基板处理装置以及基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术的基板处理装置以及方法进行以下处理：即使在前工序中附有从基板难以除去的处理液的情况下，也能够防止相对于基板而冲洗液逆流到前工序的处理槽中，同时能够减低由残存在基板上的前工序的处理液带来的不良影响。因此，在水洗处理部的处理室中，对搬送中的基板（Ｗ）的表面，从入口喷嘴（２０）向基板搬送方向下游侧供给冲洗液，通过该水洗处理部也能够防止冲洗液向前工序的处理槽的逆流，同时进行将在前工序中供给的处理液置换为冲洗液的处理。对供给了该冲洗液之后的（Ｗ）的表面，从气液流体喷嘴（２１），在与基板搬送方向交叉的基板宽度的整个区域上，供给由气体与液体构成的气液流体，从而除去仍残存在基板表面的前工序的处理液。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种在液晶显示装置(LCD)、等离子显示装置(PDP)、半导体装置等的制造过程中，对LCD或PDP用玻璃基板、半导体基板等的被处理基板进行各种处理、例如进行蚀刻处理后的置换处理的。
技术介绍
以往，在基板处理装置中，对于蚀刻处理后的基板的冲洗处理，如下所述那样进行。例如，如JP特开2004-273984号所示，在将基板向水洗处理部的处理室内搬入时，在处理室的入口侧开口附近，从入口喷嘴向基板搬送方向下游侧供给冲洗液，当基板进一步向搬送方向下游侧前进时，从上部喷射喷嘴向基板的表面供给冲洗液，一直到从处理室内搬出为止。这样，(1)能够防止从入口喷嘴向基板供给的冲洗液逆流到前工序的处理槽中，(2)同时，在处理室的入口附近，从狭缝状的入口喷嘴向正下方的基板表面部分均匀地供给大量的冲洗液，并在短时间内进行冲洗液的置换，从而防止由在前处理中使用的处理液的残存导致形成在基板表面上的配线图案的形状和线宽的均匀性的恶化，之后从上述喷射喷嘴进行冲洗液供给。可是，根据上述的基板处理装置，即使从入口喷嘴供给冲洗液，由于前工序中所用的处理液为粘度较高等难以从基板表面除去的处理液，这种情况下，将本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于，具有：冲洗液供给单元，其配置在进行将沿着预定的方向搬送的基板的表面上所附着的处理液置换为冲洗液的置换处理的处理槽内，对该搬送中的基板的表面，向基板搬送方向下游侧供给冲洗液；流体供给单元，其在上述 处理槽内被设置在上述冲洗液供给单元的基板搬送方向下游侧，在与该基板搬送方向交叉的基板宽度的整个区域上，对上述基板的表面供给流体。

【技术特征摘要】
JP 2005-2-28 2005-0547501.一种基板处理装置，其特征在于，具有冲洗液供给单元，其配置在进行将沿着预定的方向搬送的基板的表面上所附着的处理液置换为冲洗液的置换处理的处理槽内，对该搬送中的基板的表面，向基板搬送方向下游侧供给冲洗液；流体供给单元，其在上述处理槽内被设置在上述冲洗液供给单元的基板搬送方向下游侧，在与该基板搬送方向交叉的基板宽度的整个区域上，对上述基板的表面供给流体。2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述液体供给单元供给由气体和液体构成的气液流体。3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述流体供给单元供给高压流体。4.如权利要求3所述的基板处理装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：上代和男，
申请(专利权)人：大日本网目版制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]