激光束、紫外线照射周边曝光装置及其方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种激光束、紫外线照射周边曝光装置及其方法，从而将一个台座的移动速度确定为适当的速度。激光束、紫外线照射周边曝光装置包括：保持基板的台座（２）；使台座在绕与基板的面正交的垂线旋转的旋转方向、使台座沿基板的面水平移动的移动方向以及与使台座与所述移动方向正交的正交方向上水平移动的移动搬运机构（３）；在该移动搬运机构的移动路径上设在基板的上方的位置，并照射激光束的激光束单元（５）；从照射口对周边区域照射包含紫外线的光的紫外线照射单元（９）；和对应于照射激光束时使台座移动的第一移动速度和照射包含紫外线的光时使台座移动的第二移动速度中的某一个速度来控制移动搬运机构的控制装置（２０）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种激光束、紫外线照射周边曝光装置及方法，该装置及方法对在基板的图案区域的周围形成的周边区域照射激光束，从而对记号、文字等的识别标记进行曝光(做标记)，同时，对周边区域照射包含紫外线的光以进行周边曝光。
技术介绍
一般而言，关于在曝光装置中图案将被曝光的基板，例如在液晶基板中，当时是对大约500mm×500mm的尺寸的基板进行处理，现在是对放大至2160mm×2460mm这样的大型尺寸的基板进行处理。从该大型的基板切断、分离成预设的各个基板片，以制作出搭载于一般图像接收设备上的基板。基板被从大型的状态切断、分离时，为了其管理与制造工序的管理，利用激光束等预先在分离前的基板上进行曝光，从而在各基板片上形成文字、记号、图形或者是由其组合而形成的识别记号、判断分离位置用的切断位置识别码、或者是对准标记等(以下称为识别标记)。此外，在基板上，在图案区域的周围，即周边区域存在着不需要的光阻剂墨液(photoresist ink)，由于该光阻剂墨液会成为后续工序的障碍，所以必须要预先使其曝光。在包含不需要的光阻剂墨液的周边区域中，需要如上所述显示识别标记，该周边区域被设定成预定宽度。然后，在该周边区域中形成识别标记的位置不仅配置于周边区域的中央部，也可以在图案区域附近的某个地方，或是在基板的蚀刻侧的某部分，或者是在相反侧的图案区域的附近。基板在其图案区域被曝光后，借助于周边曝光装置而曝光，以便通过对周边区域进行曝光来除去不需要的光阻剂墨液，从而在切断、分离成各基板片时易于处理(例如参照专利文献1、2)。而且，在基板的制造工序中，制造生产线上存在有对图案区域进行曝光的曝光装置、对周边区域的光阻剂墨液进行曝光的周边曝光装置、对识别标记进行曝光(显示)的曝光装置等各种曝光装置，一般，进行如下工序首先，由曝光装置对图案区域进行曝光；然后，利用激光照射曝光装置在基板的周边区域照射激光，从而标记出(曝光)识别标记；接着，利用周边曝光装置对基板的周边区域照射包含预定波长的紫外线的光，以进行曝光。通过激光的照射而标记出识别标记的曝光装置，作为一个例子，进行如下的动作。即，针对要标记出形成于基板的周边区域的识别标记的地方，从配置于载置基板的台座的上方的曝光单元输出激光束。然后，以使载置基板的台座与曝光单元相对移动的方式，在直线方向和与该直线方向正交的正交方向上依时间顺序依次扫瞄，同时，使照射位置在相对移动方向上错开，从而使基板上的照射点在成为直角坐标的平面上形成排列以标记出识别标记(例如，参照专利文献3)。该识别标记的形成方法(显示方法)，由于利用激光束的点曝光形成在总是与激光束位于相对的位置的涂布了光阻剂墨液的基板上，所述识别标记被标记在预定的宽度中，所以在与台座直线移动方向正交的正交方向上，经常一边用微小的激光束进行扫瞄一边曝光识别标记。此外，还有一种这样的曝光装置被公开光源用于使基板的周边区域的不需要的光阻剂墨液曝光，该光源具有通过使光导的射出端的倍率变化而改变曝光光的形状的结构(例如参照专利文献4)。在该曝光装置中，在调节的过程中，采用使投影激光束所成的像的大小产生变化的方式，通过使局部投影的光路扩大或缩小来控制从光导射出的光的宽度，因此所照射的曝光光束具有关于光路中心对称地放大或缩小的宽度。另外，还提出一种这样的曝光装置，其中周边曝光单元被设置于设在基板上方的固定导轨或移动导轨的至少一方的导轨上(例如参照专利文献5)。专利文献1日本特许第2910867号公报；专利文献2日本特许第3418656号公报； 专利文献3日本特许第3547418号公报；专利文献4日本特许第3175059号公报；专利文献5日本特许第3091460号公报。然而，在以往的周边曝光装置或识别标记的曝光装置中，存在着以下所示的问题。(1)在对基板进行曝光的制造工序中，由于伴随基板尺寸的大型化，制造生产线变长，所以希望使以往那样的识别标记的曝光装置和对周边区域进行曝光的周边曝光装置从分别的结构形成一体，从而缩短制造生产线。(2)而且，在连续进行识别标记的曝光处理和周边区域的曝光处理时，基板的移动速度会影响到任一曝光工序的曝光速度。此时，光阻剂墨液由于被调节为对紫外线的波长附近的波长感光度高，所以相对于以恒定速度移动的基板，与紫外线的波长相比，激光束的能量低，而且以恒定照度照射，因此，根据对周边区域的光阻剂墨液进行曝光的范围，照射的紫外线的光量有可能过强，从而有可能过度曝光，这些问题需要解决。
技术实现思路
