位置测量方法、曝光方法、曝光装置、及器件制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种位置测量方法、曝光方法、曝光装置、及器件制造方法。在该位置测量方法中，用照明光束照明形成于物体上的标记，通过观察系对从该标记发生的光束进行摄像，对该摄像信号进行信号处理，获得与标记的位置相关的位置信息。根据包含于摄像信号中的与包含光量依存成分的噪声相关的信息和该摄像信号进行上述信号处理。结果，即使在摄像信号中包含噪声的场合，也可精度良好地测量标记的位置信息。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种位置测量方法，该位置测量方法通过观察系对形成于物体上的标记进行摄像，对该摄像信号进行信号处理，获得与标记的位置相关的位置信息；特别是涉及在半导体元件和液晶显示元件等器件的制造工序中使用的曝光方法和曝光装置。
技术介绍
在半导体元件和液晶显示元件等器件的制造工序中，一边进行程序处理一边在基板(晶片或玻璃板等)上按预定的位置关系重叠多层电路图案而形成。为此，当用曝光装置将第2层以后的电路图案曝光到基板上时，需要以高精度进行掩模(或网线板)的图案与已形成于基板上的图案的定位。在基板和掩模上形成定位用的标记，获得与该标记的位置相关的位置信息，根据该位置信息进行上述定位。作为相对标记的位置测量技术的一种方式，用照明光束照射基板和掩模上的标记，通过具有CCD摄像机等摄像装置的观察系对其光学像进行摄像，对该摄像信号进行信号处理，求出标记的位置信息。在使用观察系的位置测量方法中，具有在摄像信号中包含由观察系产生的噪声的场合。在该场合，存在由包含于摄像信号中的噪声的影响产生测量误差的可能性。
技术实现思路
本专利技术就是鉴于上述情况而作出的，其目的在于提供一种位置测量方法，该位置测量本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种位置测量方法，用照明光束照明形成于物体上的标记，通过观察系对从该标记发生的光束进行摄像，对该摄像信号进行信号处理，获得与上述标记的位置相关的位置信息；其特征在于：根据包含于上述摄像信号中的、与包含光量依存成分的噪声相关的信息和上 述摄像信号进行上述信号处理。

【技术特征摘要】
JP 2002-5-31 159660/20021.一种位置测量方法，用照明光束照明形成于物体上的标记，通过观察系对从该标记发生的光束进行摄像，对该摄像信号进行信号处理，获得与上述标记的位置相关的位置信息；其特征在于根据包含于上述摄像信号中的、与包含光量依存成分的噪声相关的信息和上述摄像信号进行上述信号处理。2.根据权利要求1所述的位置测量方法，其特征在于在实施上述摄像信号的信号处理之前预先测量包含上述光量依存成分的噪声。3.根据权利要求2所述的位置测量方法，其特征在于相应于上述光量依存成分的随时间变化特性进行上述噪声的再测量。4.根据权利要求2所述的位置测量方法，其特征在于进行包含上述光量依存成分的噪声的测量时，用上述照明光束照明在上述物体上的与形成了上述标记的标记区域不同的非标记区域，通过上述观察系对该非标记区域进行摄像。5.根据权利要求2所述的位置测量方法，其特征在于上述标记包含多个标记要素，由上述照明光束照明包含上述多个标记要素中的除测量对象外的标记要素的区域，测量上述噪声的光量依存成分。6.根据权利要求2所述的位置测量方法，其特征在于测量对上述噪声产生影响的环境因素，根据其测量结果进行上述噪声的再测量。7.根据权利要求1所述的位置测量方法，其特征在于包含上述光量依存成分的噪声由于从上述标记发生的光束通过上述观察系而发生。8.根据权利要求7所述的位置测量方法，其特征在于上述观察系包含反射镜。9.根据权利要求7所述的位置测量方法，其特征在于上述观察系包含摄像元件，该摄像元件包含多个像素和保护该多个像素的防扩玻璃。10.根据权利要求1所述的位置测量方法，其特征在于上述噪声包含上述光量依存成分和光量非依存成分。11.根据权利要求10所述的位置测量方法，其特征在于在上述照明光束不能由上述观察系观察的状态下，在实施上述摄像信号的信号处理之前预先测量包含于上述噪声的光量非依存成分。12.根据权利要求10所述的位置测量方法，其特征在于上述信号处理包含从上述摄像信号减去上述噪声的光量非依存成分的处理。13.根据权利要求10所述的位置测量方法，其特征在于上述信号处理包含从上述摄像信号减去上述噪声的光量依存成分或用上述噪声的光量依存成分除上述摄像信号的处理。14.根据权利要求10所述的位置测量方法，其特征在于上述信号处理包含用从上述噪声的光量依存成分减去光量非依存成分后的处理结果除从上述摄像信号减去上述噪声的光量非依存成分后的处理结果的处理。15.一种曝光方法，将形成于掩模上的图案转印到基板上；其特征在于用照明光束照明形成于上述掩模或上述基板上的标记，通过观察系对从该标记发生的光束进行摄像，根据上述观察系的摄像信号和包含于该摄像信号中的与包含光量依存成分的噪声相关的信息，对上述摄像信号进行信号处理，获得与上述标记的位置相关的位置信息，根据测量获得的位置信息，将上述掩模或上述基板定位到曝光位置。16.根据权利要求15所述的曝光方法，其特征在于在实施上述摄像信号的信号处理之前预先测量包含上述光量依存成分的噪声。17.根据权利要求16所述的曝光方法，其特征在于相应于上述光量依存成分的随时间变化特性进行上述噪声的再测量。18.根据权利要求16所述的曝光方法，其特征在于进行包含上述光量依存成分的噪声的测量时，用上述照明光束照明在上述掩模或上述基板上的与形成了上述标记的标记区域不同的非标记区域，通过上述观察系对该非标记区域进行摄像。19.根据权利要求16所述的曝光方法，其特征在于上述标记包含多个标记要素，由上述照明光束照明包含上述多个标记要素中的除测量对象外的标记要素的区域，测量上述噪声的光量依存成分。20.根据权利要求16所述的曝光方法，其特征在于测量对上述噪声产生影响的环境因素，根据其测量结果进行上述噪声的再测量。21.根据权利要求15所述的曝光方法，其特征在于包含上述光量依存成分的噪声由于从上述标记发生的光束通过上述观察系而发生。22.根据权利要求21所述的曝光方法，其特征在于上...

【专利技术属性】
技术研发人员：小林满，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：JP[日本]