传送机构及其湿式处理设备制造技术

一种传送机构，适于传送至少一矩形基板沿着一传送路径移动，其特征在于该传送机构包括：　　　　复数个第一转轴；　　　　复数个第一滚轮，该些第一滚轮分别配置设置于该些第一转轴上，且沿着该传送路径排列，每一该些第一滚轮设有一滚轮面并与该矩形基板的底缘相接触；　　　　复数个第二转轴；以及　　　　复数个第二滚轮，该些第二滚轮分别配置设置于该些第二转轴上，并沿着该传送路径排列，且设置位于任意两相邻的该些第一滚轮之间，其中每一该些第二滚轮设有一滚轮面，该滚轮面是与该矩形基板的侧壁相接触，以使该矩形基板呈为能保持沿着该传送路径移动的结构。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种传动装置领域的传送机构及其湿式处理设备，特别是涉及一种适于传送一矩形基板沿一传送路径移动，并能够有效避免传送过程中造成矩形基板边缘破损的传送机构及其湿式处理设备。
技术介绍
针对多媒体社会的急速进步，多半受惠于半导体组件或人机显示装置的飞跃进步。就显示器而言，阴极射线管(Cathode Ray Tube，CRT)因具有优异的显示品质及其经济性，一直独占近年来的显示器市场。然而，对于个人在桌上操作多数终端机/显示器装置的环境，或是以环保的观点切入来看，若以节省能源的潮流加以预测，阴极射线管因空间利用以及能源消耗上仍存在很多问题，而对于轻、薄、短、小以及低消耗功率的需求无法有效的提供解决之道。因此，具有高画质、空间利用效率佳、低消耗功率、无辐射等优越特性的液晶显示器(LCD)已逐渐成为市场的主流。液晶显示器主要是由两玻璃基板以及一液晶层所构成，其中玻璃基板通常需送入一湿式处理设备中进行一湿式处理制程，例如在玻璃基板上喷洒一反应液体(如蚀刻液或移除光阻的剥除液)，以在玻璃基板上制作图案化线路，之后并经过一清洗液(如去离子水或有机溶液)的清洗再进行后续的制程。值得注意的是，玻璃基板在进行上述湿式处理的过程中，是藉由一传送机构而达到传送玻璃基板的目的。请同时参阅图1A、图1B所示，图1A是现有习知的传送机构的侧面示意图，图1B是现有习知的传送机构的正面示意图。该现有习知的传送机构100，主要是由多个第一转轴110、多个第一滚轮120、多个第二转轴130以及多个第二滚轮140所构成。其中，第一滚轮120配置设置于第一转轴110的两端，且第一滚轮120具有一滚轮部122及一导引部124，该滚轮部122具有一滚轮面122a，用以承靠一矩形基板10(例如是一矩形的玻璃基板)的底缘，而导引部124具有一朝向滚轮面122a倾斜的导引斜面124a。值得注意的是，第一滚轮120通常是主动滚轮，并借着矩形基板10本身的重力以及第一滚轮120转动时与矩形基板10间产生的摩擦力，使第一滚轮120可推动矩形基板10往一传送路径行进。此外，第二滚轮140配置设置于第二转轴130上，且第二滚轮140对应于第一滚轮120的上方。第二滚轮140具有一滚轮面140a，该滚轮面140a用以压制矩形基板10的顶缘。换句话说，藉由第一滚轮120及第二滚轮140夹持矩形基板10，并进而推动矩形基板10，使矩形基板10沿着传送路径移动时能够更为稳固。请参阅图2A、图2B所示，是现有习知的传送机构造成矩形基板偏移传送的俯视示意图。在此处为了明显表现矩形基板10的偏移情形，进而将上述所揭露的第二转轴130及第二滚轮140省略，由于第一滚轮120并未完全固定于第一转轴110上，故第一滚轮120在传送矩形基板10时，会发生向内(如图2A所示)或向外(如图2B所示)偏移的现象，如此矩形基板10则会因被挤压或接触不良而发生矩形基板10偏移的现象。换言之，矩形基板10发生偏移的现象时，会随着第一滚轮120滚动而使矩形基板10顺势沿着导引斜面124a上滑，导致矩形基板10的传送路径完全偏向一侧，而无法沿着原本设定的传送路径移动。请参阅图3所示，是现有习知传送机构造成矩形基板破片的示意图。矩形基板10受到挤压或接触不良，是会顺势沿着导引斜面124a上滑，而当发生较大偏移量时，矩形基板10容易受到第一滚轮120及第二滚轮140所产生的力矩效应(即挟持力道)直接破坏矩形基板10的边缘，而造成不同程度的破片情形，从而严重影响产品的品质与安全。由此可见，上述现有的传送机构及其湿式处理设备仍存在有缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决上述缺陷，相关厂商莫不费尽心思来谋求解决的道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，此显然是相关业者急欲解决的问题。有鉴于上述现有的传送机构及其湿式处理设备存在的缺陷，本专利技术人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，积极加以研究创新，以期创设一种新型的传送机构及其湿式处理设备，能够改进一般现有常规的传送机构及其湿式处理设备，使其更具有实用性。经过不断的研究、设计，并经反复试作样品及改进后，终于创设出确具实用价值的本专利技术。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于，克服上述现有的传送机构及其湿式处理设备存在的缺陷，而提供一种新的传送机构，所要解决的主要技术问题是使其藉由在对应于矩形基板的侧壁处配置设置有具有导正功能的滚轮，而可有效的将矩形基板保持于一传送路径上，并且可以避免在传送过程中造成矩形基板的边缘破损。本专利技术的另一目的在于，提供一种湿式处理设备，所要解决的技术问题是使其在湿式处理设备内配置设有上述的传送机构，用以可靠的传送矩形基板，而可便于进行一湿式处理制程，从而更加适于实用，且具有产业上的利用价值。本专利技术的目的及解决其主要技术问题是采用以下的技术方案来实现的。依据本专利技术提出的一种传送机构，适于传送至少一矩形基板沿着一传送路径移动，该传送机构包括复数个第一转轴；复数个第一滚轮，该些第一滚轮分别配置设置于该些第一转轴上，且沿着该传送路径排列，每一该些第一滚轮设有一滚轮面并与该矩形基板的底缘相接触；复数个第二转轴；以及复数个第二滚轮，该些第二滚轮分别配置设置于该些第二转轴上，并沿着该传送路径排列，且设置位于任意两相邻的该些第一滚轮之间，其中每一该些第二滚轮设有一滚轮面，该滚轮面是与该矩形基板的侧壁相接触，以使该矩形基板呈为能保持沿着该传送路径移动的结构。