一种FMM精细金属掩膜板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种FMM精细金属掩膜板，包括掩膜版，所述掩膜版包括蒸镀像素格和减重槽；所述减重槽位于所述掩膜版除所述蒸镀像素格之外的位置上。即本实用新型专利技术通过在掩膜版上设置减重槽，降低掩膜版的自身重量，从而减少掩膜版的下垂量，达到改善蒸镀良率及蒸镀品质的目的。品质的目的。品质的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种FMM精细金属掩膜板


[0001]本技术涉及AMOLED生产工艺领域，特别涉及一种FMM精细金属掩膜板。

技术介绍

[0002]目前手机终端市场的发展趋势向着大尺寸、高分辨率的方向发展，对于高亮度、高对比度、高色域也有着更高的要求，而AMOLED(Active
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matrix organic light
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emitting diode，有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体)显示技术的技术特点完美的满足了上述要求。现阶段AMOLED屏幕量产工厂均采用真空蒸镀工艺制备，而真空蒸镀工艺最为重要的一项技术即为FMM(Fine Metal Mask，精细金属掩膜板)张网制备技术，其直接影响了AMOLED屏幕的分辨率、产品良率及产品品质等。FMM由掩膜框架、遮挡金属条、制程金属条和掩膜版构成，而影响屏幕的分辨率及蒸镀品质的关键点之一是掩膜版的品质。由于自重的原因，掩膜版在张网后会自然下垂，目前量产采用的掩膜版厚度规格均无法完全克服掩膜版下垂，若下垂量过大则会导致掩膜版与背板玻璃间隙过大，导致混色，对蒸镀良率本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种FMM精细金属掩膜板，其特征在于，包括掩膜版，所述掩膜版包括蒸镀像素格和减重槽；所述减重槽位于所述掩膜版除所述蒸镀像素格之外的位置上；所述减重槽位于所述蒸镀像素格的相邻列或相邻行之间。2.根据权利要求1所述的一种FMM精细金属掩膜板，其特征在于，所述减重槽的深度小于或等于所述掩膜版厚度的二分之一。3.根据权利要求2所述的一种FMM精细金属掩膜板，其特征在于，所述减重槽的深度为所述掩膜版厚度的二分之一或三分之一或四分之一。4.根据权利要求1所述的一种FMM精细金属掩膜板，其特征在于，所述减重槽设置在所述掩膜版...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗云鹏，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：新型
国别省市：