本发明专利技术提供对准装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法，对准装置包括：对准测量位置信息存储部，存储与基板的对准测量位置相关的信息；以及测量部，根据基于与上述对准测量位置相关的信息获得的基板和掩模的对准标记的图像，测量基板与掩模的相对的偏移，与上述对准测量位置相关的信息包括在基板的至少一部分与掩模接触的状态下进行的对准工序中的与基板的位置相关的信息。序中的与基板的位置相关的信息。序中的与基板的位置相关的信息。
【技术实现步骤摘要】
对准装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法
[0001]本专利技术申请是申请日为2018年8月31日、申请号为201811006627.2、专利技术名称为“对准装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法”的专利技术专利申请的分案申请。
[0002]本专利技术涉及对准方法和装置，特别涉及通过使进行对准的基板相对于掩模的相对位置根据基板和掩模的种类而不同，能够迅速且使对基板图案的损伤最小化的对准方法和装置。
技术介绍
[0003]最近，有机EL显示装置作为平板显示装置崭露头角。有机EL显示装置作为自发光显示器，响应速度、视场角、薄型化等特性比液晶面板显示器优异，在监视器、电视机、以智能手机为代表的各种便携终端等方面，急速地替代了现有的液晶面板显示器。此外，其应用领域也广泛地分布于汽车用显示器等。
[0004]有机EL显示装置的元件具有在两个彼此相向的电极(阴极电极、阳极电极)之间形成有引起发光的有机物层的基本构造。有机EL显示器元件的有机物层及电极金属层通过在真空腔内经由形成有像素图案的掩模使蒸镀物质蒸镀到基板上而被制造，但是为了使蒸镀物质以所希望的图案蒸镀到基板上的所希望的位置，在进行向基板的蒸镀之前，不得不精密地对齐掩模与基板的相对的位置。
[0005]因此，在掩模与基板上形成标记(将其称为对准标记)，利用设置于成膜装置的照相机拍摄这些对准标记，以使标记的中心彼此一致的方式使掩模与基板相对地移动。
技术实现思路
[0006]专利技术要解决的课题
[0007]若重复进行掩模与基板之间的对准工序，则存在真空蒸镀工序所花费的时间(Tact)增大的课题。
[0008]本专利技术的主要目的在于，提供一种用于在降低对基板的损伤的同时迅速地进行掩模与基板之间的对准工序的对准方法、对准装置、成膜方法、成膜装置及电子器件的制造方法。
[0009]用于解决课题的技术方案
[0010]本专利技术的第一技术方案的对准装置包括：对准测量位置信息存储部，存储与基板的对准测量位置相关的信息；以及测量部，根据基于与上述对准测量位置相关的信息获得的基板和掩模的对准标记的图像，测量基板与掩模的相对的偏移，与上述对准测量位置相关的信息包括在基板的至少一部分与掩模接触的状态下进行的对准工序中的与基板的位置相关的信息。
[0011]本专利技术的第二技术方案的成膜装置包括：对准测量位置信息存储部，存储基板的对准测量位置信息；以及控制部，基于从上述对准测量位置信息存储部读取出的上述对准
测量位置信息，对成膜装置进行控制，上述对准测量位置信息包括在基板的至少一部分与掩模接触的状态下进行的对准工序中的与基板的位置相关的信息。
[0012]本专利技术的第三技术方案的成膜装置包括控制部，该控制部从包括存储基板的对准测量位置信息的对准测量位置信息存储部在内的服务器接收该基板的上述对准测量位置信息，对成膜装置进行控制，上述对准测量位置信息包括在基板的至少一部分与掩模接触的状态下进行的对准工序中的与基板的位置相关的信息。
[0013]本专利技术的第四技术方案的对准方法包括：第1对准工序，在使基板从掩模的上表面分离的状态下，对齐基板和掩模的位置；以及第2对准工序，在使基板的至少一部分与掩模的上表面接触的状态下，对齐基板和掩模的位置，上述第2对准工序包括：读取与基板的第2对准测量位置相关的信息的阶段；基于与上述第2对准测量位置相关的上述信息，使上述基板相对于上述掩模移动到利用上述信息确定的位置的阶段；以及检测位于上述第2对准测量位置的上述基板和上述掩模的对准标记，测量上述基板与上述掩模之间的相对的偏移的阶段。
[0014]本专利技术的第五技术方案的成膜方法包括：将掩模搬入真空腔内的阶段；将基板搬入真空腔内的阶段；使搬入的基板和掩模位置对齐的对准阶段；以及经由掩模向基板成膜蒸镀物质的阶段，上述对准阶段利用本专利技术的第4技术方案的对准方法而进行。
[0015]本专利技术的第六技术方案的电子器件的制造方法包括本专利技术的第五技术方案的成膜方法。
[0016]专利技术的效果
[0017]根据本专利技术，通过在对准(特别是第2对准或精细对准)工序中，根据基板和掩模的种类，将测量基板与掩模的相对的偏移的对准测量位置设定在能够降低对准重复次数的位置，能够在维持高精度的同时，迅速地完成对准工序。此外，通过降低对准重复次数，特别是降低第2对准中的基板和掩模的接触次数，能够降低对已经形成于基板的图案的损伤。
附图说明
[0018]图1是有机EL显示装置的生产线的一部分的示意图。
[0019]图2是成膜装置的示意图。
[0020]图3是基板保持单元的示意图。
[0021]图4是用于说明第1对准工序的附图。
[0022]图5是表示第1对准工序结束后的基板的移动和夹持方法的附图。
[0023]图6是用于说明第2对准工序的附图。
[0024]图7是表示第2对准工序后的基板的移动和夹持方法的附图。