本专利技术的目的及解决其技术问题还可以采用以下的技术措施来进一步实现。前述的传送机构，其中所述的该些第二滚轮是设置位于每两相邻的该些第一滚轮之间。前述的传送机构，其另包括一第一环状弹性构件，其中该第一环状弹性构件是配置设置于每一该些第一滚轮的滚轮面上。前述的传送机构，其中所述的该些第一滚轮为主动滚轮。前述的传送机构，其中所述的该些第一滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮。前述的传送机构，其中所述的该些第二滚轮为主动滚轮。前述的传送机构，其中所述的该些第二滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮。前述的传送机构，其中所述的该些第二滚轮为被动滚轮。前述的传送机构，其中所述的第一滚轮另包括一滚轮部，设有该滚轮面；以及一导引部，是与该滚轮部相连接，其中该导引部设有一朝向该滚轮面倾斜的导引斜面。前述的传送机构，其另包括复数个第三转轴；以及复数个第三滚轮，该些第三滚轮分别配置设置于该些第三转轴上，并沿着该传送路径排列，且设置位于该些第一滚轮的上方，其中每一该些第三滚轮设有一滚轮面，并与该矩形基板的顶缘相接触。前述的传送机构，其中所述的该些第三滚轮为主动滚轮。前述的传送机构，其中所述的该些第三滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮。前述的传送机构，其中所述的该些第三滚轮为被动滚轮。前述的传送机构，其另包括一第二环状弹性构件，其中该第二环状弹性构件是配置设置于每一该些第三滚轮的滚轮面上。本专利技术的目的及解决其主要技术问题还采用以下技术方案来实现。依据本专利技术提出的一种由传送机构制成的湿式处理设备，适于对至少一矩形基板进行一湿式处理制程，该湿式处理设备包括一处理室，具有至少一输入端及至少一输出端；一传送机构，适于传送至少一矩形基板沿着一传送路径移动，该传送机构包括复数个第一转轴；复数个第一滚轮本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种传送机构，适于传送至少一矩形基板沿着一传送路径移动，其特征在于该传送机构包括复数个第一转轴；复数个第一滚轮，该些第一滚轮分别配置设置于该些第一转轴上，且沿着该传送路径排列，每一该些第一滚轮设有一滚轮面并与该矩形基板的底缘相接触；复数个第二转轴；以及复数个第二滚轮，该些第二滚轮分别配置设置于该些第二转轴上，并沿着该传送路径排列，且设置位于任意两相邻的该些第一滚轮之间，其中每一该些第二滚轮设有一滚轮面，该滚轮面是与该矩形基板的侧壁相接触，以使该矩形基板呈为能保持沿着该传送路径移动的结构。2.根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其中所述的该些第二滚轮是设置位于每两相邻的该些第一滚轮之间。3.根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其另包括一第一环状弹性构件，其中该第一环状弹性构件是配置设置于每一该些第一滚轮的滚轮面上。4.根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其中所述的该些第一滚轮为主动滚轮。5.根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其中所述的该些第一滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮。6.根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其中所述的该些第二滚轮为主动滚轮。7.根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其中所述的该些第二滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮。8.根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其中所述的该些第二滚轮为被动滚轮。9.根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其中所述的第一滚轮另包括一滚轮部，设有该滚轮面；以及一导引部，是与该滚轮部相连接，其中该导引部设有一朝向该滚轮面倾斜的导引斜面。10.根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其另包括复数个第三转轴；以及复数个第三滚轮，该些第三滚轮分别配置设置于该些第三转轴上，并沿着该传送路径排列，且设置位于该些第一滚轮的上方，其中每一该些第三滚轮设有一滚轮面，并与该矩形基板的顶缘相接触。11.根据权利要求10所述的传送机构，其特征在于其中所述的该些第三滚轮为主动滚轮。12.根据权利要求10所述的传送机构，其特征在于其中所述的该些第三滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮。13.根据权利要求10所述的传送机构，其特征在于其中所述的该些第三滚轮为被动滚轮。14.根据权利要求10所述的传送机构，其特征在于其另包括一第二环状弹性构件，其中该第二环状弹性构件是配置设置于每一该些第三滚轮的滚轮面上。15.一种由传送机构制成的湿式处理设备，适于对至少一矩形基板进行一湿式处理制程，其特征在于该湿式处理设备包括一处理室，具有至少一输入端及至少一输出端；一传送机构，适于传送至少一矩形基板沿着一传送路径移动，该传送机构包括复数个第一转轴；复数个第一滚轮，该些第一滚轮是分别配置设置于该些第一转轴上，且沿着该传送路径排列，每一该些第一滚轮设有一滚轮面并与该矩形基板的底缘相接触；复数个第二转轴；以及复数个第二滚轮，该些第二滚轮是分别配置设置于...

【专利技术属性】
技术研发人员：李国斌，肖厚彦，谢从钢，黄贵昌，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：