半导体结构及其制作方法技术

技术编号:3237165 阅读:145 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种半导体结构,其位于晶片的切割道区上,且环绕晶片的芯片区,此半导体结构包括依序配置于切割道区上的多层介电层以及配置于每一层介电层中的多个图案化金属。其中,每一层介电层中的图案化金属延伸至位于下一层的部分介电层中。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种,尤其涉及防止芯片龟裂的。
技术介绍
随着科技日新月异,集成电路元件几乎已达到无所不在的地步。然而,集成电路元件生产的流程非常复杂,基本上包括集成电路设计、晶片制造、晶片测试及晶片封装(package)等四大阶段,而约需经过数百个不同的步骤,耗时约一、两个月的时间才得以完成。为了量产及降低制造成本,晶片直径已由过去的四寸、五寸、六寸演变到十二寸,使得一片晶片上能同时制作更多芯片。集成电路元件的制造过程主要分为三个阶段硅芯片的制造、集成电路的制作及集成电路元件的封装等。在集成电路的制作过程中,通常会在晶片切割道上形成许多的监测用图案,例如对准标记、监视/测量图案、电性测试图案以及产品编号等等。另外,封装可说是完成集成电路成品的最后阶段,其工艺包括相当复杂的步骤,而第一步就是晶片切割。在一个硅晶片上,通常具有多个相互平行的水平切割道(scribe line)与多个相互垂直的垂直切割道,用以将多个芯片彼此分隔开。当晶片上的元件制作完成后,利用钻石刀具(diamond blade)沿着晶片的切割道切割,以得到多个芯片。由于晶片上覆盖有多种不同材料层,因此在晶片切割操作期本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半导体结构,位于一晶片的一切割道区上且环绕该晶片的一芯片区,该半导体结构包括:多个介电层,依序配置于该切割道区上;以及多个图案化金属,配置于每一该些介电层中,且延伸至位于下方的部分该介电层中。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:郭建利吴炳昌饶瑞孟
申请(专利权)人:联华电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]

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