本专利技术正是鉴于上述问题而完成的，本专利技术的目的在于提供一种，该装置及方法能够将激光束的照射以及对周边区域的包括紫外线的光的照射设置于具有一个台座的曝光装置中，且将一个台座的移动速度确定成适当的速度。为了解决上述问题，第一方面的激光束、紫外线照射周边曝光装置(以下称本装置)包括台座，该台座用于保持基板；移动搬运机构，该移动搬运机构使台座在绕着与基板的面正交的垂线旋转的旋转方向、移动方向以及与移动方向正交的正交方向上移动；激光束单元，该激光束单元在该移动搬运机构的移动路径上设在基板的上方的位置，并照射激光束；紫外线照射单元，该紫外线照射单元设置在与该激光束单元相邻的位置上且设在基板上方的位置，并从照射口将包含紫外线的光照射至周边区域；以及控制装置，该控制装置对应于第一移动速度和第二移动速度中的某一个来控制移动搬运机构，其中第一移动速度是照射激光束时使台座移动的速度，第二移动速度是照射包含紫外线的光时使台座移动的速度。如此构成的本装置能够对应于照射激光束时使台座移动的第一移动速度和照射包含紫外线的光时使台座移动的第二移动速度中的某一个来控制台座。因此能够一边使台座移动，一边同时进行识别标记的曝光和所谓的周边曝光。即，还能够连续进行利用激光束对识别标记的曝光和利用包含紫外线的光对周边区域的曝光。连续进行识别标记的曝光和紫外线照射的曝光，并能够在各自的基板的周边区域同时进行，因此能够提高作业性与生产性，并且提高产量。此外，在第二方面的本装置中，紫外线照射单元具有根据第一移动速度调节照射面积的照射面积调节遮板机构。如此构成的本装置能够对应于照射激光束时台座的移动速度而调节紫外线照射的照射量。即，由于能够对应于基板的移动速度而调节照射面积，所以能够在不发生过度曝光或曝光不足的状态下，对基板的周边区域进行曝光作业。而且，在第三方面的本装置中，照射面积调节遮板机构具有部分地遮蔽照射口的宽度调节遮光板、和使该宽度调节遮光板移动的宽度调节遮光板移动部。如此构成的本装置通过宽度调节遮光板移动部而使宽度调节遮光板移动，从而调节从照射口照射的每单位面积的照射量。此外，在第四方面的本装置中，激光束单元包括根据第二移动速度改变激光束的强度的改变装置。如此构成的本装置能够对应于照射包含紫外线的光时台座的移动速度而调节激光束的照射量。即，由于能够对应于基板的移动速度来调节激光束强度，所以能够在不发生过度曝光或曝光不足的状态下，在基板上形成识别标记。此外，在第五方面的本装置中，改变装置通过激光束的激发功率的改变、激光束的脉冲间隔的改变或者由音响光学元件来调制激光束的振幅或频率，来改变激光束的强度。如此构成的本装置，当希望尽可能快地进行由包含紫外线的光对周边区域曝光的作业本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种激光束、紫外线照射周边曝光装置，该装置使基板沿预定的移动方向移动，并对在该基板的图案区域的周围形成的周边区域照射激光束以曝光识别标记，同时，对所述周边区域照射包含紫外线的光以进行曝光，所述激光束、紫外线照射周边曝光装置的特征在于，该装置包括：台座，所述台座用于保持所述基板；移动搬运机构，所述移动搬运机构使所述台座在绕着与所述基板的面正交的垂线旋转的旋转方向、沿基板的面水平移动的移动方向以及与所述移动方向正交的正交方向上水平移动；激光束单元，所述激光 束单元在该移动搬运机构的移动路径上设在所述基板的上方的位置，并照射激光束；紫外线照射单元，所述紫外线照射单元设置在与该激光束单元相邻的位置上且设在所述基板上方的位置，并从照射口将包含紫外线的光照射至所述周边区域；以及控制装置 ，所述控制装置对应于第一移动速度和第二移动速度中的某一个来控制所述移动搬运机构，其中所述第一移动速度是照射所述激光束时使所述台座移动的速度，所述第二移动速度是照射包含所述紫外线的光时使所述台座移动的速度。

【技术特征摘要】
JP 2005-11-4 2005-321256;JP 2006-9-12 2006-2462651.一种激光束、紫外线照射周边曝光装置，该装置使基板沿预定的移动方向移动，并对在该基板的图案区域的周围形成的周边区域照射激光束以曝光识别标记，同时，对所述周边区域照射包含紫外线的光以进行曝光，所述激光束、紫外线照射周边曝光装置的特征在于，该装置包括台座，所述台座用于保持所述基板；移动搬运机构，所述移动搬运机构使所述台座在绕着与所述基板的面正交的垂线旋转的旋转方向、沿基板的面水平移动的移动方向以及与所述移动方向正交的正交方向上水平移动；激光束单元，所述激光束单元在该移动搬运机构的移动路径上设在所述基板的上方的位置，并照射激光束；紫外线照射单元，所述紫外线照射单元设置在与该激光束单元相邻的位置上且设在所述基板上方的位置，并从照射口将包含紫外线的光照射至所述周边区域；以及控制装置，所述控制装置对应于第一移动速度和第二移动速度中的某一个来控制所述移动搬运机构，其中所述第一移动速度是照射所述激光束时使所述台座移动的速度，所述第二移动速度是照射包含所述紫外线的光时使所述台座移动的速度。2.如权利要求1所述的激光束、紫外线照射周边曝光装置，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：剑持晴康，佐藤博明，池田泰人，森昌人，
申请(专利权)人：株式会社ORC制作所，
类型：发明
国别省市：JP[日本]