紫外线洗涤装置及洗涤方法制造方法及图纸

这是一种紫外线洗涤装置，其特征是：将来自紫外线灯的紫外线照射到输送过来的被处理物上，且具备气体供给通道，使气体通过气体扩散板后喷射到被处理物的紫外线照射面上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术是有关利用紫外线洗涤被处理物表面的紫外线洗涤装置及使用紫外线洗涤装置的洗涤方法的。
技术介绍
例如在液晶显示面板和半导体装置的制造工艺时，为了清洗基板的表面而使用紫外线洗涤装置，即利用紫外线对基板的照射使表面的有机物氧化分解。一般认为用这种紫外线洗涤装置对基板(被处理物)进行紫外线照射，首先使基板周围空气中的氧分子被紫外线吸收而生成臭氧。臭氧进一步受到紫外线照射形成光分解从而产生活性氧等的活性基。再用这种活性基使基板表面的有机物氧化分解。根据这样的光洗涤原理，一般认为被处理物的周围空气中必须有氧气存在。另外，紫外线与空气中的氧分子相撞生成臭氧，意味着紫外线被空气中的氧气吸收。实际上，空气中的紫外线穿透力是很小的，例如波长172nm的紫外线在空气中仅仅前进2mm便有约40％多衰减了。因此，从提高被处理物表面的紫外线强度，加快洗涤处理速度的目的来看，空气中的氧气是很大的障碍。基于上述理由，以前的紫外线洗涤装置被设计为第11图所示的结构。在此例中，用可以穿透紫外线的石英玻璃为照射窗的材料1做成封闭型紫外线照射灯箱2，在2中再设置紫外线照射灯3。此紫外线照射灯箱2由供给口2A送进氮气并从排出口2B排出氮气。这样，紫外线照射灯箱2内就充满氮气，形成紫外线照射灯3周围的氧气被排除的结构。但是，此时紫外线照射灯箱2外面还是存在氧气，因此为了抑制氧气导致紫外线衰减，紫外线照射灯箱2的窗材料1应配置在接近被处理物4的数mm距离左右。但是，洗涤构成液晶显示玻璃基板等的板状被处理物4时，还有以下的问题。被处理物4是靠辊轴传送带5等输送方法输送洗涤的。因此，被处理物4自身的反翘和输送时的振动引起微小的跳动是不可避免的。其结果，窗材料1接近被处理物4是有限度的，而这一限度又制约了处理速度的提高。在这种情况下，日本专利文献告示2003-80191公报中发表了一项关于提高处理速度的技术。但是，这一技术并没解决充分地提高处理速度的课题。另外，这种紫外线洗涤装置的窗材料1上会逐渐地附沾上一层白色粉末。这种白色粉末会引起被处理物的处理不良，不均从而降低被处理物的合格率。其原因主要有以下几种在制造半导体或液晶显示器的工序中，使用了有机溶剂，酸，碱等各种药品。这些药品会气化，雾化并浮游在空气中。另外，使用这些药品后即使基板清洗过，但乃可能有微量的药品附着在基板上。当用紫外线照射基板时，此药品受热后气化，结果便从基板上释放出来。这样，这些药品受到紫外线照射引起化学反应的结果便是硫酸铵等反应生成物附着在窗材料1上。附着物成为一层白色粉末附着在窗材料1上从而又成为紫外线照射不均的原因。因此，必须频繁地将紫外线灯箱2反转过来清扫窗材料1的外面，这一保养工作的负担是相当大的。所以，日本的专利文献告示平11-295500号公报记载的一项专利技术就是为了解决防止白色粉末附着到窗材料1上这一课题的技术专利技术。但是，根据此文献记载的方法，窗材料1必须具有加热手段，这样使得该装置又有了新的问题即装置变得复杂而且价高。
技术实现思路
本专利技术是有关的专利技术，是根据上述情况完成的一项专利技术。利用本专利技术可以提高被处理物的处理速度。或抑制白色粉末附着到紫外线照射灯箱上，这样便可以减轻保养工作的负担。在进行本专利技术时，专利技术人员发现了以下的事实在被处理物表面因紫外线照射引起有机物分解的过程中需要的氧气量比一般预料的要小得多，是极其微量的。据此，发现被处理物放置在通常含氧大气中，自然地附着在被处理物表面的氧气量已足够了。就是说，以前认为从被处理物表面的有机物分解原理来看，被处理物必须在大气中受紫外线照射，但实际上并不需要这么多的氧气量。在被处理物受紫外线照射的空间，即使在用惰性气体置换排除大气(氧气)的状态下，被处理物的表面也能够存在微量的氧气。为了到达这一目的，只要让被处理物一次通过含氧大气，再输送到紫外线照射空间里就行了。这样，氧气便会吸附到被处理物的表面。专利技术人员发现这些微量的氧气就可充分氧化分解有机物了。