[0025]图8是将基板的识别编号与第2对准测量位置建立关联的关联表的例子。
[0026]图9是本专利技术的对准装置的框图。
[0027]图10是本专利技术的对准方法的流程图。
[0028]图11是本专利技术的成膜方法的流程图。
[0029]图12是有机EL显示装置的整体图和有机EL显示装置的元件的剖视图。
具体实施方式
[0030]以下，参照附图说明本专利技术的优选的实施方式以及实施例。但以下的实施方式以及实施例仅例示地表示本专利技术的优选的结构，本专利技术的范围不受这些结构的限定。此外，以下的说明中的、装置的硬件结构以及软件结构、处理流程、制造条件、尺寸、材质、形状等只要没有特别特定的记载，本专利技术的范围就不限定于它们。
[0031]本专利技术涉及用于对基板和掩模进行位置对齐的对准装置、使用对准装置的对准方法、包括对准装置的成膜装置、使用成膜装置在基板上形成薄膜的成膜方法及电子器件的制造方法，特别是涉及用于不会损伤基板图案且迅速地进行基板和掩模的高精度的位置调整的技术。本专利技术能够优选地应用于在平行平板的基板的表面通过真空蒸镀形成所希望的图案的薄膜(材料层)的装置。作为基板的材料，能够选择玻璃、树脂、金属等任意的材料，此外，作为蒸镀材料，也能够选择有机材料、无机材料(金属、金属氧化物等)等任意的材料。具体而言，本专利技术的技术能够应用于有机电子器件(例如，有机EL显示装置、薄膜太阳能电池)、光学构件等的制造装置。特别是由于基板的大型化或显示面板的高精细化，进一步要求提高基板与掩模的对准精度和速度，因此，有机EL显示装置的制造装置是本专利技术优选的应用例之一。
[0032][电子器件的生产线][0033]图1是示意性地表示电子器件的生产线的结构的一部分的俯视图。图1的生产线例如用于制造智能手机用的有机EL显示装置的显示面板。在智能手机用的显示面板的情况下，在对例如约1800mm
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约1500mm的尺寸的基板进行了有机EL的成膜后，冲切该基板而制作多本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种对准装置，为了进行基板和掩模的位置对齐而进行对准标记的检测和位置的测量，其特征在于，该对准装置包括：对准测量位置信息存储部，存储与基板的对准测量位置相关的信息；以及测量部，根据基于与上述对准测量位置相关的信息获得的基板和掩模的对准标记的图像，测量基板与掩模的相对的偏移，与上述对准测量位置相关的信息包括在基板的至少一部分与掩模接触的状态下进行的对准工序中的与基板的位置相关的信息。2.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，上述对准测量位置根据通过基板的识别编号确认的基板的种类而被设定成不同。3.根据权利要求2所述的对准装置，其特征在于，上述对准测量位置信息存储部以关联表的形式存储与基板的识别编号、基板的种类和该基板的对准测量位置相关的信息。4.根据权利要求3所述的对准装置，其特征在于，上述关联表还包括上述对准工序中的与照度、快门速度和照相机的高度相关的信息中的至少一个。5.根据权利要求2所述的对准装置，其特征在于，上述基板的种类包括与是否是生产用基板相关的信息。6.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，上述对准测量位置根据通过基板的识别编号确认的基板的种类和通过掩模的识别编号确认的掩模的种类而被设定成不同。7.根据权利要求6所述的对准装置，其特征在于，上述对准测量位置信息存储部以关联表的形式存储基板的识别编号、掩模的识别编号、基板的种类、掩模的种类和该基板的对准测量位置。8.根据权利要求7所述的对准装置，其特征在于，上述关联表还包括上述对准工序中的与照度、快门速度和照相机的高度相关的信息中的至少一个。9.根据权利要求6所述的对准装置，其特征在于，上述基板的种类包括与是否是生产用基板相关的信息，上述掩模的种类包括与掩模的厚度相关的信息。10.一种成膜装置，用于经由掩模在基板上成膜蒸镀物质，其特征在于，该成膜装置包括：对准测量位置信息存储部，存储基板的对准测量位置信息；以及控制部，基于从上述对准测量位置信息存储部读取出的上述对准测量位置信息，对成膜装置进行控制，上述对准测量位置信息包括在基板的至少一部分与掩模接触的状态下进行的对准工序中的与基板的位置相关的信息。11.根据权利要求10所述的成膜装置，其特征在于，上述对准测量位置根据通过基板的识别编号确认的基板的种类而被设定成不同。
12.根据权利要求11所述的成膜装置，其特征在于，上述对准测量位置信息存储部以关联表的形式存储与基板的识别编号、基板的种类和该基板的上述对准测量位置相关的信息。13.根据权利要求12所述的成膜装置，其特征在于，上述关联表还包括上述对准工序中的与照度、快门速度和照相机的高度相关的信息中的至少一个。14.根据权利要求11所述的成膜装置，其特征在于，上述基板的种类包括与是否是生产用基板相关的信息。15.根据权利要求10所述的成膜装置，其特征在于，上述对准测量位置根据通过基板的识别编号确认的基板的种类和通...
【专利技术属性】
技术研发人员：小林康信，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：
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