【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及曝光装置，尤其涉及曝光装置的焦点检测。
技术介绍
1、在曝光装置中，为了形成高分辨率的图案，使所要曝光的基板表面与投影光学系统的成像面一致，因此进行焦点检测和焦点调整(校准)。作为焦点检测和焦点调整的方法，已知有如下方法：一边使基板位置在光轴方向上阶段性地移位，一边将焦点检测用图案投影于基板，向具有光电传感器、ccd等的焦点检测装置投影焦点检测用图案，进行焦点检测和焦点调整。
2、例如，在使用了光调制元件阵列的无掩模曝光装置中，一边使聚焦透镜在光轴方向上移动，一边将具有接近投影光学系统的分辨率极限的周期的l/s(线&空间)图案的光投影于ccd等光传感器。然后，通过图像处理来计算对比度相关值，并将峰值检测位置定为对焦位置(参照专利文献1)。
3、另一方面，在掩模曝光装置中，已知有将缝形成板搭载于晶片工作台，一边进行扫描一边进行焦点检测的方法(参照专利文献2)。在此，一边使缝形成板在扫描方向上移动一边投影焦点检测用图案的光，取得焦点检测用图案光的强度信号(空间像轮廓)。然后，一边使缝板在光轴方向上阶段性地移动一边比较各位置的空间像轮廓，将缝透射光强度最大的位置判断为对焦位置。
4、专利文献1：日本特开2009-246165号公报
5、专利文献2：国际公开第2005/124834号公报
6、在上述的焦点检测方法中，一边使工作台的位置或图案光的成像位置在光轴方向上移动一边进行焦点检测，因此难以进行准确的焦点位置检测，需要测量时间。
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1、因此，在曝光装置中，期求能够维持焦点检测精度并且迅速地进行焦点检测。
2、本专利技术的曝光装置能够构成为例如具有dmd(digital micro-mirror device：数字微镜器件)等光调制元件阵列的曝光装置，具有：曝光部，其具有投影光学系统，投影图案光；以及测定部，其测定所述曝光部的成像位置。而且，所述测定部具有：遮光部，形成有多个透光部，该多个透光部的沿着所述投影光学系统的光轴方向的位置互不相同；以及受光部，接收透过各透光部的光，根据从所述受光部输出的与光量对应的信号而取得所述曝光部的成像位置。例如，也可以设置运算部，计算成像位置，也可以说是检测成像位置。曝光装置能够根据所取得的所述曝光部的成像位置而进行所述曝光部的焦点调整。
3、向透光部投影的方法各种各样，可以构成为使所述遮光部相对于所述曝光部进行相对移动。可以设置能够使遮光部相对于所述曝光部连续地相对移动的移动部，根据在使遮光部相对移动的期间从所述曝光部投影的图案光而取得所述曝光部的成像位置。例如，通过将测定部安装于基板搭载用工作台或一体地构成于基板搭载用工作台而能够相对于投影光学系统沿着扫描方向进行相对移动。
4、在具有光调制元件阵列的曝光装置的情况下，可以是，曝光部将在使所述遮光部相对移动的期间在所述光调制元件阵列的同一调制区域被反射的光作为所述图案光来投影。
5、另一方面，可以采用不使遮光部相对于曝光部移动的结构。例如，在具有光调制元件阵列的曝光装置的情况下，可以通过由曝光部将从在所述光调制元件阵列中滚动的调制区域被反射的光作为所述图案光来投影的结构而取得成像位置。
6、关于遮光部，只要在能够输出如下的光量信号的范围内形成多个透光部即可，该光量信号能够根据透光部沿着彼此的光轴方向的位置的差异而检测成像位置。多个透光部的光轴方向位置可以形成为沿着所述图案光的相对移动方向阶段性地变高或低。例如，可以采用如下结构：遮光部具有形成有所述多个透光部的遮光面，所述遮光面相对于沿着所述投影光学系统的光轴垂直方向的面倾斜。
7、包括多个透光部的形状在内的结构也是各种各样的，例如，多个透光部可以由在与所述图案光的相对移动方向垂直的方向上延伸的多个缝构成，图案光可以采用在所述遮光部上与所述多个缝平行的线状的图案。
8、在作为本专利技术的另一方式的曝光装置的焦点检测方法中，将形成为排列有多个透光部的遮光面配置为相对于沿着投影光学系统的光轴垂直方向的面倾斜规定的角度，将接收透过各透光部的光的受光部配置在所述遮光面之下，相对于所述多个透光部，使图案光沿着所述多个透光部的排列方向相对于所述投影光学系统相对移动，根据从所述受光部输出的与光量对应的信号而取得图案光的成像位置。
9、根据本专利技术，在曝光装置中，能够维持焦点检测精度并且迅速地进行焦点检测。
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1.一种曝光装置，其特征在于，
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
6.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
7.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，
9.根据权利要求1至8中的任意一项所述的曝光装置，其特征在于，
10.一种曝光装置的焦点检测方法，其特征在于，
【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，其特征在于，
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
6.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员：长谷川祐哉，
申请(专利权)人：株式会社ORC制作所，
类型：发明
国别省市：
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