用于干蚀刻反应室的压力计感应器的缓冲器制造技术

一种用于干蚀刻反应室的压力计感应器的缓冲器，包括：一真空管，连接该反应室与该压力计，其特征在于至少一板片，设置在该真空管内壁上，用来阻挡该反应室的电浆直接冲击该感应器。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术系关于一种压力计的缓冲器，特别关于一种用来保护测量干蚀刻反应室内压力的压力计感应器的缓冲器。
技术介绍
在微电子装置，例如发光二极管和平面显示器等的制作中，蚀刻制程(dryetch processing)常用来选择性移除一基板表面上的一图案化的薄膜材料。在干蚀刻制程中，将一气体导入一千蚀刻反应室内，并施加一电场，使该气体被激发而产生一电浆，以作为蚀刻媒介。该电浆使该气体崩溃形成反应性粒子，并解离该气体，促进该等气体粒子在该电场的影响下往该基板移动，于是该等气体离子轰击该基板表面，与该基板表面上的特定薄膜材料发生反应，将该特定薄膜材料从该基板表面上除去。图1为一干蚀刻机台(dry etcher)的反应室1与压力计(gauge)2的相对位置示意图。真空管3连接反应室1与压力计2。真空管3是锁入该反应室壁(chamber wall)内与该反应室1的窗口(window)连通，且该压力计2与该真空管3相接处有一开关阀(valve)21。当该开关阀21打开时，在该压力计2前方的感应器(gauge sensor)22就可读取该反应室1内的压力。如图1所示，该干蚀刻反应室(dry etching chamber)1在进行反应时所产生的电浆气体粒子团，于压力计2的开关阀21打开时，就直接冲击到感应器22，并渐渐地沉积附着在感应器22上。经过一段时间后，感应器22的灵敏度就会产生偏差，导致感应器22无法正确读取该反应室1内的压力，而影响产品的品质。因此，在现有制程中，必须经常对感应器22进行校正，严重时甚至必须更换新的感应器。因此，急需解决上述现有的用来测量干蚀刻机台反应室压力的压力计在使用中出现的问题，以便能维持压力计的感应器的灵敏度并延长压力计的使用寿命。
技术实现思路
本专利技术的主要目的即是提供一种用于干蚀刻反应室的压力计缓冲器。藉由此缓冲器，可阻挡该反应室的电浆直接冲击压力计的感应器，维持压力计的感应器的灵敏度并延长压力计的使用寿命。为达到上述的目的，本专利技术系揭示一种用来保护测量一干蚀刻反应室内压力的压力计感应器的缓冲器(damper)。此缓冲器包括一真空管，连接所述的反应室与压力计，该真空管内壁上的至少设置一板片，该至少一板片用来阻挡反应室的电浆直接冲击感应器，使电浆主要沉积附着在该至少一板片上，而非感应器上。附图说明图1为习知技术的干蚀刻机台的反应室与压力计的相对位置示意图；以及图2为本专利技术的压力计缓冲器结构的较佳实施例。附图编号说明反应室------1压力计------2真空管-----3，4开关阀------21缓冲器结构-5感应器-----22板片------4 1网状结构---具体实施方式本专利技术揭示一种用来保护测量干蚀刻反应室内压力的压力计的缓冲器(gauge damper)；利用此缓冲器，可阻挡干蚀刻反应室的电浆直接冲击压力计的感应器，并有效防止电浆附着在感应器上，因而能维持感应器的灵敏度，且延长压力计的使用寿命。参照附图，将详细说明本专利技术的具体实施方式。图2是显示本专利技术的压力计缓冲器结构的较佳实施例。此缓冲器结构5系在连接反应室1与压力计2的真空管4内组装一片以上的板片41-例如不锈钢片，使从该反应室1流经真空管4的电浆气体粒子团会先沉积附着在板片41上，而不会直接冲击压力计2的感应器22，因此具有缓冲的效果。图2是例示两个板片，分别设置在真空管4的上和下内壁，使电浆气体从反应室1流经真空管4时的流向路径(如箭头所示)呈S型，藉以加强缓冲的效果。再者，亦可选择性地在真空管4靠近反应室1的前端，在第一片板片41的前面，设置一网状结构42-例如铁丝网，以便加强阻挡电浆冲击和附着在感应器22的缓冲作用。板片41和网状结构42皆可拆卸下来清洗。于是，此缓冲器结构5就可保护该压力计2前方的感应器22免于电浆直接冲击和大量附着，大为改善习知技术中的感应器的零点经常变化(shift)的情况，减少压力计需维修的次数，并延长压力计的使用寿命。此外，在压力计2与反应室1之间装设此缓冲器结构5，对压力计2读取反应室1内的压力并没有明显的负面影响。就具有两片不锈钢片的缓冲器结构而言，习知未装设此缓冲器结构5的该压力计2大约在1秒内可读取到该反应室1内的压力，而该压力计2在装设此缓冲器结构5后，大约在2-3秒内可读取到压力。本专利技术的缓冲器结构内的板片的数目、设置位置、形状和材质等，皆可视实际需要作适当的变化。以上所述，是利用较佳实施例详细说明本专利技术，而非限制本专利技术的范围，任何熟悉该技术的人在本专利技术所揭示的技术范围内，可以轻易想到的变化或替代，都涵盖在本专利技术的保护范围之内，本专利技术的保护范围以权利要求书为准。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于干蚀刻反应室的压力计感应器的缓冲器，包括一真空管，连接该反应室与该压力计，其特征在于至少一板片，设置在该真空管内壁上，用来阻挡该反应室的电浆直接冲击该感应器。2.根据权利要求1所述的用于干蚀刻反应室的压力计感应器的缓冲器，其中所述的板片为不锈钢片。3.根据权利要求1所述的用于干蚀刻反应室的压力计感应器的缓冲器，其特征在于还包括一网状结构，设置在所述的真空管靠近该反应室的前端处。4.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭顺煌，杨世雄，梁忠棋，黄明夷，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：