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紫外选择增强硅光电二极管制造技术

技术编号:3208159 阅读:257 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
新型的硅PN结光电二极管,它有衬底材料硅,PN结扩散层,二氧化硅层和电极引线,其特征在于受光面处露有衬底材料硅。能提高硅光电器件对光线、特别是对紫外光的响应度,在400~200nm波段具有比普通硅光电二极管明显增强的紫外响应度,在365nm的响应度达到0.20A/W,且工艺成熟,方法简便,成本低廉。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是一种改进的硅PN结光电二极管,它具有对光、特别是对紫外光选择增强响应度的效果。
技术介绍
紫外探测在军事、消防、医疗等领域有重要的应用。紫外光波长范围在1~400nm左右,200nm以下的紫外光基本上被大气完全吸收,所以就应用而言,人们主要关心400~200nm这一波段的紫外光。但这个波段的紫外光在硅中的吸收系数高达105~106cm-1,它们在硅中的有效透射深度小于100nm;且硅表面对这个波段的紫外光的反射率达60%~70%。用热扩散方法形成的硅PN结扩散层,由于在硅表面杂质呈高浓度分布,形成了一个载流子的高复合率表面层,整个扩散层作为受光面,入射光所激发的光生载流子基本上处在这个薄层之内,成为影响硅器件光线、特别是紫外光响应度的主要原因。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种新型的硅PN结光电二极管,提高硅光电器件对光线、特别是对紫外光的响应度,且工艺成熟,方法简便,成本低廉。本专利技术的技术方案是新型的硅PN结光电二极管,它有衬底材料硅,PN结扩散层,二氧化硅层和电极引线,其特征在于受光面处露有衬底材料硅。如上所述的光电二极管,其特征在于衬底材料硅作为主要有效本文档来自技高网...

【技术保护点】
新型的硅PN结光电二极管,它有衬底材料硅,PN结扩散层,二氧化硅层和电极引线,其特征在于受光面处露有衬底材料硅。

【技术特征摘要】
1.新型的硅PN结光电二极管,它有衬底材料硅,PN结扩散层,二氧化硅层和电极引线,其特征在于受光面处露有衬底材料硅。2.根据权利要求1所述的光电二极管,其特征在于衬底材料硅作为...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈炳若
申请(专利权)人:武汉大学
类型:发明
国别省市:83[中国|武汉]

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