因此，作为到达上述目的的手段，本专利技术中的第1专利技术是对输送过来的被处理物用紫外线灯进行紫外线照射，洗涤上述被处理物的紫外线洗涤装置。紫外线洗涤装置具有以下特征即具有气体供给通道，气体通过气体扩散板后喷射到上述被处理物的紫外线照射面上。在这里，所谓的气体扩散板是指能让通过扩散板的气体扩散开来并均衡地供给气体的板状物。通过气体扩散板均匀地供给气体则可得到流速缓慢的气体。根据第1专利技术，因为其结构是气体通过气体扩散板后喷射到被处理物的紫外线照射面上的，所以与不使用气体扩散板的相比，惰性气体能均衡地，缓慢地喷射到被处理物上。其结果，吸附到被处理物(工作面W)表面的氧气就不会吹散。因此，紫外线照射氧气生成臭氧或活性氧，工作面W能被充分洗涤。同时，因为惰性气体被喷射到工作面上，所以距其表面非常近的地方处于几乎没有氧气的状态。其结果，由紫外线灯放射出来的紫外线可通过几乎不含氧气的空间，照射在被处理物上。因为紫外线可以不受被氧气吸收的影响而高强度地照射在被处理物上，所以即使快速输送被处理物也能得到充分的洗涤，这样就可实现洗涤速度的高速化。或者，如用与原来同样的速度进行洗涤的话，则能减少紫外线灯的数量。例如与本专利技术不同，如用多支细长紫外线灯并列置于紫外线灯箱内，灯间设置线状气体喷射孔则不能到达本专利申请的效果。这时，要让周围空间被气体置换，气体喷射孔必须喷射强劲的气体，所以被处理物上也会受到气体的强劲喷射。这样，被处理物表面的微量氧气也同时被吹散而不能得到充分的洗涤。另一方面，因不能得到均匀的气体流速，浮游于紫外线灯表面的白粉状的原料物质也不能得到抑制。进一步说，因使用气体扩散板，从紫外线灯到被处理物为止的整个空间被缓慢，均匀的由紫外线灯向被处理物流动的气流所覆盖，其结果成为白粉原因的药品，化学反应生成物就到达不了紫外线灯处。所以便可抑制灯箱的窗材料，紫外线灯被白粉附着。本专利技术中的第2项专利技术是第1项专利技术中所述的紫外线洗涤装置，紫外线灯固定在灯箱内，灯箱的外壳一侧对被处理物开放，灯箱内具备有气体扩散板且设置在紫外线灯的上面。本说明书所述的上面是指被处理物朝着紫外线灯的方向。根据第2项专利技术所述，扩散板设置在紫外线灯的上面，所以扩散板可以离开被处理物。其结果，惰性气体能更均匀地喷射到被处理物上。由于惰性气体的喷射从而抑制了被处理物周边的氧气被吹散。同时，由于扩散板设置在紫外线灯上面，紫外线灯对被处理物的照射也不因扩散板而被阻碍。附图说明第1图是本实施形态的洗涤线的正面图。第2图是本实施形态的紫外线洗涤装置的斜视图。第3图是沿第2图中III-III部分的剖视图。第4图是沿第2图中IV-IV线部分的剖视图。第5图是大气和氮气中紫外线的衰减曲线。第6图是本实施形态中说明紫外线洗涤装置紫外线强度的概略剖视图。第7图是表示方柱形和圆柱形紫外线灯照射状况的概略剖视图。第8图是本实施形态中表示洗涤装置洗涤清洁度的曲线。第9图是说明方柱形和圆柱形紫外线灯之间氮气流动的概略剖视图。第10图是表示本实施形态的洗涤装置与以前的装置所需紫外线灯的数量曲线。第11图是表示本专利技术和以前的紫外线洗涤装置的概略剖视图。具体实施例方式本专利技术的紫外线洗涤装置是洗涤液晶显示屏玻璃基板(即本专利技术中的被处理物)的基板洗涤装置10本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种紫外线洗涤装置，对输送来的被处理物照射来自紫外线灯的紫外线，以洗涤上述被处理物，其特征是：具备气体供给通道，以使气体通过气体扩散板后喷射到上述被处理物的紫外线照射面上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2003-12-26 435401/20031.一种紫外线洗涤装置，对输送来的被处理物照射来自紫外线灯的紫外线，以洗涤上述被处理物，其特征是具备气体供给通道，以使气体通过气体扩散板后喷射到上述被处理物的紫外线照射面上。2.如权利要求1记载的紫外线洗涤装置，上述紫外线灯固定在灯箱内，上述灯箱是上述被处理物一侧开放的开放型灯箱，上述灯箱具备上述气体扩散板，而且上述气体扩散板设置在上述紫外线灯的上侧。3.如权利要求1或2记载的紫外线洗涤装置，上述气体扩散板具有许多小孔，且上述气体通过小孔后喷...

【专利技术属性】
技术研发人员：细谷浩二，坂元弘实，
申请(专利权)人：株式会社杰士汤浅，
类型：发明
国别省市：JP[日本]