆叠的金属/绝缘体/金属结构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:夏洪旭王政烈
申请(专利权)人:和舰科技苏州有限公司
类型:实用新型
国别省市:32[中国|江苏]

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